EUVリソグラフィの発展・課題とレジスト材料・技術の研究・開発動向【提携セミナー】

EUVリソグラフィ・レジスト材料セミナー

EUVリソグラフィの発展・課題とレジスト材料・技術の研究・開発動向【提携セミナー】

このセミナーは終了しました。次回の開催は未定です。

開催日時 2022/12/7(水)10:30~16:15
担当講師

木下 博雄 氏
藤森 亨 氏
古澤 孝弘 氏

開催場所

Live配信セミナー(会社・自宅にいながら受講可能)

定員 -
受講費 通常申込:55,000円
E-Mail案内登録価格: 52,250円

EUVリソグラフィの発展・

課題とレジスト材料・技術の研究・開発動向

 

【1部】EUVリソグラフィ開発課題 

【2部】EUVレジスト開発動向 

【3部】メタル含有レジスト研究

 

【提携セミナー】

主催:サイエンス&テクノロジー株式会社

 


 

受講可能な形式:【Live配信(アーカイブ配信付)】のみ

※アーカイブは1,2部のみの限定配信

 

第1部では、マスク吸収体材料、Stochastic Errorに対応レジスト、ペリクルなど、新しい材料開発が進むEUVリソグラフィー全体の要素技術・課題・展望について、当技術の先駆者である木下氏が解説。

 

第2部以降ではレジスト材料技術にフォーカスし、Photon StochasticとChemical Stochastic低減のためのアプローチや、メタル含有レジストの反応機構や課題などをご紹介します。

 

セミナー趣旨

※セミナープログラム参照

 

担当講師

第1部(10:30~12:00) アーカイブ有
EUVリソグラフィの要素技術・課題と今後の展望
兵庫県立大学 名誉教授 工学博士 木下 博雄 氏

 

【専門】X線光学、微細加工

 

第2部(13:00~14:30) アーカイブ有
EUVレジストの課題と開発動向
富士フイルム(株) エレクトロニクスマテリアルズ研究所 シニアエキスパート 藤森 亨 氏

 

【専門】有機合成化学、有機化学、リソグラフィ、フォトレジスト

 

第3部(14:45~16:15) アーカイブ無
放射線化学に基いたメタル含有レジストの研究
大阪大学 産業科学研究所 教授 工学博士 古澤 孝弘 氏

 

【専門】応用ビーム工学

 

セミナープログラム(予定)

第1部(10:30~12:00)

 

EUVリソグラフィの要素技術・課題と今後の展望
兵庫県立大学 名誉教授 工学博士 木下 博雄 氏

 

[趣旨]

2017年EUV光源パワーが250Wを達成したことにより、2019年の7nmノードからの本格的な量産が開始された。現在5nmノードまで進展し、Critical layer数層から10数層へと加工領域が広がっており、Smart phone等のMobile機器で身近に微細化の恩恵に預かっている。TSMCの5nmノードからはDouble Patterningの導入、2025年にはNA0.55のHigh NA機が登場し、さらなる微細化が顕著となり、マスク吸収体材料、Stochastic Errorに対応したレジスト材料、ペリクルなど新しい材料開発が進められている。本講演では現状と今後の課題を簡潔にお話したい。

 

[プログラム]

 

1.EUVリソグラフィー開発小史

 

2.EUVリソグラフィーの要素技術と課題

 

3.今後のDevice加工の推移とEUVLの役割

 

4.半導体開発の地政学

 

5.今後の開発課題
5.1 マスク吸収体厚の低減と微細化
5.2 多層膜の寿命拡大への試み
5.3 Pellicle膜の開発
5.4 その他

 

6.高NA機の概要と現状

 

7.まとめ

 

□質疑応答□

 

[得られる知識]
EUVL開発での日本の役割、如何なる技術開発に力点を置くべきか
[こんな人におススメ]
材料開発のリーダー、予備知識は不要
[キーワード]
EUVL, Source, Mask, Resist, Multilayer, Hydrogen damage
[参考図書]
Extreme Ultraviolet Lithography, Principle and Basic Technologies, Hiroo Kinoshita, 2021.9(2nd version)

 

第2部(13:00~14:30)

 

EUVレジストの課題と開発動向
富士フイルム(株) エレクトロニクスマテリアルズ研究所
シニアエキスパート 藤森 亨 氏

 

[趣旨]

電子デバイスのさらなる高速化・大容量化・省電力化に不可欠なEUVレジストは、長い年月を経て2019年に量産適用に至った。しかしながら、期待されるEUVレジストの性能には遠く課題山積である。EUVレジストの課題と開発動向に関し解説する。

 

[プログラム]

1.私たちの世の中を取り巻く環境の変化

 

2.EUVリソグラフィの必要性

 

3.EUVリソグラフィの歴史

 

4.EUVリソグラフィ実現のための国家プロジェクトEIDECでの検討
4.1 アウトガス問題の解決と世界アライン
4.2 メタルレジストの開発

 

5.EUVレジストの課題、最新動向、技術開発の紹介
5.1 ストカスティック(確率論的)因子低減と量産適用に対する開発
5.2 ストカスティックの分析、Photon StochasticとChemical Stochasticの解説
5.3 Photon StochasticとChemical Stochastic低減のためのアプローチ

 

□質疑応答□

 

[得られる知識]
EUVリソグラフィの歴史、実現のための課題とその解決検討状況
[こんな人におススメ]
リソ関連、レジスト材料、原材料従事者、特に若い研究員。化学系企画・マーケティング従事者等
[キーワード]
EUVリソグラフィ、半導体、EUVレジスト、ストカスティック

 

第3部(14:45~16:15)

 

放射線化学に基いたメタル含有レジストの研究
大阪大学 産業科学研究所 教授 工学博士 古澤 孝弘 氏

 

[趣旨]

EUVリソグラフィにおいて、次世代サブ10 nmHP用(オングストロームノード用)として期待されるメタル含有レジストの反応機構と課題について解説します。

 

[プログラム]

 

1.レジストとは

 

2.次世代レジストの課題

 

3.レジストの像形成機構

 

4.なぜ、メタルが必要か

 

5.光吸収と光電子放出

 

6.二次電子と減速過程と熱化

 

7.熱化電子の還元作用

 

8.放射線化学反応

 

9.溶解度変化のメカニズム

 

10.課題

 

11.まとめ

 

□質疑応答□

 

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2022/12/7(水)10:30~16:15

 

開催場所

Live配信セミナー(会社・自宅にいながら受講可能)

 

受講料

一般受講:本体50,000円+税5,000円
E-Mail案内登録価格:本体47,500円+税4,750円

 

E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料
2名で55,000円 (2名ともE-Mail案内登録必須/1名あたり定価半額の27,500円)

 

【テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【Live配信/WEBセミナー受講限定】
1名申込みの場合:受講料39,600円 ( E-Mail案内登録価格 37,620円 )

 

定価:本体36,000円+税3,600円
E-Mail案内登録価格:本体34,200円+税3,420円

 

※1名様でLive配信/WEBセミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
※※お申込みフォームのメッセージ欄に【テレワーク応援キャンペーン希望】とご記載ください。
※他の割引は併用できません。

 

【S&T会員登録】と【E-Mail案内登録】の詳細についてはこちらをご参照ください。

 

※E-Mail案内登録をご希望の方は、申込みフォームのメッセージ本文欄に「E-Mail案内登録希望」と記載してください。ご登録いただくと、今回のお申込みからE-mail案内登録価格が適用されます。

 

配布資料

製本テキスト(開催日の4,5日前に発送予定)
※セミナー資料はお申し込み時のご住所へ発送させていただきます。
※開催まで4営業日~前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が、
開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。
※受講時にはスライドが画面表示されますので 製本テキストがお手元に無くても 受講には差支えございません。

 

オンライン配信のご案内

※【Live配信(zoom使用)対応セミナー】についてはこちらをご参照ください

※【WEBセミナー:アーカイブ受講対応セミナー】についてはこちらをご参照ください

 

備考

※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

 

お申し込み方法

★下のセミナー参加申込ボタンより、必要事項をご記入の上お申し込みください。

 

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