プラズマ処理の基礎・薄膜堆積と半導体ドライエッチング技術入門《プラズマの基礎から、プラズマCVD/エッチングまで》【提携セミナー】

プラズマ処理の基礎・薄膜堆積と半導体ドライエッチング技術入門《プラズマの基礎から、プラズマCVD/エッチングまで》【提携セミナー】

このセミナーは終了しました。次回の開催は未定です。

開催日時 2022/4/22(金)13:00~16:30
担当講師

市川 幸美 氏

開催場所

Live配信セミナー(会社・自宅にいながら受講可能)

定員 -
受講費 通常申込:49,500円
E-Mail案内登録価格: 46,970円

プラズマ処理の基礎・薄膜堆積と

半導体ドライエッチング技術入門

 

~プラズマの基礎から、プラズマCVD/エッチングまで~

 

 

■半導体プロセスに用いられる非平衡プラズマの基礎■
■プラズマCVD ■ドライエッチングの原理、装置構造、処理条件の最適化■

 

【提携セミナー】

主催:サイエンス&テクノロジー株式会社

 


 

★ 薄膜堆積やドライエッチングなどの半導体プロセスに用いられる非平衡プラズマの基礎を学び、
プラズマCVDやドライエッチングの原理、装置構造、処理条件の最適化法について解説いたします。

 

セミナー趣旨

プラズマという言葉は一般化し、現在では産業の広い分野で日常的に使われている。しかし、プラズマを道具として利用するためには、その物理的な考え方、解析の方法を理解することが重要である。
本講演では、まず薄膜堆積やドライエッチングなどの半導体プロセスに用いられる非平衡プラズマの基礎を学ぶことでその特徴を理解する。後半ではそれらを踏まえて、プラズマCVDやドライエッチングの原理、装置構造、処理条件の最適化法などについて説明する。

 

<得られる知識・技術>
非平衡プラズマの特徴と基礎、プラズマCVDの原理とアモルファスSi製膜の膜質制御の考え方、ドライエッチングの原理と種々のエッチング技術など

 

担当講師

東京都市大学総合研究所 客員教授 市川 幸美 氏

 

【主な経歴・研究内容・専門・活動など】
1980年 武蔵工業大学大学院博士課程修了(工学博士)
1980年 カナダYork Univ.実験宇宙科学研究センター & McMaster Univ.物理工学科Postdoctral Fellow
1982年 アメリカWright State Univ. Brehm Res. Lab.研究員
1983年 富士電機入社。 総合研究所にてアモルファスSi太陽電池の研究開発
2000年 半導体事業部にてパワー半導体デバイスのプロセス開発
2007年 富士電機アドバンストテクノロジー(株)取締役、兼)電子デバイス技術センター長としてワイドギャップ半導体デバイス(SiC,GaN)、太陽電池、グラフェン等の研究開発を統括
2013年 文科省)革新的エネルギー研究開発拠点形成事業(Future-PV Innovation)にて研究統括補佐としてナノワイヤー太陽電池の研究開発
2017年 東京都市大学総合研究所客員教授

 

セミナープログラム(予定)

<プログラム>
1.プラズマの基礎
1.1 プラズマ中の衝突現象とその定量的な取り扱い
1.2 衝突反応の種類と反応速度定数の考え方
1.3 Boltzmann方程式
1.4 Boltzmann方程式から得られるプラズマの基礎方程式(拡散方程式、連続の式など)
1.5 プラズマの生成(直流放電プラズマ)
1.6 プラズマの生成(容量性結合RF放電プラズマ)
1.7 プラズマの生成(誘導性結合RF放電プラズマ)
1.8 プラズマの生成(大気圧低温プラズマ)

 

2.プラズマCVD
2.1 プラズマCVDの特徴と原理(アモルファスSi薄膜を中心に)
2.2 代表的なプラズマCVD装置
2.3 製膜パラメータの考え方
2.4 アモルファスSi堆積条件と高品質化

 

3.プラズマエッチング
3.1 プラズマエッチングの特徴と原理(等方性、異方性)
3.2 代表的なエッチング装置
3.3 エッチングダメージ
3.4 終点検出の原理

 

□質疑応答□

 

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2022/4/22(金)13:00~16:30

 

開催場所

Live配信セミナー(会社・自宅にいながら受講可能)

 

受講料

一般受講:本体45,000円+税4,500円
E-Mail案内登録価格:本体42,700円+税4,270円

 

E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料
2名で49,500円 (2名ともE-mail案内登録必須/1名あたり定価半額24,750円)

 

※テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【Live配信/WEBセミナー受講限定】
1名申込みの場合:受講料( 定価:39,600円/E-mail案内登録価格 37,620円 )

定価:本体36,000円+税3,600円
E-mail案内登録価格:本体34,200円+税3,420円
※1名様でLive配信/WEBセミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
※※お申込みフォームのメッセージ欄に【テレワーク応援キャンペーン希望】とご記載ください。
※他の割引は併用できません。

 

【S&T会員登録】と【E-Mail案内登録】の詳細についてはこちらをご参照ください。

※E-Mail案内登録をご希望の方は、申込みフォームのメッセージ本文欄に「E-Mail案内登録希望」と記載してください。ご登録いただくと、今回のお申込みからE-mail案内登録価格が適用されます。

 

配布資料

製本テキスト(開催前日着までを目安に発送)
※「プラズマ半導体プロセス工学(内田老鶴圃 発行)」も同封いたします。
※セミナー資料は開催日の4~5日前に、お申込み時のご住所へ発送いたします。
※間近でのお申込みの場合、セミナー資料の到着が開催日に間に合わないことがございます。

 

オンライン配信のご案内

※【Live配信(zoom使用)対応セミナー】についてはこちらをご参照ください

 

備考

※資料付
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

 

お申し込み方法

★下のセミナー参加申込ボタンより、必要事項をご記入の上お申し込みください。

 

おすすめのセミナー情報

技術セミナー検索


製造業向け技術者教育Eラーニングの講座一覧

 

技術系新入社員研修・新入社員教育サポート

 

在宅勤務対応型のオンライン研修

 

技術者教育の無料相談受付中

スモールステップ・スパイラル型の技術者教育プログラム

資料ダウンロード

講師紹介

技術の超キホン

そうだったのか技術者用語

機械設計マスター

技術者べからず集

工場運営A to Z

生産技術のツボ

技術者のための法律講座

機械製図道場

製造業関連 展示会・イベント情報

公式Facebookページ

スぺシャルコンテンツ
Special Contents

導入・活用事例

テキスト/教材の制作・販売