薄膜作製の基礎【提携セミナー】
| 開催日時 | 【Live配信】2026/7/14（火） 10:30~16:30 , 【アーカイブ（録画）配信】 2026/7/24まで受付（視聴期間：7/24~8/3まで） |
|---|---|
| 担当講師 | 佐藤 英樹 氏 |
| 開催場所 | Zoomを利用したLive配信 または アーカイブ配信 |
| 定員 | 30名 |
| 受講費 | 55,000円（消費税込、資料付） |
★ 絶縁性、反射・透過、耐久性など所望の薄膜物性を得るための成膜条件の考え方
薄膜作製の基礎
《基礎知識から，装置例，成膜の実際，薄膜の評価，トラブル対策まで》
【提携セミナー】
主催：株式会社技術情報協会
講座内容
【講座概要】
薄膜技術は、先端材料研究をはじめ、電子デバイス、太陽電池、建材、食品産業と、さまざまな産業分野を支える基幹技術です。現在では多機能で高性能な成膜装置が市販されており、かつてと比べて容易に薄膜形成が行えるようになりました。しかしながら、適切な薄膜形成のためには、薄膜技術に関する知識が必要なのは今も昔も変わりません。新規の条件で成膜を行う場合、所望の薄膜を得るためには各種成膜条件が膜質におよぼす影響を考慮しつつ、条件を選択する必要があります。そのようなときに必要になるのが、成膜技術に関する基本的かつ系統的な知識です。
本講座では、成膜技術に携わる方々を対象に、これらの技術に関する基礎的かつ系統的な知識を習得し、実際の業務に生かして頂くことを目標とします。
習得できる知識
- 成膜プロセス設計に必要な基礎知識
- 成膜プロセスで発生したトラブル対応に必要な基礎知識
担当講師
三重大学 大学院工学研究科 電気電子工学専攻 教授 博士（工学） 佐藤 英樹 氏
【略歴】
1996年～2000年 アネルバ (株) (現 キヤノンアネルバ) 半導体装置事業部 技術担当
2000年～2007年 三重大学 大学院工学研究科 電気電子工学専攻 助手
2002年～2003年 米国ノースカロライナ大学チャペルヒル校 客員研究員
2008年～2022年 三重大学 大学院工学研究科 電気電子工学専攻 准教授
2023年～ 三重大学 大学院工学研究科 電気電子工学専攻 教授
セミナープログラム（予定）
１．成膜技術ための基礎知識
1.1 真空工学
1.2 表面物性工学
1.3 プラズマ工学
２．物理気相成長 (PVD) 法
2.1 真空蒸着法
2.1.1 原理
2.1.2 真空蒸着法の種類
2.1.3 真空蒸着法の留意事項
2.2 スパッタ法
2.2.1 原理
2.2.2 スパッタ法の種類
2.2.3 スパッタ法で作製される薄膜の特長
2.2.4 スパッタ法の留意事項
３．化学気相成長 (CVD) 法
3.1 原理
3.2 化学気相成長法の種類
3.3 化学気相成長法による成膜例
3.4 化学気相成長法の留意事項
４．薄膜評価法
4.1 形態観察
4.2 膜組成、膜構造分析
4.3 付着力、膜応力測定
4.4 電気的特性、光学的特性測定
５．成膜プロセスで遭遇するさまざまなトラブルと対策
公開セミナーの次回開催予定
開催日
【Live配信】2026/7/14（火） 10:30~16:30
【アーカイブ（録画）配信】 2026/7/24まで受付（視聴期間：7/24~8/3まで）
開催場所
Zoomを利用したLive配信 または アーカイブ配信
受講料
1名につき55,000円(消費税込･資料付き)
〔1社2名以上同時申込の場合1名につき49,500円(税込)〕
備考
資料は事前に紙で郵送いたします。
お申し込み方法
★下のセミナー参加申込ボタンより、必要事項をご記入の上お申し込みください。
★【LIVE配信】、【アーカイブ配信】のどちらかご希望される受講形態をメッセージ欄に明記してください。
※お申込後はキャンセルできませんのでご注意ください。
※申し込み人数が開催人数に満たない場合など、状況により中止させていただくことがございます。
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