半導体製造工程の基礎知識①[半導体の基礎と洗浄・乾燥編](eラーニング)

クリーンルームとミニエンバイロメント

半導体製造工程の基礎知識①[半導体の基礎と洗浄・乾燥編](eラーニング)

本講座の狙い

半導体関連企業や、半導体関連ビジネスに関わる方に、半導体の製造方法(半導体プロセス)の基礎知識を得て頂くための講座です。3部作の①は半導体プロセスを学ぶ上での前提知識と、洗浄・乾燥プロセスを解説しています。

「半導体製造工程の基礎知識①[半導体の基礎と洗浄・乾燥編]」の講座概要

半導体プロセスを理解しようとすると、そもそも物質としての半導体とは何かから始まって、どんな機能を持った物を作るのか、どんな工場で作るのかなど、幅広い情報が必要になります。

 

そこで、「半導体製造工程の基礎知識」と題したこの講座では、全体を3部にわけて、プロセスで使われる装置に注目して説明していきます。

 

3部作の1作目となる本講座の特に前半部分では、半導体プロセスを学ぶ上での前提知識を紹介しており、今後 半導体製造工程の基礎知識②[イオン注入~エッチング編]半導体製造工程の基礎知識③[成膜~後工程編]をご受講いただく際にも必要となる共通事柄が説明されていますので、注意深く学習していただければ幸いです。製造工程については、洗浄・乾燥のプロセスを解説しています。

 

本講座の狙い

この講座を受講することで、以下の点を学ぶことができます。

 

  • 半導体業界に属する会社に入社された皆さんや、半導体関連ビジネスに関わる方に、半導体の製造方法(半導体プロセス)の基礎知識を得て頂くこと

 

想定受講者

  • 半導体業界、またはそれにまつわる業界への新卒採用者、他業界からの中途採用者
  • 半導体製造にかかわる専門教育を受けたことがない、半導体業界に関わる間接部門担当者、半導体ビジネスにこれから関わる営業担当者
  •  Tech e-L 半導体業界の基礎知識 の受講と同程度の知識を持った方

 

 

半導体製造工程の基礎知識①[半導体の基礎と洗浄・乾燥編](多層配線層)
半導体製造工程の基礎知識①[半導体の基礎と洗浄・乾燥編](半導体プロセス))
半導体製造工程の基礎知識①[半導体の基礎と洗浄・乾燥編](バッチ式洗浄装置)

「半導体製造工程の基礎知識①[半導体の基礎と洗浄・乾燥編]」の主な項目

半導体とは

  •  半導体物質
  • 半導体デバイス

 

集積回路(CMOS)の基本構造

  • CMOS構造
  • シリコンウェハ(ベース基板)
  • トランジスタ層
  • 多層配線層

 

半導体プロセス

  • 前工程の概要と流れ
  • 後工程の概要と流れ

 

半導体工場の設備

  • クリーンルーム
  • ミニエンバイロメント
  • クリーンルームとミニエンバイロメント
  • 工場レイアウトとウェハ搬送
  • ファシリティー
  • 半導体製造における生産管理

 

半導体プロセスで使われる材料

  • シリコンウェハ
  • ウェハ以外の必要資材・消耗品

 

洗浄装置

  • 半導体製造装置に求められる性能
  • 洗浄装置とは?
  • 洗浄の対象物
  • 洗浄装置の基本的な構成
  • RCA洗浄
  • 洗浄装置の2つのタイプ
  • バッチ式洗浄装置
  • 枚葉式洗浄装置
  • バッチ式か枚葉式か?

 

乾燥装置

  • 半導体乾燥技術の重要性
  • スピンドライヤー
  • 有機溶剤を使う方法
  • その他の乾燥方法

 

半導体製造工程の基礎知識②[イオン注入~エッチング編]の講座内容はこちらをご参照ください。

 

 

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