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コーティング膜および機能性材料の付着・密着性評価と剥離対策(セミナー)
2024/11/29(金)13:00-16:30
お問い合わせ
03-6206-4966
開催日時 | 【Live配信】 2024/5/22(水) 13:00~16:30 , 【アーカイブ配信】 2024/6/4(火) から配信開始【視聴期間:6/4(火)~6/17(月)】 |
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担当講師 | 金尾 寛人 氏 |
開催場所 | 【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。 |
定員 | - |
受講費 | 通常申込:本体45,000円+税4,500円 E-Mail案内登録価格:本体42,700円+税4,270円 |
■装置メーカーの立場から、プラズマCVD装置の技術/課題と対策を解説■
【提携セミナー】
主催:サイエンス&テクノロジー株式会社
受講可能な形式:【Live配信】or【アーカイブ配信】のみ
★ 30年以上の実績・経験がある装置メーカーから、実務レベルで解説いたします!
当社は、1989年から「研究開発用半導体一貫製造システム」の開発を開始して、装置メーカーとして、30年以上の実績・経験があります。この講演では、プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策を中心にご紹介いたします。
<得られる知識・技術>
プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策について知ることができます。
SPPテクノロジーズ(株)
製造部 次長 兼 生産管理グループ長 兼 マーケティング部 マネジャー 金尾 寛人 氏
【経歴・研究内容・専門・活動】
1989年3月 名古屋工業大学 工学部 第一部 電気情報工学科を卒業.
1989年4月 住友金属工業(株)に入社.
Si基板上GaAs膜のヘテロエピタキシー成膜技術の研究開発(1年)や半導体デバイス向けECRプラズマ装置による成膜、エッチング技術の研究開発及び商品開発(10年)
2000年4月 住友精密工業(株)に入社(派遣、2002年3月転籍、2011年12月にSPPテクノロジーズに出向)
MEMSや光デバイス向けプラズマ装置による成膜、エッチング技術の研究開発及び商品開発(3年半)
装置全般の技術営業、マーケティング(現在)
【WebSite】
https://www.spp-technologies.co.jp/
<プログラム>
1.プラズマCVD装置の基本構造
1.1 プラズマCVD装置の構成
1.2 反応チャンバーの基本構成
2.プラズマCVD装置の用途
2.1 適用アプリケーション
3.プラズマCVD装置のプロセス性能
3.1 SiH4系SiO2膜
3.2 SiH4系SiN膜
3.3 SiH4系SiON膜
3.4 SiH4系a-Si膜
3.5 SiH4系SiC膜
3.6 TEOS系SiO2膜
3.7 液体ソース系SiN膜
4.開発用装置と量産用装置
4.1 プラットフォーム
5.プラズマCVD装置の課題と対策
5.1 高レート化
5.2 プロセスの再現性
5.3 低パーティクル
5.4 チャンバークリーニング
5.5 ウェーハ温度の低温化
5.6 ウェーハ大口径化 など
□質疑応答□
【Live配信】 2024年5月22日(水) 13:00~16:30
【アーカイブ配信】 2024年6月4日(火) から配信開始【視聴期間:6/4(火)~6/17(月)】
【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。
一般受講:本体45,000円+税4,500円
E-Mail案内登録価格:本体42,700円+税4,270円
E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料
2名で49,500円 (2名ともE-mail案内登録必須/1名あたり定価半額24,750円)
※テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【Live配信/WEBセミナー受講限定】
1名申込みの場合:受講料( 定価:37,400円/E-mail案内登録価格 35,640円 )
定価:本体34,000円+税3,400円
E-mail案内登録価格:本体32,400円+税3,240円
※1名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
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※他の割引は併用できません。
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※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
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