エアロゾルデポジション法の基礎と

成膜技術・応用展開

≪原理、装置、成膜条件の膜への影響、成膜体の特徴、各種応用例など≫

【提携セミナー】

主催：サイエンス＆テクノロジー株式会社

受講可能な形式：【Live配信(アーカイブ配信付)】のみ

成膜の原理、装置の構成、成膜条件の膜への影響、成膜粒子の速度測定手法、結晶配向膜の形成、成膜体の特性と各種用途展開など。
エアロゾルデポジション法を活用するための基礎から応用までを詳しく解説します。

セミナー趣旨

エアロゾルデポジション（AD）法は、従来の「高温焼結によってセラミックスを形成する」手法とは全く異なる新規の「焼かない」手法です。室温にてセラミックス粒子を基板に衝突させることで、数ミクロンから数十ミクロン程度の厚さとなる原料粒子と同一組成・結晶構造を有する緻密かつ結晶質な膜が形成します。この手法は、室温にて粒子の運動エネルギーを利用してセラミックス膜を形成することから、エネルギー消費を大きく抑制する環境に配慮した新規の材料創製法として持続可能な社会の構築に必須のプロセス技術だと考えられます。

本セミナーでは、AD法における装置の構成や成膜の特徴、原理について解説するとともに、本手法の応用展開について紹介します。

得られる知識

新規の成膜技術であるエアロゾルデポジション法の基礎（成膜の特徴や装置構成、成膜の原理）や応用展開についての事例などの知識が習得できる。

受講対象

様々な分野において、加熱などが制限された基材へのセラミックスコーティングの成膜が求められる方。
従来の成膜手法との違いや得られる膜の用途展開、将来展望などを把握されたい方。

担当講師

横浜国立大学　大学院工学研究院　システムの創生部門　教授　博士（工学）　長谷川 誠　氏

専門：材料強度学、材料組織制御学、高温強度、表面処理・コーティング、集合組織

セミナープログラム（予定）

１．エアロゾルデポジション(AD)法による成膜の特徴
1.1 背景
1.2 AD装置の構成
1.3 成膜条件が膜の形成に与える影響
1.3.1 アルミナ粒子での成膜
1.3.2 ジルコニア(YSZ)粒子での成膜
1.3.3 ムライト粒子での成膜
1.3.4 金属粒子での成膜

２．エアロゾルデポジション(AD)法による成膜の原理
2.1 近年提唱されている成膜原理
2.2 シミュレーションによる成膜の理解
2.3 成膜粒子の速度測定手法
2.4 粒子速度および粒子のエネルギーに基づいた成膜の解析
2.5 AD法による結晶配向膜の形成

３．成膜体の特性と用途展開
3.1 粒子配向チタン酸ビスマスAD膜の物性
3.2 AD法による低発塵性部材
3.3 プラスチックへのAD法の適用
3.4 ADアルミナ硬質膜のローラへの適用
3.5 AD膜の環境遮蔽膜としての可能性

□質疑応答□

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2025/4/23（水）10:30～16:30

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

受講料

一般受講：本体50,000円＋税5,000円
E-Mail案内登録価格：本体47,500円＋税4,750円

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2名で55,000円 (2名ともE-Mail案内登録必須／１名あたり定価半額の27,500円)

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1名申込み： 受講料 44,000円(E-Mail案内登録価格 42,020円 )

定価：本体40,000円＋税4,000円
E-Mail案内登録価格：本体38,200円＋税3,820円

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配布資料

PDFテキスト(印刷可・編集不可)
※開催2日前を目安に、主催者サイトのマイページよりダウンロード可となります。

オンライン配信のご案内

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アーカイブ配信について
視聴期間：終了翌営業日から7日間［4/24～4/30］を予定
※動画は未編集のものになります。
※視聴ページは、遅くとも終了翌営業日の正午までにマイページにリンクを設定する予定です。

備考

※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

お申し込み方法

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