レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策

《リソグラフィの基礎、レジスト材の高性能化、評価技術、最近のリソグラフィ技術》

※セミナー終了後に個別相談会（希望者のみ）を実施！

セミナー内容に関する質問や現場での困りごとを相談できます！

【提携セミナー】

主催：株式会社R&D支援センター

◆　受講対象・レベル

【１】レジスト材料の研究開発、製造、品質管理、販売
【２】半導体、ディスプレイ、MEMS、センサーなどのデバイス開発、製造、販売
上記に従事されている方々（リーダークラスの方も歓迎です）

◆　習得できる知識

• レジストを製造するための基礎知識、設計概念と具体的方法
• レジストの品質管理手法
• レジストを使用する際の留意事項、トラブル対応能力
• リソグラフィープロセスの最適化方法
• リソグラフィー使用現場におけるトラブル対応能力
• 素材メーカー、レジストメーカーとしての顧客対応能力

担当講師

（株）光機能材料研究所　代表取締役　工学博士　花畑 誠　氏

セミナープログラム（予定）

１． リソグラフィの基礎
（１）リソグラフィーとは
（２）露光システムとリソグラフィー装置の変遷
（３）解像度向上技術とそれに必要な材料

２．レジスト材料とその高性能化
（１）パターンニング用レジスト材料（総論）
（２）G線、i線用レジスト
（３）KrF用レジスト
（４）ArFおよびArF液浸用レジスト
（５）EUV用レジスト
（６）後工程（実装材料）用のレジスト

３．レジスト製造技術と品質管理
（１）レジスト製造技術
（２）レジストの性能安定化技術
（３）品質管理－その項目と管理方法

４．レジスト材料の評価技術
（１）性能評価
素材（樹脂、感光剤、添加物）やレジストの簡便かつ安価な評価方法をご紹介します。
（２）品質評価
顧客からの要求項目、スペック項目についての評価方法を述べます。
（３）シミュレーション技術

５．レジスト製造、および使用現場におけるトラブル対応
（１）素材（樹脂、感光剤、添加物）製造時のトラブル
（２）レジスト製造時のトラブル
（３）レジスト販売時のトラブル
（４）レジスト使用時のトラブル
上記のそれぞれについて、①原因、②評価方法、③解決策を、材料面およびリソグラフィープロセス面から述べ、あわせて顧客対応策について詳述します。

６．20nm以下のリソグラフィー技術
（１）ダブルパターンニング技術
（２）DSA技術とその材料
（３）ナノインプリント技術
（４）今後のリソグラフィー技術

【質疑応答】

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2024年06月28日（金） 10:30～16:30

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

受講料

非会員：  55,000円 （本体価格：50,000円）
会員：  44,000円 （本体価格：40,000円）

会員の方あるいは新規会員登録していただくと、下記の割引が適用されます。

• 1名申込の場合、55,000円（税込）→44,000円（税込）
• 2名同時申込の場合、合計110,000円（税込）→合計55,000円（税込）
  ※両名の会員登録が必要です。

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備考

• 本セミナーは「Zoom」を使ったWEB配信セミナーとなります。

• セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。

お申し込み方法

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