半導体製造工程の基礎知識②[イオン注入~エッチング編](eラーニング)

エッチング装置

半導体製造工程の基礎知識②[イオン注入~エッチング編](eラーニング)

本講座の狙い

半導体関連企業に所属される方、半導体関連ビジネスに関わる方に、半導体製造プロセスの基礎知識を学んで頂くための講座です。3部作の②では前工程のうち、イオン注入、熱処理、リソグラフィー、エッチングを説明します。

「半導体製造工程の基礎知識②[イオン注入~エッチング編]」の講座概要

半導体プロセスを理解しようとすると、そもそも物質としての半導体とは何かから始まって、どんな機能を持った物を作るのか、どんな工場で作るのかなど、幅広い情報が必要になります。

 

そこで、「半導体製造工程の基礎知識」と題したこの講座では、全体を3部にわけて、プロセスで使われる装置に注目して説明していきます。

 

3部作の2作目となる本講座では、最初に半導体製造工程の基礎知識①[半導体の基礎と洗浄・乾燥編]で説明した、半導体プロセスの概要を再掲し、ここまでの知識を振り返ることもできます。プロセスの解説としては、前工程の中でも特にイオン注入、熱処理、リソグラフィー、エッチングを中心に取り上げます。プロセスフロー全体を意識しながら学習していただければ幸いです。

 

本講座の狙い

この講座を受講することで、以下の点を学ぶことができます。

 

  • 半導体業界に属する会社に入社された皆さんや、半導体関連ビジネスに関わる方に、半導体の製造方法(半導体プロセス)の基礎知識を得て頂くこと

 

想定受講者

  • 半導体業界、またはそれにまつわる業界への新卒採用者、他業界からの中途採用者
  • 半導体製造にかかわる専門教育を受けたことがない、半導体業界に関わる間接部門担当者、半導体ビジネスにこれから関わる営業担当者
  •  Tech e-L 半導体業界の基礎知識 の受講と同程度の知識を持った方

 

 

半導体製造工程の基礎知識②[イオン注入~エッチング編](イオン注入装置の仕組み)
半導体製造工程の基礎知識②[イオン注入~エッチング編](露光装置))
半導体製造工程の基礎知識②[イオン注入~エッチング編](エッチング装置の分類)

「半導体製造工程の基礎知識②[イオン注入~エッチング編]」の主な項目

半導体プロセス

  • 前工程の概要と流れ
  • 後工程の概要と流れ

 

イオン注入装置

  • イオン注入装置とは
  • イオン注入装置の仕組み
  • イオン注入装置の構成要素
  • イオン注入装置の種類

 

熱処理装置

  • 熱処理の目的
  • ドーピングと熱処理
  • バッチ式の熱処理装置
  • 枚葉式の熱処理装置(RTA装置)
  • シリサイド形成と熱処理

 

リソグラフィー

  • リソグラフィ工程
  • リソグラフィ装置
  • 露光装置
  • 露光装置の種類
  • 微細化の進展
  • 合わせ制度とミックス・アンド・マッチ
  • コータ
  • ディベロッパ
  • イエロールーム
  • アッシャー

 

エッチング

  • エッチングとは
  • ウェットエッチング、ドライエッチング
  • 等方性エッチングと異方性エッチング
  • ドライエッチングのメカニズム
  • 異方性エッチングのメカニズム
  • エッチング装置の構成
  • エッチング装置の分類

 

 

半導体製造工程の基礎知識③[成膜~後工程編]の講座内容はこちらをご参照ください。

 

 

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