〇現象の基礎からしっかりと解説します。ご興味がある方は、ご参加ください。

〇洗浄装置の水流・気泡の可視化画像を見て、

工程と現象の要点が直感的に見えるようになることを目指します。

流れの可視化画像で基礎から学ぶ半導体洗浄技術

《洗浄プロセスの基礎となる現象理解から困った時の視点と対策まで》

【提携セミナー】

主催：株式会社情報機構

半導体不足解消のための投資や設備増強の機会には、洗浄技術者が新たに必要になります。そこで、半導体洗浄に初めて取り組む方を前提にして、基礎から説明します。予備知識は不要です。

半導体製造工程における「清浄・きれい」の意味を見直し、洗浄プロセスの基礎となる現象を理解し、洗浄装置の水流・気泡の可視化画像を見て、工程と現象の要点が直感的に見えるようになることを目指します。そして、困った時の視点と対策まで簡潔に説明します。

本講座の内容は、洗浄以外にもめっきなど液体を用いる半導体製造工程に役立ちますし、半導体以外の分野の洗浄技術者にも参考にして頂けます。

◆受講後、習得できること

• 流れの見方と設計指針
• 先端材料の洗浄方法を組むための要素
• 目的に合わせた「清浄」の定義
• キレイにするための表面と流れの取扱い方
• 生産プロセスに共通して潜在する化学工学現象（流れ・気泡などの動きと設計）
• 困った時に真っ先に点検すること

◆受講対象者

• 半導体洗浄をこれから初めて担当する方
• 洗浄というものが何となく分からない方
• 対策・提案が的を得ているのか不安な方
• 洗浄技術に対する視点・指針を身に付けたい方

◆必要な予備知識など

• 予備知識から紹介しますので、特に必要なことはありません。
  ただし、下記の知識があると、理解がさらに深まります。
• 流れの可視化写真を見た経験
• 基礎的な化学工学（熱・流れ・拡散）
• 川などの水の流れをじっくり眺めた経験

◆講演中のキーワード

流れの可視化、境界層、表面、枚葉式、バッチ式、超音波、ウエハ

担当講師

国立大学法人　横浜国立大学 大学院工学研究院 教授

羽深 等 先生

セミナープログラム（予定）

１.洗う理由：汚れは何？いつ、どこからなぜやって来る？

２.洗浄の４要素（温度、時間、化学、力学）

３.半導体の洗浄に特有のこと・・・本当の目的は？

４.先端技術情報（半導体洗浄を取扱っている国際学会・国内学会）

５.半導体洗浄の基礎
１）表面の扱い（付着・脱離・引き剥がす・乾かす）
２）流れ、熱、拡散の法則
３）装置内の流れ(完全混合、押出流れ、境界層)
４）流れの可視化実験（身近な例）・・・理想的配置にするほど攪拌されにくい理由

６.洗浄機内の流れと反応（可視化観察と数値計算の事例をもとに）
１）枚葉式洗浄機
１－１）ウエハ回転数と水が広がる速さ、水膜厚さ
１－２）ノズルを往復させることの意味
１－３）数値解析で化学反応はここまでわかる
２）バッチ式洗浄機
２－１）水流の課題：水噴出の傾きとオーバーフロー排出で水循環形成
２－２）直角に水を噴出させ、水循環を抑える簡単な方法の例
２－３）ウエハを入れる時、取り出す時の汚れの動き観察例
３）超音波洗浄
３－１）超音波による流れの加速
３－２）気泡の大きさと動き、支柱の影に気泡は届かない

７.まとめ：困った時の視点と対策（境界層を壊せ）

公開セミナーの次回開催予定

開催日

未定

開催場所

未定

受講料

未定

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●当日、可能な範囲で質疑応答も対応致します。
（全ての質問にお答えできない可能性もございますので、予めご容赦ください。）
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