レジスト・微細加工用材料の基礎・要求特性と最新技術動向【提携セミナー】

レジスト_微細加工用材料

レジスト・微細加工用材料の基礎・要求特性と最新技術動向【提携セミナー】

開催日時 2021/4/23(金)10:30~16:30
担当講師

遠藤 政孝 氏

開催場所

Zoomによるオンラインセミナー

定員 -
受講費 【オンラインセミナー(見逃し視聴なし)】:47,300円
【オンラインセミナー(見逃し視聴あり)】:52,800円

★知っておくべき基本から、EUV/DSA/液浸リソグラフィ、ナノインプリント、

ダブルパターニング等これから求められるリソグラフィの材料特性や最新動向・展望まで!

 

レジスト・微細加工用材料
基礎・要求特性と最新技術動向
~次世代リソグラフィ、パターニングへの対応~

 

【提携セミナー】

主催:株式会社情報機構

 


 

メモリー、マイクロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い益々大きくなっており、5nmロジックノードとなっている。本講演では、これらのデバイスの微細化を支えるレジスト、微細加工用材料の基礎、要求特性、課題と対策、最新技術・動向を解説し、今後の展望、市場動向についてまとめる。

 

◆ 受講対象者:
・本テーマに興味のある企業の研究者、技術者、製造販売担当、新規事業開発担当、企画担当、特許担当、市場アナリストの方
・これらの職種を希望される学生の方

 

◆ 必要な予備知識:
基本から解説しますので予備知識は不要です。

 

◆ 本セミナーで習得できること:
・レジスト・微細加工用材料の基礎知識
・リソグラフィの基礎知識・最新技術
・レジスト・微細加工用材料の要求特性
・レジスト・微細加工用材料の課題と対策
・レジスト・微細加工用材料の最新技術・ビジネス動向
など

 

担当講師

大阪大学 産業科学研究所 招聘教授 遠藤 政孝 氏

 

セミナープログラム(予定)

1.はじめに
1)リソグラフィの基礎
a)露光
・コンタクト露光
・ステップ&リピート露光
・スキャン露光
b)照明方法
・斜入射(輪帯)照明
c)マスク
・位相シフトマスク
・光近接効果補正(OPC)
・マスクエラーファクター(MEF)
d)レジストプロセス
・反射防止プロセス
・ハードマスクプロセス
・化学機械研磨(CMP)技術
2)ロードマップ
a)IRDSロードマップ
・リソグラフィへの要求特性
・レジストへの要求特性
b)微細化に対応するリソグラフィ技術の選択肢
c)最先端携帯端末へのリソグラフィ技術の適用

 

2.レジストの基礎
1)溶解阻害型レジスト
a)g線レジスト
b)i線レジスト
2)化学増幅型レジスト
a)KrFレジスト
b)ArFレジスト
c)化学増幅型レジストの安定化技術

 

3.液浸リソグラフィ
1)液浸リソグラフィの基本と課題
a)従来NAレンズでの液浸リソグラフィ
b)高NAレンズでの液浸リソグラフィ
2)液浸リソグラフィ用トップコート
3)液浸リソグラフィ用レジスト
a)液浸リソグラフィ用レジストの要求特性
b)液浸リソグラフィ用レジストの設計指針

 

4.ダブル/マルチパターニング
1)ダブル/マルチパターニングの基本と課題
2)リソーエッチ(LE)プロセス用材料
3)セルフアラインド(SA)プロセス用材料

 

5.EUVリソグラフィ
1)EUVリソグラフィの基本と課題
2)EUVレジスト
a)EUVレジストの要求特性
b)EUVレジストの設計指針
・EUVレジスト用ポリマー
・EUVレジスト用酸発生剤
c)EUVレジストの課題と対策
・感度/解像度/ラフネスのトレードオフ
・ランダム欠陥(Stochastic Effects)
3)最新のEUVレジスト
a)分子レジスト
b)ネガレジスト
c)ポリマーバウンド酸発生剤を用いる化学増幅型レジスト
d)無機/メタルレジスト
・レジストメーカー開発の無機/メタルレジスト
・大学開発の無機/メタルレジスト

 

6.自己組織化(DSA)リソグラフィ
1)自己組織化リソグラフィの基本と課題
2)グラフォエピタキシー用材料
3)ケミカルエピタキシー用材料
4)最新の高χ(カイ)ブロックコポリマー
a)Si含有型ブロックコポリマー
b)有機型ブロックコポリマー

 

7.ナノインプリント
1)ナノインプリントの基本と課題
2)加圧方式ナノインプリント用材料
3)光硬化式ナノインプリント用材料
a)光硬化材料
b)離型剤

 

8.おわりに
1)レジスト・微細加工用材料の今後の技術展望
2)レジスト・微細加工用材料の市場動向

 

<質疑応答>

 

■ご講演中のキーワード:
リソグラフィ、レジスト、溶解阻害型レジスト、化学増幅型レジスト、微細加工用材料、液浸リソグラフィ、ダブル/マルチパターニング、EUVレジスト、自己組織化(DSA)リソグラフィ、ナノインプリント

 

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2021年4月23日(金) 10:30-16:30 *途中、お昼休みと小休憩を挟みます。

 

開催場所

【Live受講】 Live配信セミナー(リアルタイム配信) ※会社・自宅にいながら学習可能です※

 

オンライン配信のご案内

★ Zoomによるオンライン配信

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については、こちらをご参照ください

 

受講

  • 【オンライン(ライブ配信):見逃し視聴なし】:1名47,300円(税込(消費税10%)、資料付)

*1社2名以上同時申込の場合、1名につき36,300円

  • 【オンライン(ライブ配信):見逃し視聴あり】:1名52,800円(税込(消費税10%)、資料付)

*1社2名以上同時申込の場合、1名につき41,800円

 

学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。

 

配布資料

  • 配布資料は、印刷物を郵送で送付致します。
    お申込の際はお受け取り可能な住所をご記入ください。
    お申込みは4営業日前までを推奨します。
    それ以降でもお申込みはお受けしておりますが(開催1営業日前の12:00まで)、
    テキスト到着がセミナー後になる可能性がございます。

 

備考

  • 当日、可能な範囲で質疑応答も対応致します。
    (全ての質問にお答えできない可能性もございますので、予めご容赦ください。)
  • 本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり、無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止致します。

 

お申し込み方法

★下のセミナー参加申込ボタンより、必要事項をご記入の上お申し込みください。

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