薄膜作製の基礎とトラブル対策《スパッタ、真空蒸着、CVD》【提携セミナー】

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開催日時	【LIVE配信】2025/1/29（水） 13:00～16:00 ,【アーカイブ配信】1/30～2/6
担当講師	佐藤英樹氏
開催場所	【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。
定員	-
受講費	非会員： 55,000円（本体価格：50,000円）会員： 49,500円（本体価格：45,000円）

各種成膜技術の基礎から実務への活用法、

薄膜評価法や成膜プロセスで遭遇するトラブル事例とその対処法について解説する

薄膜作製の基礎とトラブル対策

《スパッタ、真空蒸着、CVD》

【提携セミナー】

主催：株式会社R&D支援センター

◆セミナー趣旨

スパッタ法や真空蒸着法、化学気相成長（CVD）法は、先端材料研究をはじめ、電子デバイス，太陽電池，建材、さらには食品産業まで、さまざまな分野で使用されており、今や我々の生活と切っても切り離せない技術になっています。エレクトロニクスや真空技術の進歩により、現在では高性能な成膜装置が市販されていますが、これらを使いこなすには適切な知識が必要です。たとえば、新たな条件で成膜を行おうとすると、所望の薄膜を得るために条件出しを行わなければなりません。また、成膜プロセスでトラブルが発生すると、その対処に頭を悩ませることになります。そのようなときに必要になるのが、成膜技術に関する基本的かつ系統的な知識です。

本講座では、真空蒸着法やスパッタ法、CVD法などを用いた成膜技術に携わる方々を対象に、これらの技術に関する基礎的かつ系統的な知識を習得し、実際の業務に生かして頂くことを目標とします。

◆習得できる知識

成膜プロセス設計に必要な基礎知識
成膜プロセスで発生したトラブル対応に必要な基礎知識

◆受講対象

薄膜作製に関連する研究・開発・製造業務にたずさわって2～3年の若手技術者や新人の方
薄膜作製に関してある程度の経験はあるが、自分の知識を系統的に整理したい方

◆必要な前提知識

高等学校程度の物理、化学および数学の知識。できるだけ初学者の方でも理解できるよう、数式等の使用は最小限にして解説します

◆キーワード

薄膜,成膜,蒸着,スパッタ,CVD,評価,セミナー

担当講師

三重大学大学院工学研究科電気電子工学専攻教授博士（工学）　佐藤英樹氏

【ご専門】
薄膜・表面物性工学、ナノ材料工学
【ご略歴】
1996〜2000　アネルバ（株）（現キヤノンアネルバ）　半導体装置事業部　技術担当
上記期間中、量産用スパッタリング装置、プラズマCVD装置およびMOCVD装置の開発業務に従事
2000〜2007　三重大学　大学院工学研究科　電気電子工学専攻　助手
2007〜2023　同准教授
2023〜現在　同教授
2002〜2003　米国ノースカロライナ大学チャペルヒル校　客員研究員
上記期間中、各種成膜法を使用したナノカーボン材料の合成およびその応用に関する研究に従事
【ご所属学会】
応用物理学会、日本表面真空学会、フラーレン・ナノチューブ・グラフェン学会、炭素材料学会　会員