ALD（原子層堆積）/ALE（原子層エッチング）技術の基礎と応用、現状課題と展望まで [情報機構]【提携セミナー】

　　セミナー　　生産/製造/加工技術　　表面処理/微細加工　　ALD（原子層堆積）/ALE（原子層エッチング）技術の基礎と応用、現状課題と展望まで [情報機構]【提携セミナー】

開催日時	未定
担当講師	浦岡行治氏
開催場所	未定
定員	-
受講費	未定

○原理・材料・装置の仕組み等の基礎から、パワーデバイス・太陽電池・LSI・半導体材料や金属膜などへの

応用、現状課題と展望まで。1日で徹底解説します！

ALD（原子層堆積）/ALE（原子層エッチング）技術

の基礎と応用、現状課題と展望まで

【提携セミナー】

主催：株式会社情報機構

◆　はじめに：

AIや5GなどIoT技術の進歩を支えている半導体加工技術において、高機能な薄膜を形成することは、非常に重要である。薄膜形成技術については、古くからいろいろな手法が開発され、LSI、ディスプレイ、太陽電池などのエレクトロニクスの分野で広く活用されてきた。

本セミナーでは、近年、特に注目を浴びているALD（原子層堆積）/ALE（原子層エッチング）技術について、その基礎と応用について概説する。特に、堆積の原理や材料について詳しく紹介する。また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介する。

◆　受講対象者：

半導体プロセス・デバイスの初学者
ALD技術の導入を検討している技術者
本テーマに興味のある方ならどなたでも受講可能。

◆　必要な予備知識：

半導体プロセスに興味のある方なら、特に予備知識の必要はない。

◆　本セミナーで習得できること：

ALD/ALE技術の基礎
薄膜形成技術の基礎
薄膜加工技術の基礎
薄膜を使った半導体デバイスの動作原理
薄膜デバイスの信頼性評価方法
など

担当講師

奈良先端科学技術大学院大学　物質創成科学領域　教授　浦岡行治氏

セミナープログラム（予定）

１．薄膜形成技術

1.1　薄膜作製/加工の基礎

1.2　薄膜の評価手法

1.2.1　電気的評価

1.2.2　化学的分析手法

1.2.3　光学的評価手法

２．ALD技術の基礎

2.1　ALD技術の原理

2.2　ALD薄膜の特長

2.3　ALD技術の歴史

2.4　ALD装置の仕組み

2.5　ALD技術の材料

３．ALE技術の基礎

3.1　ALE技術の原理

3.2　ALEの歴史

3.3　ALEの特長

3.4　ALE技術の課題

４．ALD技術の応用

4.1　パワーデバイスへの応用

4.2　酸化物薄膜トランジスへの応用

4.3　MOS LSIへの応用

4.4　太陽電池への応用

５．ALE技術の応用事例

5.1　シリコン、窒化ガリウム等半導体材料への応用

5.2　シリコン酸化膜、窒化膜等絶縁膜への応用

5.3　Co等金属膜への応用

６．ALD/ALE技術の将来

6.1　ALD/ALE技術の課題

6.2　ALD/ALE技術の展望

＜質疑応答＞

公開セミナーの次回開催予定

開催日

未定

開催場所

未定

オンライン配信のご案内

未定

受講

未定

＊学校法人割引；学生、教員のご参加は受講料50％割引。

配布資料

※配布資料等について

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