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技術のキホン
3分でわかる技術の超キホン ALD(原子層堆積法)とは?原理,特徴,CVDとの比較など要点解説
1.ALDとは? ALD(原子層堆積, Atomic Layer Deposition)は、気相の自己制御式な表面化学反応を利用した真空薄膜形成技術であり、CVD(化学気相堆積, chemical vapo …
生産技術・設備技術
真空装置内の異物対策を解説|微細ダスト(パーティクル)の発生原因と運用の注意点
微細なダストが半導体等のデバイスの特性に影響を与える場合は、特にこれらを「パーティクル」(微粒子)と呼び、欠陥の一因とされます。 本記事では、真空装置内の微細ダスト発生の原因とその対策について取り上げます。 …
真空装置の熱源と熱対策を総整理!装置内部の部材・部品を熱ダメージから守るには?
真空装置に関する前回の記事では、真空装置内の部材に生じる「腐食」の原因と対策について紹介しました。その「腐食」とともに問題になるのが、熱によるダメージの対策になります。 今回は、真空装置内の部材・部品(機械 …
《真空技術の基礎》真空環境の5つの特徴がもたらす優位性と注意点
半導体製造の前工程などで基本技術となっている「真空」に関わる技術のTIPSを紹介します。 今回は、一般大気環境と真空環境下におけるふるまいの違いを取り上げます。 1.真空環境の特徴とは? 真空環境には大まか …
3分でわかる技術の超キホン C/Cコンポジットの基礎知識|特徴・製法・用途など
「C/Cコンポジット(炭素繊維強化炭素複合材料)」は、炭素を炭素繊維で強化した複合材料です。 CFRPやGFRPなどの樹脂複合材料よりも認知度は低いですが、引張強度が高く、耐食性に優れる材料として特に航空機 …
化学
グラフェンの商業利用に向けた課題と開発動向
1.いま注目の技術「グラフェン」 図1をご覧ください1)。 単層あるいは複数層の極薄グラファイトシートである「グラフェン」をご存じでしょうか。 グラフェンは2004年にGeimとNovoselovがグラファ …
表面処理
【半導体製造プロセス入門】CVD装置の種類・分類と特徴 [成膜装置の基本②]
前回の当連載では、成膜装置の分類をご紹介しました。 その成膜装置の分類のうち「気相成長装置」に該当するものとして、エピタキシャル成長装置、CVD(化学的気相成長)装置、PVD(物理的気相成長)装置、蒸着装置 …
3分でわかる技術の超キホン 「薄膜」とは?
薄膜とは? 薄膜は「はくまく」と呼びます。文字通り、薄い膜のことです。 膜そのものとして独立したもの(フィルターなどで使う膜や、薄~く延ばされた金箔など)のことをいう場合もありま …
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開催日時 2024/5/29(水)13:00~17:00
設計目線で見る部品加工基礎講座【切削・研削・板金1日コース】(セミナー)
開催日時 【5月期】2024/5/10(金)10:00~17:00
わずかなリソース、短い開発期間でOK!新商品開発テーマの設定と技術開発の進め方(セミナー)
開催日時 2024/6/7(金) 10:30~16:30
三次元実装・三次元集積および先端半導体パッケージング技術の基礎と最近の動向(セミナー)
開催日時 2024/6/11(火)13:00~17:00
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開催日時 【5月期】2024/5/9(木)10:00~17:00
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開催日時 2024/6/28(金)10:30~16:30
導入・活用事例
テキスト/教材の制作・販売