グラフェンの基礎と透明アンテナ技術【提携セミナー】

グラフェン

グラフェンの基礎と透明アンテナ技術【提携セミナー】

このセミナーは終了しました。次回の開催は未定です。

おすすめのセミナー情報

開催日時 2022/11/10(木)13:30~17:00
担当講師

黄 晋二 氏

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

定員 30名 
受講費 非会員: 49,500円 (本体価格:45,000円)
会員: 46,200円 (本体価格:42,000円)

グラフェンの透明アンテナの特徴とその可能性を分かりやすく解説!

 

グラフェンの基礎と透明アンテナ技術

 

【提携セミナー】

主催:株式会社R&D支援センター

 


セミナー修了後、受講者のみご覧いただける期間限定のアーカイブ配信を予定しております。

 

◆セミナー趣旨

炭素原子1層の厚さを持つグラフェンを用いた透明アンテナ技術についてお話しします。グラフェンの特異な電気伝導物性と光学物性、その作製方法、グラフェンの光学的透過率と電気伝導特性の評価法などを解説した上で、透明アンテナ材料としてのグラフェンの魅力と既存の透明導電膜との比較について解説します。また、我々が世界で初めて作製と動作実証に成功したCVDグラフェン透明アンテナの作製方法と特性、および最新の研究成果を紹介し、今後の研究開発動向についてお話しします。

 

◆習得できる知識

グラフェンという材料の基礎、グラフェンの作製方法、透明導電膜としての特徴とその評価方法、グラフェンの透明アンテナ材料としての特徴、透明アンテナへの応用の実例などの知識が得られます。

 

◆受講対象

グラフェンを透明導電膜として応用する技術に興味関心のある方。特に、IoTや5G技術における新しい透明アンテナ技術に興味関心のある方。

 

◆キーワード

5G,炭素,光学,導電膜,繊維,WEBセミナー,オンライン

 

担当講師

青山学院大学 理工学部 電気電子工学科 教授 博士(工学) 黄 晋二 氏
【専門】
機能性材料の結晶成長/物性評価/デバイス応用
【略歴】
2000年東京大学大学院工学系研究科博士課程修了。博士(工学)東京大学助手、東北大学助手、奈良先端科学技術大学院大学准教授を経て2013年から青山学院大学理工学部准教授。2018年より現職
大学院時代から一貫して半導体などの機能性材料の結晶成長とデバイス応用に関する研究に従事。MBEを用いた化合物半導体薄膜成長、導波路型波長変換デバイス、面発光半導体レーザに関する研究に取り組む。2013年に青山学院大学に着任した際に本格的にグラフェンの結晶成長とデバイス応用に関する研究に着手し、現在、グラフェン膜のCVD成長、ナノカーボンインクを用いた印刷エレクトロニクス、グラフェン透明アンテナ技術、水中残留塩素濃度センサーなどのグラフェン電気化学デバイス技術等の研究開発に取り組んでいる。
【活動】
応用物理学会、電気化学会、ニューダイヤモンドフォーラム等の学会に所属。
2019年12月「初耳学」、2020年4月「チコちゃんに叱られる」に出演。研究室HP:http://www.ee.aoyama.ac.jp/koh-lab/index.html

 

セミナープログラム(予定)

1.グラフェンとは?
1-1 グラフェンの構造
1-2 グラフェンの特異な物性

 

2.グラフェンの作製方法
2-1 スコッチテープ法、化学的剥離法など
2-2 化学気相成長法(CVD)
2-3 グラフェンの転写技術

 

3.グラフェンの透明導電膜としての特性とその評価方法
3-1 グラフェンの光学特性とその測定
3-2 グラフェンのシート抵抗、キャリア密度、キャリア移動度の測定
3-3 グラフェントランジスタの特性評価

 

4.IoT技術、5G技術において注目される透明アンテナ技術
4-1 既存の透明アンテナ技術
4-2 透明アンテナ材料としてのグラフェンの特徴

 

5.CVDグラフェンを用いた透明アンテナ
5-1 単層CVDグラフェンを用いた透明アンテナの作製と評価
5-2 積層と化学ドーピングによるグラフェンの低抵抗化技術
5-3 低抵抗化グラフェンを用いて作製した透明アンテナの作製技術
5-4 低抵抗化グラフェンを用いて作製した透明アンテナの特性(利得、放射効率など)

 

6.まとめ:グラフェンのデバイス応用に関する今後の研究動向

 

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2022年11月10日(木) 13:30~17:00

 

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

 

受講料

非会員: 49,500円 (本体価格:45,000円)
会員: 46,200円 (本体価格:42,000円)

 

会員(案内)登録していただいた場合、通常1名様申込で49,500円(税込)から

  • 1名で申込の場合、46,200円(税込)へ割引になります。
  • 2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計49,500円(2人目無料)です。
  • 3名以上同時申込は1名につき24,750円(税込)です。

 

※セミナー主催者の会員登録をご希望の方は、申込みフォームのメッセージ本文欄に「R&D支援センター会員登録希望」と記載してください。ご登録いただくと、今回のお申込みから会員受講料が適用されます。

 

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備考

資料付き【PDF配布】

  • セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。
    無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。

 

お申し込み方法

★下のセミナー参加申込ボタンより、必要事項をご記入の上お申し込みください。

 

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