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表面処理

成膜技術”CVD”の基本がわかる！原理・仕組み・種類などを初心者向けに解説

薄膜形成技術は半導体や光学デバイスなど先端製品の性能向上や小型化に不可欠であり、その中でも「CVD」は様々な分野で活躍している技術です。 このコラムでその原理・仕組み・種類から装置まで徹底解説いたします。 …

化学

半導体製造に使われるガスを丸ごと理解！種類と役割、実務知識まで各プロセス対応の決定版

AI、スマートフォン、自動運転自動車、データセンターなど多くの機器が半導体の進化を背景に日々進化し続けている現代です。 半導体は、いくつもの工程を経て製品として完成します。その工程の中で半導体製造用ガスは、 …

３分でわかる技術のキホン

３分でわかる カーボンナノチューブの基礎知識《製法/特徴/炭素繊維との比較など》

１．カーボンナノチューブとは？ 「カーボンナノチューブ」（Carbon Nanotube、略称「CNT」）とは、黒鉛（グラファイト）に似た構造を有する炭素材料です。黒鉛は平面状の多層構造ですが、CNTはこの …

化学

ナノ粒子とは？特徴、作り方、用途、危険性など要点解説！《ナノ粒子入門①》

近年、ナノテクノロジーは様々な分野で進歩しており、その中でも「ナノ粒子」は様々な材料が研究対象となり応用が検討されています。 この連載では、複数回に渡ってナノ粒子の基礎知識について解説していきたいと思います …

３分でわかる技術のキホン

３分でわかる 成膜技術PVDとは？CVDとの違いは？

当連載の「ALD(原子層堆積法)とは？」との回で、「CVD」（化学気相成長、化学気相堆積）についてご説明しました。 真空等を利用した成膜技術（蒸着技術）として、「CVD」の他に「PVD」と呼ばれる方法があり …

３分でわかる技術のキホン

３分でわかる ALD(原子層堆積法)とは？原理,特徴,CVDとの比較など要点解説

１．ALDとは？ ALD（原子層堆積, Atomic Layer Deposition）は、気相の自己制御式な表面化学反応を利用した真空薄膜形成技術であり、CVD（化学気相堆積, chemical vapo …

生産技術・設備技術

真空装置内の異物対策を解説｜微細ダスト(パーティクル)の発生原因と運用の注意点

微細なダストが半導体等のデバイスの特性に影響を与える場合は、特にこれらを「パーティクル」（微粒子）と呼び、欠陥の一因とされます。 本記事では、真空装置内の微細ダスト発生の原因とその対策について取り上げます。 …

生産技術・設備技術

真空装置の熱源と熱対策を総整理！装置内部の部材・部品を熱ダメージから守るには？

真空装置に関する前回の記事では、真空装置内の部材に生じる「腐食」の原因と対策について紹介しました。その「腐食」とともに問題になるのが、熱によるダメージの対策になります。 今回は、真空装置内の部材・部品（機械 …

生産技術・設備技術

《真空技術の基礎》真空環境の5つの特徴がもたらす優位性と注意点

半導体製造の前工程などで基本技術となっている「真空」に関わる技術のTIPSを紹介します。 今回は、一般大気環境と真空環境下におけるふるまいの違いを取り上げます。 １．真空環境の特徴とは？ 真空環境には大まか …

３分でわかる技術のキホン

３分でわかる C/Cコンポジットの基礎知識(特徴・製造方法・用途など)

「C/Cコンポジット（炭素繊維強化炭素複合材料）」は、炭素を炭素繊維で強化した複合材料です。 CFRPやGFRPなどの樹脂複合材料よりも認知度は低いですが、引張強度が高く、耐食性に優れる材料として特に航空機 …

化学

グラフェンの商業利用に向けた課題と開発動向

１．いま注目の技術「グラフェン」 図1をご覧ください１）。 単層あるいは複数層の極薄グラファイトシートである「グラフェン」をご存じでしょうか。 グラフェンは2004年にGeimとNovoselovがグラファ …

表面処理

【半導体製造プロセス入門】CVD装置の種類・分類と特徴 [成膜装置の基本②]

前回の当連載では、成膜装置の分類をご紹介しました。 その成膜装置の分類のうち「気相成長装置」に該当するものとして、エピタキシャル成長装置、CVD（化学的気相成長）装置、PVD（物理的気相成長）装置、蒸着装置 …

３分でわかる技術のキホン

３分でわかる技術の超キホン 「薄膜」とは？

    薄膜とは？ 薄膜は「はくまく」と呼びます。文字通り、薄い膜のことです。 膜そのものとして独立したもの（フィルターなどで使う膜や、薄～く延ばされた金箔など）のことをいう場合もありま …