レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策【提携セミナー】

レジストリソグラフィの基礎_トラブル解決策

レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策【提携セミナー】

開催日時 2021/5/25(火)10:30~16:30
担当講師

花畑 誠 氏

開催場所

【Zoomを使ったLIVE配信セミナー】

定員 30名
受講費 非会員: 55,000円(税込)
会員: 44,000円(税込)

~リソグラフィの基礎、レジスト材の高性能化、評価技術、最近のリソグラフィ技術など~

 

レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策

 

【提携セミナー】

主催:株式会社R&D支援センター

 


 

◆ 持参物

受講にはWindowsPCを推奨しております。
タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。

 

◆ 受講対象・レベル

(1)レジスト材料の研究開発、製造、品質管理、販売
(2)半導体、ディスプレイ、MEMS、センサーなどのデバイス開発、製造、販売
上記に従事されている方々およびリーダークラスの方々。

 

◆ 習得できる知識

・レジストを製造するための基礎知識、設計概念と具体的方法
・レジストの品質管理手法
・レジストを使用する際の留意事項、トラブル対応能力
・リソグラフィープロセスの最適化方法
・リソグラフィー使用現場におけるトラブル対応能力
・素材メーカー、レジストメーカーとしての顧客対応能力

 

 

 

担当講師

(株)光機能材料研究所 代表取締役 工学博士 花畑 誠 氏

 

セミナープログラム(予定)

1.リソグラフィの基礎
(1)リソグラフィーとは
(2)露光システムとリソグラフィー装置の変遷

 

2.レジスト材料とその高性能化
(1)パターンニング用レジスト材料(総論)
(2)G線、i線用レジスト
(3)KrF用レジスト
(4)ArFおよびArF液浸用レジスト
(5)EUV用レジスト

 

3.レジスト製造技術と品質管理
(1)レジスト製造技術
(2)レジストの性能安定化技術
(3)品質管理-その項目と方法

 

4.レジスト材料の評価技術
(1)性能評価
(2)品質評価
(3)シミュレーション技術

 

5.レジスト製造、および使用現場におけるトラブル対応
(1)種々のトラブルとその解決策(材料面から)
(2)種々のトラブルとその解決策(プロセス面から)
(3)顧客対応の方法

 

6.20nm以下のリソグラフィー技術
(1)ダブルパターンニング技術
(2)DSA技術とその材料
(3)ナノインプリント技術
(4)今後のリソグラフィー技術

 

【質疑応答】

 

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2021年05月25日(火)10:30~16:30

 

開催場所

【Zoomを使ったLIVE配信セミナー】※在宅、会社にいながらセミナーを受けられます

 

受講料

非会員: 55,000円(税込)
会員:  44,000円(税込)

 

※会員(案内)登録していただいた場合、通常1名様申込で 55,000円(税込)から
★1名で申込の場合、 44,000円(税込)へ割引になります。
★2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計 55,000円(2人目無料)です。

 

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備考

  • 資料付
  • セミナー資料は事前にお送りいたします。
  • 講義の録音、録画などの行為や、テキスト資料、講演データの権利者の許可なく複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。

 

お申し込み方法

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