ウェットエッチングの基礎と形状コントロール

及びトラブル対策とノウハウ

セミナー修了後、受講者のみご覧いただける1週間限定のアーカイブ配信をいたします。

【提携セミナー】

主催：株式会社R&D支援センター

ウェットエッチングは工業的にも歴史が古く、かつ、高周波プリント基板やLSIおよび液晶デバイスなどの様々な先端分野で主力の加工技術となっています。また、ウェットエッチングは、量産性やコスト性および設備の簡易さに優れており、かつ、エッチングと同時にウェット洗浄も行えるという特長を有しています。近年では、ウェットエッチングによるアンダーカット形状の高精度化が求められています。本セミナーでは、ウェットエッチングの基礎メカニズムに重点を置きながら、エッチングの高精度化、トラブル対策についても解説します。表面エネルギー解析や応力歪み解析による界面設計についても解説します。日頃の技術開発やトラブル相談にも個別に応じます。

◆　習得できる知識

• ウェットエッチングの基礎メカニズム
• コントロール要因
• 形状制御技術

◆　受講対象・レベル

ウェットエッチング業務に携わる方、電子デバイス、プリント基板、薬剤、装置関連企業の技術者

◆必要な予備知識

• 化学・物理の基礎知識

◆　キーワード

ウェット,エッチング,,プリント基板,半導体,オンライン,WEBセミナー

担当講師

長岡技術科学大学大学院　電気電子情報工学専攻
電子デバイス・フォトニクス工学講座　教授　博士(工学)　河合 晃　氏

セミナープログラム（予定）

１．ウェットエッチングの基礎
1-1　加工技術としての位置づけ（設計値とシフト量）
1-2　基本プロセスフロー（前処理、表面洗浄、エッチング液、マスク除去、洗浄）
1-3　プロセス支配要因（濡れ、律速、反応速度、エッチング機構）
1-4　等方性エッチング（アンダーカット）
1-5　結晶異方性エッチング（結晶方位依存性）
1-6　処理装置（液循環、ディップ、シャワー、スピンエッチ、フィルタリング）

２．アンダーカット形状コントロール
2-1　支配要因（界面濡れ性、応力集中、液循環、マスク耐性）
2-2　形状コントロール（エッチングラインの高精度化）
2-3　高精度形状計測（断面SEM、定在波法、光干渉法、X線CT）

３．トラブル要因と解決方法（最短の解決のために）
3-1　マスクパターンの剥離（付着エネルギーWa　拡張エネルギーS、円モデル）
3-2　エッチング液の濡れ不良（ピンニング不良）
3-3　エッチング開始点の遅れ（コンタクトラインのVF変形）
3-4　ホールパターンの気泡詰まり（界面活性剤）
3-5　エッチング表面の荒れ（気泡、異物）
3-6　金属汚染（RCA洗浄）
3-7　再付着防止（DLVO理論、ゼータ電位）
3-8　乾燥痕（ﾏﾗﾝｺﾞﾆｰ対流、IPA蒸気乾燥）

４．質疑応答
（日頃の技術開発およびトラブル相談に個別に応じます）

参考資料
・表面エネルギーによる濡れ・付着性解析（測定方法）

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2023年06月22日（木） 13:00～16:30

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

受講料

非会員：  49,500円 （本体価格：45,000円）
会員：  46,200円 （本体価格：42,000円）

会員（案内）登録していただいた場合、通常1名様申込で49,500円（税込）から
★1名で申込の場合、46,200円（税込）へ割引になります。
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備考

• 資料付【PDFを配布します】

• セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。
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