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半導体製造プロセス入門

【半導体製造プロセス入門】後工程装置の種類と概要

本連載では、いままで主に前工程について解説してきました。 しかし、半導体デバイスは最終工程である後工程を経て完成します。 そこで今回は後工程装置について解説します。 １．後工程とは？《後工程の特徴、前工程の …

半導体製造プロセス入門

【半導体製造プロセス入門】半導体検査装置の種類と概要（前工程での検査）

半導体製造では製造工程それぞれに応じて検査が行われます。 今回は、これまでの連載で紹介した前工程における検査と検査装置について解説します。 １．半導体製造での検査の考え方 半導体製造では検査・測定が各製造プ …

半導体製造プロセス入門

【半導体製造プロセス入門】CMP後洗浄装置／研磨パッド／終点検出

前回の当連載では研磨装置（CMP装置）の基礎知識をご紹介しましたが、引き続き研磨工程を解説します。 今回はCMP後の洗浄、CMP装置に使われる研磨パッドとスラリーなどをご説明します。 １．CMP後洗浄 CM …

半導体製造プロセス入門

【半導体製造プロセス入門】研磨装置(CMP装置)の基礎知識 [種類・方式・構造など]

半導体製造プロセスの中で、研磨装置は非常に地味な装置です。 しかし、半導体の微細化に伴って、特に前工程での研磨の重要性が増しています。 今回は、研磨装置の種類や方式について解説します。 １．研磨装置・研磨プ …

表面処理

【半導体製造プロセス入門】液相成長系の装置(メッキ装置、塗布装置) [成膜装置の基本④]

今回は成膜装置のうち、液相成長法の装置をご紹介します。   １．メッキ装置 微細化された多くのロジックLSIでは、配線には銅が使われています。 これは配線遅延を低減するためなのですが、銅はCVDや …

表面処理

【半導体製造プロセス入門】PVD装置(スパッタリング装置)の要点解説 [成膜装置の基本③]

今回は、成膜装置のうち、気相成長装置としてPVD（物理的気相成長）装置について解説します。   １．PVD（物理的気相成長）とは？ 気相成長装置には、エピタキシャル成長装置、CVD（化学的気相成長 …

表面処理

【半導体製造プロセス入門】CVD装置の種類・分類と特徴 [成膜装置の基本②]

前回の当連載では、成膜装置の分類をご紹介しました。 その成膜装置の分類のうち「気相成長装置」に該当するものとして、エピタキシャル成長装置、CVD（化学的気相成長）装置、PVD（物理的気相成長）装置、蒸着装置 …

表面処理

【半導体製造プロセス入門】成膜装置の種類・分類と熱酸化装置 [成膜装置の基本①]

LSIは「膜」によって構成されています。 この膜を形成する「成膜装置」について4回にわたってご説明します。 今回は、成膜装置の分類（主な種類）の説明と、固相成長装置である「熱酸化装置」を取り上げます. また …

半導体製造プロセス入門

【半導体製造プロセス入門】エッチング装置 早わかり解説 (構成・仕組み・トレンド等)

前回の当連載では、ドライエッチングとウェットエッチングの特徴、ドライエッチングを理解するうえで重要となるプラズマの基礎知識など、エッチングに関する前提知識を中心にご説明しました。 今回は、エッチング装置の構 …

半導体製造プロセス入門

【半導体製造プロセス入門】エッチングの基礎知識 (ドライ/ウェット、等方性/異方性など)

エッチング装置は、ウエハー表面の不要な部分を取り除き、表面に凸凹をつくるときに使用されます。 今回は、エッチング装置を説明する前段階として、エッチングの種類とそれぞれの方法、エッチングに必須のプラズマについ …

半導体製造プロセス入門

【半導体製造プロセス入門】リソグラフィー装置の基本② (コーター/現像装置/アッシング装置)

前回のコラムでは、リソグラフィー装置の中核を担う「露光装置」について紹介しました。 今回は、露光装置以外のリソグラフィー装置について説明します。   １．レジスト塗布装置（コーター） レジスト塗布 …

半導体製造プロセス入門

【半導体製造プロセス入門】リソグラフィー装置の基本① (露光装置/光源)

「半導体製造装置」と聞いてまず思い浮かぶのがリソグラフィー装置です。 リソグラフィーはもともと「フォトリソグラフィー」と呼ばれる写真製版の技術です。つまり印刷技術が発展して現在のような非常に高度な技術となり …

半導体製造プロセス入門

【半導体製造プロセス入門】熱処理装置の種類・方式を解説 (ホットウォール型/RTA/レーザアニール)

半導体製造では、さまざまな熱処理（アニール）を行います。 熱処理というと難しく聞こえますが、意図する効果を得るために、要は製造の過程で、シリコンウエハーに熱を加え、化学反応や物理的な現象を促進させることです …

半導体製造プロセス入門

【半導体製造プロセス入門】熱処理の目的とは？(固相拡散,結晶回復/シリサイド形成/ゲッタリング)

半導体製造では、さまざまな熱処理（アニール）を行います。 「熱処理」というと難しく聞こえますが、意図する効果を得るために、要は製造の過程で、シリコンウエハーに熱を加え、化学反応や物理的な現象を促進させること …

半導体製造プロセス入門

【半導体製造プロセス入門】イオン注入装置とは？仕組み・構造(構成)などを解説

今回は、半導体製造プロセス本質的な装置である、イオン注入装置について解説します。 １．イオン注入装置とは イオン注入装置は、ずばりドーピングを行う装置です。 半導体をデバイスとして使用するにはドーピングを行 …

半導体製造プロセス入門

【半導体製造プロセス入門】乾燥技術・乾燥装置の基礎知識

当連載では、半導体製造において使用される各製造装置の概要について解説しています。 前回・前々回と「洗浄装置」を中心にご紹介してきましたが、今回はその「洗浄」の後のプロセスで用いる「乾燥装置」について解説しま …

半導体製造プロセス入門

【半導体製造プロセス入門】バッチ式と枚葉式の違いとは？半導体洗浄装置で解説

今回は、半導体製造プロセスで使用される製造装置の分類として、バッチ式と枚葉式について解説します。 １．半導体製造装置の2つのタイプ 半導体製造装置には、大きく分けて二つのタイプがあります。「バッチ式」と「枚 …

半導体製造プロセス入門

【半導体製造プロセス入門】半導体洗浄装置・洗浄プロセスの基礎知識

当連載コラムでは、半導体製造において使用される各製造装置の概要を解説します。 今回は、「洗浄装置」について説明します。 １．洗浄装置とは？ 「洗浄」とは、「化学的・物理的な性質を利用して材料表面に付着してい …

半導体製造プロセス入門

【半導体製造プロセス入門】半導体工場の設備を学ぶ

今回のコラムでは、半導体工場の設備について解説します。 １．半導体工場のレイアウトとウエハー搬送 まず工場のレイアウトです。 近年の大規模な半導体工場では、半導体製造装置が並んで設置され、その間を自動搬送車 …

半導体製造プロセス入門

【半導体製造プロセス入門】シリコンウエハーと半導体製造の必要資材

半導体製造においては、とかく製造装置自体に目が向きがちですが、資材や工場自体の設備なども重要です。 なぜかというと、半導体の製造には、水や化学薬品、あるいは熱などが必要であり、これらの資材を安定的に供給する …

半導体製造プロセス入門

【半導体製造プロセス入門】「前工程」「後工程」の概要を凝縮まとめ！一気に読めて流れがわかる

半導体プロセスは、大きく分けて二つの工程に分かれます。「前工程」と「後工程」です。 「前工程」は、シリコンウェハーに回路を形成するまでの工程です。 「後工程」は、回路が形成されたシリコンウェハーを半導体チッ …