EUVリソグラフィ・レジストの基礎・最新開発動向から現状課題と展望まで【提携セミナー】

EUVリソグラフィ・レジスト材料セミナー

EUVリソグラフィ・レジストの基礎・最新開発動向から現状課題と展望まで【提携セミナー】

このセミナーは終了しました。次回の開催は未定です。

おすすめのセミナー情報

開催日時 2023/8/29(火)10:30-16:30 
担当講師

遠藤 政孝 氏

開催場所

Zoomによるオンラインセミナー

定員 -
受講費 【オンライン:見逃し視聴なし】 47,300円
【オンライン:見逃し視聴あり】 52,800円

○更なる適用拡大・研究開発進む、EUVリソグラフィについてレジストを中心に解説!

○EUVリソグラフィの各要素技術の基本と課題から、EUVレジストへの要求特性と設計指針、

最新市場・技術動向、注目技術メタルレジストの詳細解説まで。

 

EUVリソグラフィ・レジストの基礎・

最新開発動向から現状課題と展望まで

 

【提携セミナー】

主催:株式会社情報機構

 


 

メモリー、マイクロプロセッサ等の半導体の高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い益々大きくなっており、2022年には3nmロジックノード(最小パターン線幅12nm)を迎えた。EUVリソグラフィ、EUVレジストは、この最先端デバイスに使用され、今後も主流技術となっていく。

 

本講演では、リソグラフィの基本、リソグラフィ技術の変遷、ロードマップとリソグラフィ技術、最先端デバイスの動向を示した後、3nmロジックノード以降を支えるEUVリソグラフィの最新技術を述べる。EUVレジストについて、基礎(特徴、要求特性、設計指針など)、最新技術(課題と対策、開発動向と性能など)、最新動向を詳細に解説する。EUVレジストの最新技術では、注目されているメタルレジストを詳細に解説する。最後にEUVリソグラフィ、EUVレジストの今後の展望、EUVレジストの市場動向についてまとめる。

 

◆受講後、習得できること

  • リソグラフィの基本
  • ロードマップと対応するリソグラフィ技術の把握
  • EUVリソグラフィの基礎知識、最先端技術
  • EUVレジストの基礎知識、最先端技術
  • EUVレジストの要求特性、設計指針
  • EUVレジストの課題と対策
  • EUVレジストのビジネス動向
    など

 

◆受講対象者

  • 本テーマに興味のある企業の研究者、技術者、製造販売担当、新規事業開発担当、企画担当、特許担当、市場アナリスト、特許アナリストの方
  • これらの職種を希望される学生の方

 

◆必要な予備知識など

  • 基本から解説しますので予備知識は不要です。

 

担当講師

大阪大学 産業科学研究所 招聘教授 遠藤 政孝 先生

 

1983年松下電器産業株式会社入社。以来同社半導体研究センター、パナソニック株式会社セミコンダクター社プロセス開発センターにて、半導体リソグラフィプロセス、レジスト、微細加工用材料の開発に従事。
2009年から大阪大学産業科学研究所にて、レジスト材料、EUVレジストの研究開発に従事。

 

セミナープログラム(予定)

1.ロードマップとリソグラフィ技術
1)リソグラフィの基本
2)リソグラフィ技術の変遷
a)ArF液浸リソグラフィ
b)ダブル/マルチパターニング
3)ロードマップ:IRDS
a)リソグラフィへの要求特性
b)レジストへの要求特性
4)微細化に対応するリソグラフィ技術の選択肢
5)最先端デバイスの動向

 

2.EUVリソグラフィの最新技術
1)EUVリソグラフィの特徴
2)EUVリソグラフィの基本と課題
a)露光装置
b)光源
c)マスク
d)プロセス
3)EUVリソグラフィのトピックスと今後の動向

 

3.EUVレジストの基礎
1)EUVレジストの特徴
a)EUVレジストの反応機構
b)KrF/ArFレジストとの比較
2)EUVレジストの要求特性
3)EUVレジストの設計指針
a)EUVレジスト用ポリマー
b)EUVレジスト用酸発生剤

 

4.EUVレジストの最新技術
1)EUVレジストの課題と対策
a)感度/解像度/ラフネスのトレードオフ
b)ランダム欠陥(Stochastic Effects)
2)EUVレジストの開発動向と性能
a)分子レジスト
b)ネガレジストプロセス
c)ポリマーバウンド酸発生剤を用いる化学増幅型レジスト
d)フッ素含有ポリマーレジスト
3)EUVメタルレジスト
a)メタルレジストの特徴
b)メタルレジストの性能
c)メタル増感剤
4)EUVレジストの今後の動向

 

5.EUVリソグラフィ、EUVレジストの今後の技術展望

 

6.EUVレジストの市場動向

 

<質疑応答>

 

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2023年8月29日(火) 10:30-16:30 *途中、お昼休みや小休憩を挟みます。

 

開催場所

Zoomによるオンラインセミナー

 

受講料

【オンライン:見逃し視聴なし】 1名47,300円(税込、資料付)
*1社2名以上同時申込の場合、1名につき36,300円

 

【オンライン:見逃し視聴あり】 1名52,800円(税込、資料付)
*1社2名以上同時申込の場合、1名につき41,800円

 

*学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。

 

オンライン配信のご案内

★ Zoomによるオンライン配信

については、こちらをご参照ください

 

備考

※配布資料・講師への質問等について

●配布資料は、印刷物を郵送で送付致します。
お申込の際はお受け取り可能な住所をご記入ください。
お申込みは4営業日前までを推奨します。
それ以降でもお申込みはお受けしておりますが(開催1営業日前の12:00まで)、
テキスト到着がセミナー後になる可能性がございます。

 

●当日、可能な範囲で質疑応答も対応致します。
(全ての質問にお答えできない可能性もございますので、予めご容赦ください。)
●本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり
無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止致します。

 

お申し込み方法

★下のセミナー参加申込ボタンより、必要事項をご記入の上お申し込みください。

★【オンラインセミナー(見逃し視聴なし)】、【オンラインセミナー(見逃し視聴あり)】のいずれかから、ご希望される受講形態をメッセージ欄に明記してください。

 

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