現在、半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄技術について

原理から丁寧に解説します。

半導体デバイスの物理的洗浄技術と

スプレー洗浄時の静電気障害対策

【提携セミナー】

主催：株式会社情報機構

■はじめに

近年、半導体デバイスの進化はすさまじいものがあります。このセミナーは半導体デバイスの物理的洗浄に関して説明を行います。セミナーでは、現在半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から丁寧説明します。
また講演者が専門としている半導体デバイス製造時の静電気障害の対策についても紹介します。

基礎的なことからお話しますので、半導体デバイス洗浄に関わって数年の方や半導体デバイス洗浄にビジネスをお探しの方に最適かと思います。講義後、質疑応答の時間以外にもメールにてご質問にもお答え致します。

◆受講後、習得できること

本講座を受講することで、半導体デバイスの物理的な洗浄およびそれに関する工学的な基礎知識について習得できます。

◆必要な予備知識など

特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします。
ただし、少しでも半導体の洗浄に携わった方は理解が深まると思います。

担当講師

愛知工業大学　工学部電気学科　教授
la quaLab合同会社　代表社員
博士（工学） 　清家 善之 氏

セミナープログラム（予定）

1　半導体デバイス製造の基礎

1.1 半導体デバイスの基礎
(1) 半導体材料
(2) p型半導体とn型半導体
(3) シリコンウェハ上の電子部品の要素と構造
1.2 半導体製造プロセスについて
(1) CMOS製造を例としたプロセスの説明
(2) なぜ微細化が必要なのか？
1.3 半導体デバイス製造プロセスにおける洗浄の必要性
(1) 化学的洗浄(RCA洗浄)の基礎
(2) 物理的洗浄の必要性
(3) パーティクルのカウント方法
(4) 物理洗浄に求められるもの

2　ウエット洗浄

2.1 パーティクルの付着理論
2.2 水流を用いた洗浄原理
2.3 高圧スプレー洗浄
2.4 二流体スプレー洗浄
2.5 メガソニック洗浄
(1) メガソニックスプレー
(2) 石英振動体型メガソニック洗浄方法
2.6 ブラシ洗浄
2.7 次世代の物理的洗浄技術
2.8 プロセスに合ったツールの使い分け

3　純水スプレー洗浄時の静電気障害

3.1 半導体デバイスの洗浄の静電気障害の実例
3.2 スプレー時に発生する静電気と静電気障害のメカニズム
3.3 静電気障害の対策方法

4　近年の学会情報

(1) IMEC 主催16th Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces (UCPSS 2023)
(2) he Electrochemical Society 主催International Symposium on Semiconductor Cleaning Science ＆ Technology (SCST2024)

5　まとめ　質疑応答

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2025年7月23日（水）　13:00-16:30

開催場所

Zoomによるオンラインセミナー

受講料

【オンラインセミナー（見逃し視聴なし）】：1名45,100円(税込（消費税10％）、資料付)
＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき34,100円

【オンラインセミナー（見逃し視聴あり）】：1名50,600円(税込（消費税10％）、資料付)
＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき39,600円

＊学校法人割引；学生、教員のご参加は受講料50％割引。

●録音・録画行為は固くお断り致します。

オンライン配信のご案内

★　Zoomによるオンライン配信

については、こちらをご参照ください

備考

※配布資料等について

●配布資料は、印刷物を郵送で1部送付致します。

・お申込の際にお受け取り可能な住所を必ずご記入ください。
・郵送の都合上、お申込みは4営業日前までを推奨します。（土、日、祝日は営業日としてカウント致しません。）
・それ以降でもお申込みはお受けしておりますが（開催1営業日前の12:00まで）、その場合、テキスト到着がセミナー後になる可能性がございますことご了承ください。
・資料未達の場合などを除き、資料の再配布はご対応できかねますのでご了承ください。

●当日、可能な範囲でご質問にお答えします。（全ての質問にお答えできない可能性もございます。何卒ご了承ください。）
●本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり、無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売などは禁止致します。

お申し込み方法

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