★ チャンバー材料の腐食やパーティクルの発生を抑えるための技術を徹底解説！

プラズマエッチングにおける

プロセス不良の検出とプラズマ耐性材料の評価技術

【提携セミナー】

主催：株式会社技術情報協会

講座内容

現在、半導体は産業上の一部品としてではなく、経済安全保障にも関わる極めて重要な「特定重要物資」として取り扱われています。半導体製造技術の最先端では2nm、更にはより以細な製造技術の研究開発も進められています。その一方、我が国の半導体産業の特長の一つは、車載用マイコンやセンサ用半導体、パワー半導体を始めとして最先端の微細製造技術を必ずしも必要としない半導体デバイスに競争力を有することです。 本セミナーでは、後者の製造を多く担う、いわゆるレガシーファブの量産ラインの前工程において、装置稼働率や歩留まりの向上に必要となる製造技術について紹介します。前工程の中でも、特に収益性に関わりが大きいプラズマエッチングプロセス及びその装置に関し、不良発生の抑止や予知保全、メンテナンス費用削減、装置機差の低減等に資する技術について解説します。

習得できる知識

プラズマエッチングプロセスにおける異常検出やプロセスモニタリング手法（パーティクル検出、異常放電検出、プロセスチャンバー状態診断等）、プラズマプロセス装置チャンバー内部品部材のプラズマ耐性評価についての知識

担当講師

(国研)産業技術総合研究所　センシングシステム研究センター　複合センシングデバイス研究チーム　主任研究員　博士(工学)　笠嶋 悠司 氏

セミナープログラム（予定）

1.はじめに
1.1 半導体を取り巻く情勢、半導体産業界の動向
1.2 半導体の製造工程とプラズマプロセス
1.3 量産ラインにおけるプラズマプロセスの課題
1.4 半導体製造効率と歩留まり
1.5 プラズマエッチングプロセス

2.プラズマエッチングプロセスにおけるパーティクルの課題
2.1 パーティクル対策の必要性
2.2 パーティクルのその場検出手法
2.3 パーティクルの発生メカニズム

3.プラズマプロセスにおける異常モニタリング・検出技術
3.1 プロセス異常モニタリングの必要性
3.2 異常放電の課題
3.3 異常モニタリング、検出手法（アコースティックエミッション手法、プラズマインピーダンスモニタリング手法等）

4.プラズマ耐性材料とその評価技術
4.1 プロセスチャンバー用部品部材の腐食とパーティクル発生
4.2 高プラズマ耐性材料
4.3 チャンバー部品部材のプラズマ耐性評価手法～セラミックス部材を例として

【質疑応答】

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2024/10/4（金）10:30~16:30

開催場所

Zoomによるオンライン受講

受講料

1名につき55,000円(消費税込･資料付き)
〔1社2名以上同時申込の場合1名につき49,500円(税込)〕

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