レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策【提携セミナー】

レジストリソグラフィの基礎_トラブル解決策

レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策【提携セミナー】

このセミナーは終了しました。次回の開催は未定です。

おすすめのセミナー情報

開催日時 2024/6/28(金) 10:30~16:30
担当講師

花畑 誠 氏

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

定員 30名 ※現在、お申込み可能です。満席になり次第、募集を終了させていただきます。
受講費 非会員: 55,000円 (本体価格:50,000円)
会員: 44,000円 (本体価格:40,000円)

 

レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策

 

《リソグラフィの基礎、レジスト材の高性能化、評価技術、最近のリソグラフィ技術》

 

※セミナー終了後に個別相談会(希望者のみ)を実施!

セミナー内容に関する質問や現場での困りごとを相談できます!

 

【提携セミナー】

主催:株式会社R&D支援センター

 


 

◆ 受講対象・レベル

【1】レジスト材料の研究開発、製造、品質管理、販売
【2】半導体、ディスプレイ、MEMS、センサーなどのデバイス開発、製造、販売
上記に従事されている方々(リーダークラスの方も歓迎です)

 

◆ 習得できる知識

  • レジストを製造するための基礎知識、設計概念と具体的方法
  • レジストの品質管理手法
  • レジストを使用する際の留意事項、トラブル対応能力
  • リソグラフィープロセスの最適化方法
  • リソグラフィー使用現場におけるトラブル対応能力
  • 素材メーカー、レジストメーカーとしての顧客対応能力

 

担当講師

(株)光機能材料研究所 代表取締役 工学博士 花畑 誠 氏

 

セミナープログラム(予定)

1. リソグラフィの基礎
(1)リソグラフィーとは
(2)露光システムとリソグラフィー装置の変遷
(3)解像度向上技術とそれに必要な材料

 

2.レジスト材料とその高性能化
(1)パターンニング用レジスト材料(総論)
(2)G線、i線用レジスト
(3)KrF用レジスト
(4)ArFおよびArF液浸用レジスト
(5)EUV用レジスト
(6)後工程(実装材料)用のレジスト

 

3.レジスト製造技術と品質管理
(1)レジスト製造技術
(2)レジストの性能安定化技術
(3)品質管理-その項目と管理方法

 

4.レジスト材料の評価技術
(1)性能評価
素材(樹脂、感光剤、添加物)やレジストの簡便かつ安価な評価方法をご紹介します。
(2)品質評価
顧客からの要求項目、スペック項目についての評価方法を述べます。
(3)シミュレーション技術

 

5.レジスト製造、および使用現場におけるトラブル対応
(1)素材(樹脂、感光剤、添加物)製造時のトラブル
(2)レジスト製造時のトラブル
(3)レジスト販売時のトラブル
(4)レジスト使用時のトラブル
上記のそれぞれについて、①原因、②評価方法、③解決策を、材料面およびリソグラフィープロセス面から述べ、あわせて顧客対応策について詳述します。

 

6.20nm以下のリソグラフィー技術
(1)ダブルパターンニング技術
(2)DSA技術とその材料
(3)ナノインプリント技術
(4)今後のリソグラフィー技術

 

【質疑応答】

 

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2024年06月28日(金) 10:30~16:30

 

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

 

受講料

非会員:  55,000円 (本体価格:50,000円)
会員:  44,000円 (本体価格:40,000円)

 

会員の方あるいは新規会員登録していただくと、下記の割引が適用されます。

  • 1名申込の場合、55,000円(税込)→44,000円(税込)
  • 2名同時申込の場合、合計110,000円(税込)→合計55,000円(税込)
    ※両名の会員登録が必要です。

 

※セミナー主催者の会員登録をご希望の方は、申込みフォームのメッセージ本文欄に「R&D支援センター会員登録希望」と記載してください。ご登録いただくと、今回のお申込みから会員受講料が適用されます。

 

※R&D支援センターの会員登録とは?
ご登録いただきますと、セミナーや書籍などの商品をご案内させていただきます。
すべて無料で年会費・更新料・登録費は一切かかりません。

 

LIVE配信のご案内

こちらをご参照ください

 

備考

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったWEB配信セミナーとなります。

 

  • セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。

 

お申し込み方法

★下のセミナー参加申込ボタンより、必要事項をご記入の上お申し込みください。

 

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