★スパッタリング率の測定法は？
★圧力と薄膜の構造の関連性は？
★薄膜作成時の基板温度上昇の制御法とは？
★真空装置内のアウトガスを低減するには？
★ターゲットの作り方，選び方，使い方は？
★プラズマ電源使用時の動作不安定の理由とは？

『スパッタリング』の基本と考え方 ，

膜の作り方 ， その応用

【提携セミナー】

主催：株式会社技術情報協会

講座内容

スパッタ技術は，再現性が良く大面積にも均一性があり，低温においても密着性良く成膜出来る重要な技術であり，フィルム基板，プラスチック基板など多くの製品に使われている。そのため，生産現場における利用も増加し，コストダウン，密着性の向上，自動化の推進等様々なニーズや課題が生じている。スパッタの原理を確認し，さらに最新のカソード技術を紹介しながら，現場の品質向上についても解説する。

習得できる知識

• スパッタの原理から最新のカソード技術にわたる知識
• コストダウン，密着性の向上，自動化などの現場の品質向上

担当講師

(有)アーステック 代表取締役 博士(工学) 　小島 啓安 氏　 【名古屋大学 客員教授】

セミナープログラム（予定）

１．スパッタリングの理解とノウハウ

1.1 スパッタリング現象とは

1.2 蒸着膜との違い

1.3 スパッタリング率

1.4 平均自由行程とは

1.5 圧力と薄膜の構造の関係

1.6 入射エネルギーと測定法

1.7 スパッタ膜のダメージと低ダメージのポイント

２．スパッタでの重要な要素技術

2.1 DC，RF，パルス電源の原理,違い

2.2 パルス電源のメリット

2.3 各種マグネトロン方式による膜質改善

2.4 各種カソードの特徴と使う時の注意点

2.5 ロータリーカソードの長所，短所

2.7 化合物膜の作製法

2.8 ターゲットの利用効率を上げるポイント

2.9 ターゲットを長時間使う際の注意点

３．反応性スパッタ

3.1 反応性スパッタのメリット

3.2 ヒステリシス現象とは？

3.3 インピーダンス制御

3.4 遷移領域を使った高速成膜

3.5 成膜速度を上げる方法，種類

3.6 アーキングを減らすには？

3.7アノード消失とは？

3.8 大面積での膜厚均一化と評価

3.9プラスチックフィルム基板などの低温成膜

４．最近話題の用途

4.1 透明導電膜(タッチパネル，次世代ディスプレイなど)

4.2 光学薄膜(低温製膜，ハイバリア膜，光学レンズなど)

4.3 省エネ用膜(太陽光パネルなど)

4.4 装飾膜(金属色調フィルムなど)

５．技術トピックス

5.1 HIPIMS技術（高電力スパッタ技術）

5.2 シミュレーション技術 5.3 ガスフロースパッタ

６．各種トラブルシューティング対策
　膜剥がれ，密着性改善など

【質疑応答】

※受講者の皆様の抱える疑問点や問題点について，セミナー開催3日前
までに 「事前リクエスト用紙」 （請求書に同封）や 「Eメール」 を御寄せ
頂けましたら，講演中に対応させて頂きます。

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2024/06/06（木）10:30~16:30

開催場所

Zoomによるオンライン受講

受講料

1名につき55,000円(消費税込･資料付き)
〔1社2名以上同時申込の場合1名につき49,500円(税込)〕

技術情報協会主催セミナー　受講にあたってのご案内

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資料は事前に紙で郵送いたします。

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