★EUVリソグラフィーの基礎からEUVフォトプロセスの最適化と評価、

最新のメタルレジストについても解説します！

EUVレジストの特性と

評価および要素技術の開発動向

【提携セミナー】

主催：株式会社R&D支援センター

◆セミナー趣旨

EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術について解説します。特に、現在開発が進んでいる次世代EUVレジストである、メタルレジストの特徴と評価方法についても、解説します。

◆習得できる知識

EUVリソグラフィーの基礎知識
EUVフォトプロセスの最適化方法の習得
EUVフォトプロセスの評価方法の習得

◆キーワード

EUV、レジスト、リソグラフィー、アウトガス、評価、フォト、メタル

担当講師

リソテックジャパン（株）　ナノサイエンス研究部　部長　博士（工学）　関口　淳　氏
（大阪公立大学　大学院工学研究科　客員教授）

【経歴】
1983年3月　芝浦工業大学 応用化学科 卒業
1983年4月　日本ケミテック 入社。分析研究所に勤務
1985年4月　住友GCA社に入社。レジスト塗布現像装置のプロセス開発に従事。その後、レジスト解析装置および形状シミュレータのシステム開発に従事。
現在、リソテックジャパン（株） 専務取締役
2019年4月～　立命館大学 客員教授
2020年4月～　大阪府立大学 客員教授、大阪市立大学 客員教授
2000年　東京電機大学にて工学博士
応用物理学会 会員。高分子学会 会員

【受賞】
2026年　精密工学会　技術賞

【著作】
1）感光性フォトレジスト材料の評価
2）リソグラフィー技術・その40年
3）ノボラックレジスト・材料とプロセスの最適化
その他論文多数

セミナープログラム（予定）

1．EUVLの概要
1.1　EUVLの概要
1.2　EUVL用レジスト

2．アウトガス評価技術
2.1　EUVLレジストのアウトガス評価方法
2.2　EUVLレジストのアウトガス評価装置

3．EUVレジストの評価技術
3.1　EUV透過率測定
3.2　ナノパーティクル添加レジストの高感度化
3.3　屈折率nk測定
3.4　EUV2光束干渉露光

4．EUVメタルレジストの評価技術
4.1　メタルレジストの概要
4.2　EUVメタルレジストのアウトガス分析
4.3　EUVメタルレジストの問題点

5．EUVフォトレジストと電子線レジストの感度

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2022年08月04日（木） 13:00～16:00

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

受講料

非会員： 49,500円 （本体価格：45,000円）
会員： 39,600円 （本体価格：36,000円）

会員（案内）登録していただいた場合、通常1名様申込で49,500円（税込）から

• 1名で申込の場合、39,600円（税込）へ割引になります。
• 2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計49,500円（2人目無料）です。

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備考

• 本セミナーは「Zoom」を使ったWEB配信セミナーです。
• セミナー資料は事前にお送りします。セミナー資料の無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。この点にご了承の上、お申し込みください。

お申し込み方法

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