薄膜作製の基礎と薄膜評価・トラブル対策

≪真空蒸着法、スパッタ法、CVD法の基礎をやさしく解説≫

【提携セミナー】

主催：サイエンス＆テクノロジー株式会社

スパッタ法，真空蒸着法，CVD法の原理やそれぞれ得られる膜の特徴、作製した薄膜の評価方法等など…。
本セミナーでは、成膜技術に携わる初級〜中級の技術者の方々を対象に、薄膜作製の基礎知識を幅広く解説します。

セミナー趣旨

薄膜技術は、電子デバイス、太陽電池、建材 、食品産業と、さまざまな産業分野を支える基幹技術です。現在では高性能で使いやすい薄膜作製装置が市販されており 、昔よりも容易に薄膜作製が行えるようになりました。しかしながら、適切な薄膜作製のためには 、薄膜技術に関する知識が必要なのは今も昔も変わりません。新規の条件で成膜を行う場合 、必要な特性を有する薄膜を得るためには各種薄膜作製が膜質におよぼす影響を考慮しつつ 、条件を選択する必要があります。また 、薄膜作製プロセスで遭遇する種々のトラブルを解決するためには 、その原因を分析し 、適切に対処すること求められます。そのようなときに必要になるのが 、薄膜作製技術に関する基本的かつ系統的な知識です。

本講座では 、薄膜技術に携わる初級〜中級の技術者の方々を対象に 、薄膜技術に関する基礎的かつ系統的な知識を習得し 、実際の業務に生かして頂くことを目標とします。

得られる知識

• 現場で必要とされる薄膜技術の基礎知識を習得できる
• 薄膜技術で必要とされる真空工学，表面物性工学の知識を習得できる
• 薄膜の形成過程，薄膜の諸特性，薄膜とバルクとの違いについての知識が得られる
• 真空蒸着法，スパッタ法，CVD法の特徴，類似点，違い，得られる薄膜の特徴が理解できる
• 必要な特性を有する薄膜を得るために必要なプロセス設計を行えるようになる
• トラブル発生時，その解決に向けた指針を立てることができるようになる

受講対象

• 薄膜作製に関連する研究・開発・製造業務に新規に従事する方，従事して2～3年程度の方
• 薄膜作製に関してある程度の実務経験はあるが，自分の知識を系統的に整理したい方
• 高等学校程度の物理，化学および数学の知識をお持ちの方

担当講師

三重大学 大学院工学研究科 電気電子工学専攻 教授　佐藤 英樹 氏

[略歴]
1996〜2000 アネルバ株式会社（現 キヤノンアネルバ株式会社）半導体装置事業部 技術担当
2000〜2007 三重大学 大学院工学研究科 電気電子工学専攻 助手
2002〜2003 米国ノースカロライナ大学チャペルヒル校 客員研究員
2007～2022 同 准教授
2023〜現在 同 教授

セミナープログラム（予定）

１．薄膜技術ための基礎知識
1.1 真空工学
1.2 表面物性工学
1.3 プラズマ工学

２．物理気相成長（PVD）法
2.1 真空蒸着法
a.原理
b.真空蒸着法の種類
c.真空蒸着法の留意事項
2.2 スパッタ法
a.原理
b.スパッタ法の種類
c.スパッタ法で作製される薄膜の特徴
d.スパッタ法の留意事項

３．化学気相成長（CVD）法
3.1 原理
3.2 化学気相成長法の種類
3.3 化学気相成長法で作製される薄膜の特徴
3.4 化学気相成長法の留意事項

４．薄膜評価法
4.1 形態観察
4.2 膜組成、膜構造分析
4.3 付着力、膜応力測定
4.4 電気的特性、光学的特性測定

５．薄膜作製プロセスで遭遇するさまざまなトラブルと解決策
5.1 膜質に関するトラブル
5.2 装置に関するトラブル

□ 質疑応答 □

公開セミナーの次回開催予定

開催日

未定

開催場所

未定

受講料

未定

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• PDFテキスト(印刷可・編集不可)
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  （開催前日～前々日からを目安にダウンロード可、または送付）

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備考

※講義の録画・録音・撮影はご遠慮ください。
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