薄膜作製の基礎とトラブル対策《スパッタ、真空蒸着、CVD》【提携セミナー】

真空技術

薄膜作製の基礎とトラブル対策《スパッタ、真空蒸着、CVD》【提携セミナー】

このセミナーは終了しました。次回の開催は未定です。

開催日時 2021/8/18(水) 10:30~16:30
担当講師

佐藤 英樹 氏

開催場所

【ZOOMを使ったLIVE配信セミナー】

定員 -
受講費 非会員: 49,500円 (本体価格:45,000円)
会員: 33,000円 (本体価格:30,000円)
☆真空蒸着法、スパッタ法、CVD法などの成膜技術について、
基礎から実務への活用法をわかりやすく解説します

また、薄膜評価法や成膜プロセスで遭遇するトラブル例と対処法についても解説します

 

薄膜作製の基礎とトラブル対策

~スパッタ、真空蒸着、CVD~

 

【提携セミナー】

主催:株式会社R&D支援センター

 


 

◆セミナー趣旨

スパッタ法や真空蒸着法、化学気相成長(CVD)法は、先端材料研究をはじめ、電子デバイス,太陽電池,建材、さらには食品産業まで、さまざまな分野で使用されており、今や我々の生活と切っても切り離せない技術になっています。エレクトロニクスや真空技術の進歩により、現在では高性能な成膜装置が市販されていますが、これらを使いこなすには適切な知識が必要です。たとえば、新たな条件で成膜を行おうとすると、所望の薄膜を得るために条件出しを行わなければなりません。また、成膜プロセスでトラブルが発生すると、その対処に頭を悩ませることになります。そのようなときに必要になるのが、成膜技術に関する基本的かつ系統的な知識です。
本講座では、真空蒸着法やスパッタ法、CVD法などを用いた成膜技術に携わる方々を対象に、これらの技術に関する基礎的かつ系統的な知識を習得し、実際の業務に生かして頂くことを目標とします。

 

◆習得できる知識

・成膜プロセス設計に必要な基礎知識
・成膜プロセスで発生したトラブル対応に必要な基礎知識

 

◆受講対象

・薄膜作製に関連する研究・開発・製造業務にたずさわって2~3年の若手技術者や新人の方
・薄膜作製に関してある程度の経験はあるが、自分の知識を系統的に整理したい方

 

◆必要な前提知識

高等学校程度の物理、化学および数学の知識。できるだけ初学者の方でも理解できるよう、数式等の使用は最小限にして解説します

 

◆キーワード

薄膜,成膜,蒸着,スパッタ,CVD,評価,セミナー,研修,講習

 

 

担当講師

三重大学 大学院工学研究科 電気電子工学専攻 准教授 博士(工学)

佐藤 英樹 氏

 

【ご専門】
薄膜・表面物性工学、ナノ材料工学

【ご略歴】
1996〜2000 アネルバ(株)(現 キヤノンアネルバ) 半導体装置事業部 技術担当
上記期間中、量産用スパッタリング装置、プラズマCVD装置およびMOCVD装置の開発業務に従事
2000〜2007 三重大学 大学院工学研究科 電気電子工学専攻 助手
2007〜現在 同 准教授
2002〜2003 米国ノースカロライナ大学チャペルヒル校 客員研究員
上記期間中、各種成膜法を使用したナノカーボン材料の合成およびその応用に関する研究に従事

【ご所属学会】
応用物理学会、日本真空学会、日本表面科学会、フラーレン・ナノチューブ・グラフェン学会 会員

 

セミナープログラム(予定)

1.成膜技術に必要な真空・表面物性工学
1-1. 気体分子運動論の基礎
1-2. 真空工学の基礎
1-3. 表面物性工学の基礎

 

2.真空蒸着法
2-1. 真空蒸着法の原理
2-2. 真空蒸着法の種類と装置例
2-3. 真空蒸着法で作製される薄膜の例
2-4. 真空蒸着法を適用する際の留意事項

 

3.スパッタ法
3-1. スパッタ法の原理
3-2. スパッタ法の種類と装置例
3-3. スパッタ法で作製される薄膜の例
3-4. スパッタ法を適用する際の留意事項

 

4.化学気相成長(CVD)法
4-1. CVD法の原理
4-2. CVD法の種類と装置例
4-3. CVD法で作製されるさまざまな薄膜の例
4-4. CVD法を適用する際の留意事項

 

5.薄膜評価法
5-1 表面モルフォロジ、ステップカバレッジ
5-2 膜組成、膜構造
5-3 付着力、膜応力
5-4 電気的特性、光学的特性

 

6.成膜プロセスで遭遇するトラブル例と対処法
6-1 膜質に関するトラブル
6-2 装置に関するトラブル

 

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2021年08月18日(水) 10:30~16:30

 

開催場所

【WEB限定セミナー】※在宅、会社にいながらセミナーを受けられます

 

受講料

非会員: 49,500円 (本体価格:45,000円)
会員: 33,000円 (本体価格:30,000円)

会員(案内)登録していただいた場合、通常1名様申込で49,500円(税込)から
★1名で申込の場合、33,000円(税込)へ割引になります。
★2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計49,500円(2人目無料)です。

 

 

※セミナー主催者の会員登録をご希望の方は、申込みフォームのメッセージ本文欄に「R&D支援センター会員登録希望」と記載してください。ご登録いただくと、今回のお申込みから会員受講料が適用されます。

 

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LIVE配信のご案内

こちらをご参照ください

 

備考

・セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。
ご自宅への送付を希望の方はコメント欄にご住所などをご記入ください。
無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。

 

お申し込み方法

★下のセミナー参加申込ボタンより、必要事項をご記入の上お申し込みください。

 

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