スパッタ・真空蒸着と膜質改善技術の徹底解説【提携セミナー】

真空

スパッタ・真空蒸着と膜質改善技術の徹底解説【提携セミナー】

このセミナーは終了しました。次回の開催は未定です。

開催日時 2021/6/30(水)10:00~16:00
担当講師

岩村 栄治 氏

開催場所

【Zoomを使ったLIVE配信セミナー】

定員 -
受講費 非会員: 55,000円 (本体価格:50,000円)
会員: 44,000円 (本体価格:40,000円)

スパッタ・真空蒸着と

膜質改善技術の徹底解説

 

《膜質制御法。膜応力低減法・密着力向上法について詳解!》

 

【提携セミナー】

主催:株式会社R&D支援センター

 


 

◆セミナー趣旨

本講演では、スパッタや真空蒸着によって薄膜を作成しようとする場合に頻繁に問題となる膜質制御や剥離対策にテーマに絞り、その基本となる考え方から現象の詳細、評価方法と材料設計への活かし方、対策に至るまでを具体的な成膜や特性改善事例をまじえながらわかりやすく解説します。主に無機・金属薄膜を取り上げますが、最新の話題を含めてできるだけ幅広い成膜技術を紹介します。特に、現在成膜に関する問題を抱えられている方、これから成膜技術をより深く理解して製品開発に取り組まれようとされる方、成膜品の品質検査や管理に関わる方にご参考になるような話題を提供したいと思います。

 

◆習得できる知識

成膜と薄膜形成の基礎知識
膜質制御・剥離対策に必要な基礎知識
膜応力や密着力の評価方法と管理の基礎知識

 

◆キーワード

スパッタリング,薄膜,応力,密着力,均一,均質,評価,セミナー

 

 

担当講師

ペルノックス(株)【荒川化学工業(株)】 開発統括部
開発センター長  工学博士 岩村 栄治 氏

 

セミナープログラム(予定)

 

1.成膜プロセスと薄膜形成現象を理解したい
1-1.成膜方法により生じる膜質変化の具体例
1-2.スパッタと真空蒸着の違い
1-3.成膜装置と真空をあつかうための必要最小限の基礎知識
1-4.薄膜の初期構造や微視的組織はどのように形成されるのか
1-5.成膜パラメータの制御やプロセスの最適化で注意したいポイント

 

2.膜の均一性・均質性を制御したい
2-1.膜質を効果的に制御する具体例
2-2.プラズマとは
2-3.プラズマ状態を知ることによる効果
2-4.プラズマの状態を知る方法
・プラズマ特性と電子エネルギー分布関数の評価
・a-C膜にみるプラズマパラメータと微細構造との関係
・膜質の不均一性:プラズマの影響
・イオン・高エネルギー照射現象と膜質の改善
・イオン照射と残留応力の関係:Davisモデル
・段差被覆性の改善

 

3.膜応力を低減したい
3-1.膜応力が原因となった不具合とその対策の具体例
3-2.応力発生メカニズムと応力制御のための基礎知識
3-3.多層膜やパターニングされた薄膜の応力で注意する点
3-4.膜応力低減の各種手法とその考え方
3-5.膜応力の評価手法のポイント:X線回折法・ラマン分光法・基板曲率法

 

4.密着力を良くしたい
4-1.薄膜の密着力問題に対処する具体例
4-2.基板と薄膜の界面をしっかり観察する
4-3.剥離を起こしている材料的要因を簡単に絞り込む方法
4-4.密着性改善の考え方
4-5.密着性改善のための具体的な対策
4-6.スクラッチ試験による密着力測定と材料設計への活かし方

 

5.まとめ

 

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2021年06月30日(水) 10:00~16:00

 

開催場所

【WEB限定セミナー】※在宅、会社にいながらセミナーを受けられます

 

受講料

非会員: 55,000円 (本体価格:50,000円)
会員: 44,000円 (本体価格:40,000円)
学生: 55,000円 (本体価格:50,000円)

 

※会員(案内)登録していただいた場合、通常1名様申込で55,000円(税込)から
・1名で申込の場合、44,000円(税込)へ割引になります。
・2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計55,000円(2人目無料)です。

 

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LIVE配信のご案内

こちらをご参照ください

 

備考

・本セミナーは「Zoom」を使ったWEB配信セミナーとなります。

・セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。

 

お申し込み方法

★下のセミナー参加申込ボタンより、必要事項をご記入の上お申し込みください。

 

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