半導体デバイスの物理的洗浄手法

≪半導体の構造、静電気障害対策から先端の洗浄法まで≫

【提携セミナー】

主催：サイエンス＆テクノロジー株式会社

受講可能な形式：【Live配信】or【アーカイブ配信】のみ

半導体デバイス製造時の静電気障害の対策を長年研究されている講師が教える【半日集中講義】

■ 半導体デバイスのマーケット動向、業界の動き
■ 半導体製造の基礎、流体力学の理解を通じて、半導体洗浄の原理を理解
■ 歩留まりに大きく関わる洗浄プロセスにおける、スプレー・超音波・ブラシなどの各洗浄方法と静電気障害への対策
■ 次世代の物理洗浄技術とは

半導体デバイス洗浄に関わる若手技術者の皆様、半導体デバイス洗浄ビジネスについて情報収集の皆様は
ぜひ本セミナーを業務にお役立てください。

セミナー趣旨

近年、半導体デバイスの進化はものすごいスピードを進んでいます。このセミナーは半導体デバイスの物理的洗浄に関して説明を行います。セミナーでは半導体デバイスのマーケットの動向と業界動向から半導体の基礎、流体力学などの説明を行い、現在半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から丁寧に説明します。また講演者が専門としている半導体デバイス製造時の静電気障害の対策についても紹介します。基礎的なことからお話しますので、半導体デバイス洗浄に関わる3から4年の方や半導体デバイス洗浄にビジネスをお探しの方に最適かと思います。

受講対象

• 半導体デバイス洗浄に関わる、3～4年目の技術者の方
• 半導体デバイス洗浄にビジネスをお探しの方
  基礎からお話しますので、お気軽にご参加ください。

得られる知識

• 半導体デバイス市場動向と業界動向
• 半導体の基礎、半導体物理洗浄の原理
• 半導体デバイス製造時の静電気障害の対策

担当講師

愛知工業大学　工学部　電気学科　教授　清家 善之　氏

【ご専門】電子デバイス製造プロセス、有機ELデバイス、有機薄膜太陽電池、スプレー、成膜、静電気、洗浄
【ご研究室HP】https://www.seikelab.com/

セミナープログラム（予定）

１．半導体デバイスのマーケットの動向と業界動向

２．半導体デバイスの物理的洗浄の必要性
2.1 半導体デバイスの基礎
2.2 半導体製造プロセス
2.3 半導体デバイス製造プロセスにおける洗浄の必要性
2.4 化学的洗浄と物理的洗浄

３．水流を利用した洗浄について
3.1 流体力学の基礎
3.2 高圧スプレー洗浄
3.3 二流体スプレー洗浄
3.4 超音波洗浄スプレー洗浄
3.5 ブラシ洗浄
3.6 次世代の物理的洗浄技術

４．スプレー洗浄時の静電気障害
4.1 静電気の基礎
4.2 半導体デバイスの洗浄の静電気障害
4.3 スプレー時に発生する静電気と静電気障害のメカニズム

５．最先端の洗浄方法（表面処理）
学会等からの情報

□質疑応答□

公開セミナーの次回開催予定

開催日

【Live配信】 2024/7/23（火）13:00～16:30
【アーカイブ配信】 2024/8/19（月）まで受付（視聴期間：8/19～8/30）

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

受講料

一般受講：本体45,000円＋税4,500円
E-Mail案内登録価格：本体42,700円＋税4,270円

E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料
2名で49,500円 (2名ともE-mail案内登録必須／1名あたり定価半額24,750円)

※テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】
1名申込みの場合：受講料( 定価：37,400円／E-mail案内登録価格 35,640円 )

定価：本体34,000円＋税3,400円
E-mail案内登録価格：本体32,400円＋税3,240円

※１名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
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配布資料

PDFデータ(印刷可・編集不可)
※開催2日前を目安に、S＆T会員のマイページよりダウンロード可となります。
※アーカイブ配信受講の場合は配信開始日からダウンロード可となります。

オンライン配信のご案内

※【Live配信（zoom使用）対応セミナー】についてはこちらをご参照ください

※【WEBセミナー：アーカイブ受講対応セミナー】についてはこちらをご参照ください

備考

※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

お申し込み方法

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★【Live配信】【アーカイブ受講】のいずれかから、ご希望される受講形態をメッセージ欄に明記してください。