半導体製造における洗浄技術の基礎と各種方式・装置の特性【提携セミナー】

半導体

半導体製造における洗浄技術の基礎と各種方式・装置の特性【提携セミナー】

開催日時 2021/11/9(火) 10:00~16:00
担当講師

羽深 等 氏
白水 好美 氏

開催場所

【ZOOMを使ったLIVE配信セミナー】

定員 -
受講費 非会員: 55,000円 (本体価格:50,000円)
会員: 46,200円 (本体価格:42,000円)

半導体製造における洗浄技術の基礎と

各種方式・装置の特性

【提携セミナー】

主催:株式会社R&D支援センター

 


 

◆セミナー趣旨

【第1講】
半導体製造における湿式洗浄方法には、主に、枚葉式(一枚ずつ)とバッチ式(複数枚一括)があります。これらの装置の中には水・薬液が流れ、そこに超音波を重ねることがあります。その基本に立ち返ると、(1)流れ、薬液と超音波などにより汚れを表面から引き離すこと、(2)離れた汚れを流れに乗せて運び去ること、に分けられます。そこで、その両方に大切な役割を担っている「流れ」について理解し、洗浄装置の理解と活用・改善について考えます。

流れについては、身近な現象を参考にして感覚的につかんで行くと実務的です。そして、洗浄機の流れを動画資料をもとに理解し、課題の発見、解明、解決と改善に結びつけると、その効果は明らかです。そこで本セミナーでは、流れを含む「移動する現象」の基礎事項と法則を紹介し、装置の中の流れを可視化観察した動画を通して、流れの感覚をつかんで行きます。具体的には、枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れ、超音波を加えた時の流れと気泡の動きについて特徴と問題点を考察します。そして、理想的な水の動きとは何かを考え、それを創り出す方法を可視化観察動画と計算例により紹介します。まとめでは、困った時の考え方に触れる予定です。

 

 

【第2講】
半導体製造において、各種汚染は歩留低下を引き起こす。序論として汚染が半導体デバイスにおよぼす影響を示します。それを踏まえて、半導体洗浄に関して説明します。従来の洗浄から最近の洗浄、目的別洗浄について詳細を説明します。洗浄以外の汚染制御技術に関して紹介します。最後に次世代の汚染制御の問題点と洗浄乾燥技術について解説します。洗浄技術は半導体デバイスの品質の向上のために必要です。洗浄の意義を一緒に考えましょう!

 

◆習得できる知識

半導体洗浄に関わる以下の知識と手法が得られ、洗浄時間と効果の向上に活かせます。

  • 化学工学の基礎(工業生産プロセスの主要要素を成す流れ・熱・拡散などの考え方)
  • 流れを実感し、活用する工夫
  • 流れの改善により工程短縮、品質向上、などを進める視点
  • プロセスの限界を見極め、それを乗り越えるための考え方

 

半導体製造における汚染制御と歩留改善に洗浄技術が重要であることが理解できる。

 

 

◆キーワード

半導体,洗浄,汚染,制御,バッチ,枚葉,超音波,薬液,純水,セミナー

 

 

担当講師

第1講 国立大学法人 横浜国立大学 大学院工学研究院 教授 博士(工学)

羽深 等 氏

<略歴>
1981年 京都大学大学院理学研究科修士課程化学専攻 修了
1981年 信越化学工業株式会社(半導体磯部研究所)
1996年 博士(工学)(広島大学大学院工学研究科)
2000年 横浜国立大学工学部物質工学科 助教授
2002年 横浜国立大学大学院工学研究院 教授
現在 横浜国立大学大学院理工学府化学・生命系理工学専攻 教授
同理工学部副学部長、同教育研究評議会評議員 【教育分野】化学工学・反応工学
<学協会役職>
化学工学会エレクトロニクス部会 部会長
化学工学会反応部会CVD反応分科会 幹事
化学工学会代議員
よこはま高度実装技術コンソーシアム 理事長

 

 

 

第2講 オフィスシラミズ 室長 博士(工学)

白水 好美 氏

<専門>
半導体洗浄、クリーン化、微量分析技術
<略歴>
2019 東北大学大学院工学研究科博士後期課程 修了 博士(工学)(2019.3)
1983富士通株式会社
1991日本電気-NECエレクトロニクスールネサスエレクトロニクス
2013 Samsung electronics 常務
2016 オフィスシラミズ開業
<学協会>
Selete 自動化ミニエングループ委員
UCT(ウルトラクリーンテクノロジー)編集委員
空気清浄とコンタミネーションコントロール 編集委員
JEITA半導体ロードマップ歩留向上WG リーダ及び委員
SEMI Silicon Wafer委員会TEST METHOD TF 委員
IRDS (SDRJ) 歩留向上委員会メンバー
<表彰>
2008年5月 公益社団法人空気清浄協会 感謝状
2013年12月 SEMI JRSC(日本地区スタンダード委員会) 功労賞

 

セミナープログラム(予定)

第1講 半導体製造における洗浄方法・装置の理解と課題解決法
~流れの可視化観察事例をもとに~
<羽深先生 10:00~12:30>

 

1.序論
1-1.洗う理由:汚れは何?いつ、どこからなぜやって来る?
1-2.一般の洗浄(洗浄の4要素:温度、時間、化学、力学)
1-3.半導体の洗浄に特有のこと
1-4.半導体洗浄の基礎現象(化学工学を簡潔に)
1-4-1.表面(付着・脱離・引き剥がす)
1-4-2.流れ、熱、拡散、反応、境界層
1-4-3.装置内流れの種類

 

2.「流れ」の感覚をつかむ
2-1.流れの可視化観察
2-2.流れの種類(循環流れ、一方向流れ)

 

3.枚葉式洗浄機の流れと反応
3-1.流れの可視化観察方法と例
3-2.流れの計算
3-3.表面反応の数値解析例

 

4.バッチ式洗浄機の流れ設計
4-1.流れの可視化観察方法と例
4-2.水噴出ノズル設計と検証
4-3.水排出設計と検証

 

5.超音波洗浄の流れと気泡
5-1.超音波の効果と役割
5-2.超音波の影響:水流と気泡の動き

 

6.まとめ:要点は境界層

 

第2講 半導体製造における洗浄技術の基礎と技術トレンド
<白水先生 13:30~16:00>

 

1.序論-汚染が半導体デバイスに与える影響
1-1.金属汚染(Fe, Cu等)およびナノパーティクル
1-2.分子汚染(HN3, アミン、有機物、酸性ガス成分)
1-3.各種汚染の分析解析方法及びモニタリング技術

 

2.洗浄技術
2-1.RCA洗浄
2-2.各種洗浄液と洗浄メカニズム(薬液系洗浄 vs. 純水系洗浄)
2-3.洗浄プロセスの動向
2-4.最先端の洗浄技術とその問題点

 

3.その他の汚染制御技術
3-1.工場設計
3-2.ウェーハ保管、移送方法

 

4.次世代の汚染制御の問題点と今後の課題
4-1.新洗浄乾燥技術(超臨界CO2洗浄乾燥、PK(パターンキーパー)剤乾燥)
4-2.次世代の洗浄、汚染制御の問題点と今後の課題

 

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2021年11月09日(火) 10:00~16:00

 

開催場所

【WEB限定セミナー】※在宅、会社にいながらセミナーを受けられます

 

受講料

非会員: 55,000円 (本体価格:50,000円)
会員: 46,200円 (本体価格:42,000円)

 

 

会員(案内)登録していただいた場合、通常1名様申込で55,000円(税込)から
・1名で申込の場合、46,200円(税込)へ割引になります。
・2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計55,000円(2人目無料)です。
・3名以上同時申込は1名につき27,500円(税込)です。

 

 

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備考

資料付

 

・セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。
無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。

 

お申し込み方法

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