タグ: スパッタリング

生産技術のツボ

真空蒸着・スパッタリング・イオンプレーティングの違いがわかる！原理/装置/特徴を比較解説

今回は、半導体の製造現場などで広く使用されている成膜方法である「真空蒸着」「スパッタリング」「イオンプレーティング」について、各技術の原理・仕組み・装置構成などを説明します。 どれも似たような技術であるため …

化学

ナノ粒子とは？特徴、作り方、用途、危険性など要点解説！《ナノ粒子入門①》

近年、ナノテクノロジーは様々な分野で進歩しており、その中でも「ナノ粒子」は様々な材料が研究対象となり応用が検討されています。 この連載では、複数回に渡ってナノ粒子の基礎知識について解説していきたいと思います …

３分でわかる技術のキホン

３分でわかる 成膜技術PVDとは？CVDとの違いは？

当連載の「ALD(原子層堆積法)とは？」との回で、「CVD」（化学気相成長、化学気相堆積）についてご説明しました。 真空等を利用した成膜技術（蒸着技術）として、「CVD」の他に「PVD」と呼ばれる方法があり …

生産技術・設備技術

真空装置内の異物対策を解説｜微細ダスト(パーティクル)の発生原因と運用の注意点

微細なダストが半導体等のデバイスの特性に影響を与える場合は、特にこれらを「パーティクル」（微粒子）と呼び、欠陥の一因とされます。 本記事では、真空装置内の微細ダスト発生の原因とその対策について取り上げます。 …

生産技術・設備技術

真空装置の熱源と熱対策を総整理！装置内部の部材・部品を熱ダメージから守るには？

真空装置に関する前回の記事では、真空装置内の部材に生じる「腐食」の原因と対策について紹介しました。その「腐食」とともに問題になるのが、熱によるダメージの対策になります。 今回は、真空装置内の部材・部品（機械 …

生産技術・設備技術

《真空技術の基礎》真空環境の5つの特徴がもたらす優位性と注意点

半導体製造の前工程などで基本技術となっている「真空」に関わる技術のTIPSを紹介します。 今回は、一般大気環境と真空環境下におけるふるまいの違いを取り上げます。 １．真空環境の特徴とは？ 真空環境には大まか …

【展示会情報】N-PLUS　「New」「Next」をプラスする製品開発技術展

《主催者サイトより》 N-PLUSは素材から加工技術、構成技術である部品、製品までを網羅した“ものづくりの複合展”です。今年は「ニッポンの素材と技術が世界を創る」をテーマに大幅リニューアル。日本のものづくり …

表面処理

【半導体製造プロセス入門】PVD装置(スパッタリング装置)の要点解説 [成膜装置の基本③]

今回は、成膜装置のうち、気相成長装置としてPVD（物理的気相成長）装置について解説します。 （※PVDの基礎知識は「３分でわかる 成膜技術”PVD”とは？CVDとの違いは？」をご参照ください）   …

３分でわかる技術のキホン

３分でわかる アモルファス合金の基礎知識 (特徴/組成/製造方法など)

「金属」といえば、結晶構造をもつ硬質で規則正しい素材というイメージが一般的ですが、そのイメージを覆す存在が「アモルファス合金」（非晶質合金）です。急冷技術によって金属原子の配列をランダムなまま凍結させたこの …

表面処理

スパッタリング薄膜の品質について

  スパッタリング薄膜とは？ スパッタリングは、いわゆる薄膜技術の一つで、しかも代表的な技術といえます。 半導体のウェハプロセスで使われる膜の多くがスパッタリング膜です。 また液晶ディスプレイやL …

３分でわかる技術のキホン

３分でわかる技術の超キホン 「薄膜」とは？

    薄膜とは？ 薄膜は「はくまく」と呼びます。文字通り、薄い膜のことです。 膜そのものとして独立したもの（フィルターなどで使う膜や、薄～く延ばされた金箔など）のことをいう場合もありま …