薄膜技術の高度化と素材・デバイスへの応用の最新動向（セミナー）

　　セミナー　　生産/製造/加工技術　　表面処理/微細加工　　薄膜技術の高度化と素材・デバイスへの応用の最新動向（セミナー）

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開催日時	未定
担当講師	大薗剣吾講師
開催場所	Zoomによるオンライン受講
定員	オンライン受講24名
受講費	39,600円（税込）

《薄膜形成・品質制御の高度化から先端分野の最新活用事例まで》

薄膜技術の高度化と素材・デバイスへの応用の最新動向

講座概要

真空技術および真空成膜技術は、半導体などの電子デバイスや機械部品の表面機能化のために広く活用されている大変重要な技術です。医療機器や家電、自動車、航空・宇宙など、今後注目される分野においてもますますその活用が見込まれます。

近年の薄膜技術は、装置や材料の進歩が目覚ましく、高品質化を実現しています。しかし薄膜に対する技術的要求もさらに高くなっています。新しい用途や薄膜構成を開発し量産化しようとすると、品質トラブルが発生しやすくなります。高いポテンシャルを持つ真空成膜技術を真に使いこなすには、真空成膜の原理と高品質化の基本を理解して、高い特性や性能を実現しつつ不具合を防止していく必要があります。

本講座では、真空技術および薄膜技術の基本と、各種薄膜技術の原理を紹介し、薄膜の設計から高品質化・不具合対策まで、重要なポイントを解説します。

後半では、医療機器や家電、建材、自動車、航空・宇宙など、今後注目される分野を中心に、薄膜技術の最新の応用事例を技術原理の解説とともに紹介します。

金属やガラスからのプラスチックへの代替、バイオミメティックス（生体模倣）による表面機能付与、IoTへの活用が期待される薄膜電池・センサ・デバイスなど、応用分野は限りなく広がろうとしています。新しい時代のものづくりに必須の薄膜技術の開発活用に役立てていただけると幸いです。

担当講師

大薗剣吾講師

セミナープログラム（予定）

１．薄膜形成に関する基礎知識
1.1 薄膜とは何か～定義、機能～
1.2 薄膜の成長過程
1.3 真空・プラズマ技術の基本
1.4 真空蒸着法の原理
1.5 スパッタリング法の原理
1.6 CVD（化学的気相成長）法の原理
1.7 液相系薄膜形成法の原理
1.8 新しい薄膜形成技術の原理
1.9 薄膜の前処理と後工程

2. 薄膜の設計と機能評価・モニタリング技術
2.1 薄膜の設計・開発の進め方
2.2 薄膜の膜厚測定、膜厚の均一化
2.3 薄膜の光学特性の測定、高度化および安定化
2.4 薄膜の電気特性の測定、高度化および安定化
2.5 薄膜プロセスのモニタリング手法
2.6 薄膜の組織観察、成分分析法
2.7 膜硬度、表面物性、応力、結晶構造の評価
2.8 外観不良・微小欠陥の検査と改善法
2.9 密着性・信頼性の評価と改善法

3. 薄膜技術の高度化と素材・デバイスへの応用
3.1 半導体・電子部品・記録材の素子・配線・接合用薄膜
3.2 装飾・カラーリング・光学機能を変える構造膜
3.3 特殊機能を付与するバイオミメティック薄膜
3.4 建材・航空宇宙への応用が進む熱・電磁波制御薄膜
3.5 自動車・FPD等で用途拡大するガスバリア薄膜
3.6 次世代モバイル用フレキシブル薄膜
3.7 車載用の異形・曲面ディスプレイ、タッチセンサ用薄膜
3.8 ウェアラブル・IoT・通信のセンサ用薄膜
3.9 医療、バイオ、エレクトロニクスで進展する有機薄膜
3.10 その他用途拡大・高度化が期待される薄膜

4．質疑応答

標準実施時間　５時間＋休憩1時間