★ スケーリング発生の要因、対策の考え方を詳説！

スケールの形成機構とその抑制

-冷却面で発生する結晶の析出、成長-

【提携セミナー】

主催：株式会社技術情報協会

講座内容

• 懸濁型晶析におけるスケール形成防止策の提案に向け、懸濁結晶の形状と衝突現象の関係について解説する。
• 原料中の微量不純物の影響にも言及した上で，懸濁型冷却融液晶析におけるスケーリングの発生メカニズム，およびその抑制方法について解説する。
• 地熱発電所におけるシリカスケール生成問題の概要について説明する。特に，溶液イオン平衡，速度計算に基づいたスケール成因とその対策について紹介する。

習得できる知識

熱水化学の基礎，シリカスケール生成理論

担当講師

１．千葉工業大学　工学部　応用化学科　助教　博士(工学)　工藤 翔慈 氏
２．三菱ケミカル(株)　広島事業所　化成品製造部　生産技術課　課長　博士(工学)　日野 智道 氏
３．東京海洋大学　海洋資源エネルギー学部門　准教授　博士(理学)　淵田 茂司 氏

セミナープログラム（予定）

【10:15-11:45】
１．懸濁型晶析でのスケール形成の現象解析と防止策の開発
千葉工業大学　工学部　応用化学科　助教　博士(工学)　工藤 翔慈 氏

【講座の趣旨】
本講では懸濁型晶析におけるスケール形成防止策の提案に向け、懸濁結晶の形状と衝突現象の関係について解説する。

１．スケール形成の要因としての懸濁結晶の可能性

２．モデル粒子を用いた懸濁プロセスでの検討
2.1 モデル非球形粒子の作成と形状の評価
2.2 装置構造内への懸濁粒子の衝突現象
2.3 スケール形成開始への影響の観点での懸濁粒子の形状の考察

【質疑応答】

【12:45-14:15】
２．懸濁型冷却融液晶析におけるスケーリングの抑制
三菱ケミカル(株)　広島事業所　化成品製造部　生産技術課　課長　博士(工学)　日野 智道 氏

【講座の趣旨】
懸濁型冷却融液晶析法では，一般的に冷却ジャケットや冷却コイルを有した撹拌混合槽を用いて晶析操作を行う。この際生じるトラブルとして，過飽和度が上昇する冷却伝面の槽内側表面において，析出した結晶が付着・成長する，スケーリングと呼ばれる現象が知られている。スケーリングは冷却伝面における伝熱効率を下げ，生産性を悪化させるだけでなく，撹拌や掻取に用いられるスクレーパーの動作不良を誘発し，場合によっては装置の損傷といった大問題を発生させることがある。
本講演では，原料中の微量不純物の影響にも言及した上で，懸濁型冷却融液晶析におけるスケーリングの発生メカニズム，およびその抑制方法について解説する。

１．融液晶析法の特徴

２．懸濁型融液晶析における微量不純物の影響

３．懸濁型冷却融液晶析法におけるスケーリング発生メカニズムとその抑制方法

【質疑応答】

【14:30-16:00】
３．シリカスケールの形成メカニズムとその抑制技術
東京海洋大学　海洋資源エネルギー学部門　准教授　博士(理学)　淵田 茂司 氏

【習得できる知識】
熱水化学の基礎，シリカスケール生成理論

【講座の趣旨】
地熱発電所におけるシリカスケール生成問題の概要について説明する。特に，溶液イオン平衡，速度計算に基づいたスケール成因とその対策について紹介する。

１．基礎知識編
1.1 国内における地熱発電所の現状
1.2 地熱発電所におけるシリカスケール生成問題

２．熱水化学基礎編
2.1 地熱水の生成プロセス
2.2 地熱水の化学組成
2.3 気液分離に伴う化学組成の変化

３．シリカスケール編
3.1 シリカスケールの化学組成
3.2 シリカスケール生成実験
3.3 速度論に基づく生成機構
3.4 生成速度と温度の関係
3.5 シリカスケール生成における共存イオンの影響

４．対策編
4.1 スケール抑制の最適pH条件
4.2 現場における対策例

【質疑応答】

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2022/11/24（木）10:30~16:30

開催場所

Zoomによるオンライン受講

受講料

1名につき60,500円(消費税込･資料付き)
〔1社2名以上同時申込の場合1名につき55,000円(税込)〕

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