半導体ドライエッチングの基礎と最新技術

反応性イオンエッチング、プラズマ支援原子層エッチング（PA-ALE）、

熱原子層エッチング（thermal ALE）など

【提携セミナー】

主催：株式会社R&D支援センター

◆セミナー趣旨

本講座では、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説する。

具体的には、ドライエッチングに用いられるプラズマ装置、装置内のプラズマの構造やダイナミクス、気相反応、および、反応性イオンエッチング（RIE）から、近年注目を集める原子層エッチング（ALE）にわたるドライエッチング技術に関して、プラズマ物質相互作用の物理機構から最新技術動向まで、詳しく紹介する。

関連項目として、プラズマＣＶＤと原子層堆積（ALD)プロセス、および、現在進行しつつあるプロセス開発におけるデジタル・トランスフォーメーション（DX)の最新研究動向についても、概要を紹介する。プラズマプロセスの初心者でも聴講できる講義内容を目指す。

◆習得できる知識

• エッチング用プラズマ装置の基礎
• プラズマエッチングにおける物質表面化学反応の基礎
• 反応性イオンエッチング、プラズマ支援原子層エッチング（PA-ALE）、熱原子層エッチング（thermal ALE）の特徴と応用

◆受講対象

半導体プロセスや関連ガス、材料に関する研究開発・生産製造に携わる方
（初心者から中級者まで）

◆キーワード

半導体,ドライ,エッチング,プラズマ,ALD,ALE,原子層,入門,講座,研修,セミナー

担当講師

大阪大学　工学研究科　アトミックデザイン研究センター
教授　理学博士・Ph.D. 　浜口 智志　氏

【略歴】
1982年　東京大学理学部物理学科卒業
1987年　同大学院理学系研究科物理学専攻博士課程修了
1988年　ニューヨーク大学大学院数学科博士課程修了
1988年-1990年　テキサス大学物理学科核融合研究所・研究員
1990年-1998年　IBM ワトソン研究所・主任研究員
1998年-2004年　京都大学エネルギー科学研究科・助教授
2004年-現在　大阪大学工学研究科・教授

【学会活動等】
国際真空科学技術応用国際連合（IUVSTA)プラズマ科学技術分科会(PSTD)長、Journal of Plasma Medicine 編集委員長、Journal of Physics D: Applied Physics 編集委員、プラズマ医療国際学会（IPMS)元会長、米国真空学会(AVS) プラズマ科学技術分科会(PSTD)元分科会長、等歴任。:米国物理学会（APS)フェロー、米国真空学会（AVS）フェロー

セミナープログラム（予定）

1.背景

2.プラズマ科学の基礎

3.代表的なプラズマプロセス装置
a.容量結合型プラズマ（CCP）装置
b.誘導結合型プラズマ（ICP）装置

4.反応性イオンエッチング（RIE）の基礎
a.プラズマ表面相互作用
b.表面帯電効果
c.シリコン系材料エッチング反応機構
d.金属・金属酸化物材料エッチング反応機構
e.高アスペクト比（HAR)エッチング概要

5.プラズマCVD概要：原子層堆積（ALD)の基礎として

6.ALDプロセスの概要：原子層エッチング（ALE）の逆過程として
a.熱ALD
b.プラズマ支援(PA-)ALD

7.ALEプロセスの概要と最新技術動向
a.PA-ALE
b.熱ALE：リガンド交換
c.熱ALE：金属錯体形成

8.半導体プロセス分野のデジタル・トランスフォーメーション（DX)

9.まとめ

＜質疑応答＞

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2021年12月20日（月） 10:30～16:30

開催場所

【WEB限定セミナー】※在宅、会社にいながらセミナーを受けられます

受講料

非会員： 55,000円 （本体価格：50,000円）
会員： 44,000円 （本体価格：40,000円）

会員の方あるいは申込時に会員登録される方は、受講料が1名55,000円（税込）から
・1名44,000円（税込）に割引になります。
・2名申込の場合は計55,000円（2人目無料）になります。両名の会員登録が必要です。

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備考

・本セミナーは「Zoom」を使ったWEB配信セミナーとなります。

・セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。

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