工学基礎（半導体の基礎の基礎、流体力学、電気磁気学、AI）から、

半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から学べる！

また、半導体デバイス製造時の静電気障害の対策についても紹介し、

それを防止するためのAI技術についても説明します！

半導体デバイスの物理的洗浄技術と

静電気障害への対策

【提携セミナー】

主催：株式会社R&D支援センター

◆セミナー趣旨

近年、半導体デバイスに進化はものすごいスピードを進んでいます。このセミナーは半導体デバイスの物理的洗浄に関して説明を行います。

セミナーではできるだけ工学基礎（半導体の基礎の基礎、流体力学、電気磁気学、AI）から説明を行い、現在半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から丁寧に説明します。

また講演者が専門としている半導体デバイス製造時の静電気障害の対策についても紹介し、それを防止するためのAI技術についても述べます。半導体デバイス製造プロセスにどのようにAIが用いることができるがヒントになると幸いです。

基礎的なことからお話しますので、半導体デバイス洗浄に関わる3, 4年の方や半導体デバイス洗浄にビジネスをお探しの方に最適かと思います。

◆習得できる知識

本講座を受講することで、半導体デバイスの物理的な洗浄およびそれに関する工学的な基礎知識（半導体の原理、流体力学、電気磁気学、AI）について習得できるかと思います。

◆受講対象

半導体デバイスの物理洗浄に関わり、2~3年の若手技術者や新人の方。

◆必要な前提知識

特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします。
ただし、少しでも半導体の洗浄に携わった方は理解が深まると思います。

◆キーワード

半導体,洗浄,流体力学,静電気,AI,製造プロセス,スプレー,WEB,セミナー,講演,研修

担当講師

愛知工業大学 工学部 電気学科 教授 博士（工学）　清家 善之 氏

【ご専門】
半導体デバイスの洗浄、有機エレクトロニクス、品質管理

セミナープログラム（予定）

１． 半導体デバイスの物理的洗浄の必要性
1-1. 半導体の基礎の基礎
1-2. 半導体製造プロセス
1-3. 半導体デバイス製造プロセスにおける洗浄の必要性
1-4. 化学的洗浄と物理的洗浄

２． 水流を利用した洗浄について
2-1. 流体力学の基礎
2-2. 高圧スプレー洗浄
2-3. 二流体スプレー洗浄
2-4. 超音波洗浄スプレー洗浄
2-5. ブラシ洗浄
2-6. 次世代の物理的洗浄技術

３． スプレー洗浄時の静電気障害
3-1. 静電気の基礎
3-2. 半導体デバイスの洗浄の静電気障害
3-3. スプレー時に発生する静電気と静電気障害のメカニズム

４． AIを用いた半導体デバイスの生産技術
4-1. AIの基礎
4-2. 半導体製造に用いられるAI
4-3. 静電気障害防止を例にしたAIの活用法

【質疑応答】

公開セミナーの次回開催予定

開催日

未定

開催場所

未定

受講料

未定

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