半導体洗浄における洗浄機内の流れとメカニズム【提携セミナー】

半導体洗浄

半導体洗浄における洗浄機内の流れとメカニズム【提携セミナー】

このセミナーは終了しました。次回の開催は未定です。

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開催日時 2024/3/28(木)10:30~16:30
担当講師

羽深 等 氏

開催場所

Zoomによるオンライン受講

定員 30名
受講費 55,000円(税込)

★ 流れの可視化動画を用いて「水の流れ」や「汚れの離脱メカニズム」を理解する

 

半導体洗浄における洗浄機内流れとメカニズム

 

 

【提携セミナー】

主催:株式会社技術情報協会

 


 

【講演概要】

洗浄は、半導体製造に重要な役割を持っています。洗浄には流体(水など)と薬液を用いますが、洗いたい場所に流れが届き、薬液が運ばれて行かないと、薬液は働きません。そこで、枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機における水の流れを可視化観察動画・静止画と計算例で眺め、全体像が直感で分かることを目指します。それを起点にして、洗浄効果を上げる要点を説明して行きます。超音波も使われていますが、その効果についても流れと気泡の動画により説明します。さらには、今後、ナノメートル幅の極めて微細なパターンを洗浄する際に見落としがちなこと、一方では、古典的な操作が持っている意味と活用についても考えてみます。これらを総合して、トラブルに対応する時の視点と対策を紹介します。

 

 

習得できる知識

  • 先端材料洗浄方法の原理と要素
  • 「清浄」の定義と役割
  • キレイにするための表面の取扱い
  • 流れの意味、使い方と作り方
  • 洗浄条件設計の盲点
  • 生産プロセスに共通して潜在する工学現象(流れ・気泡などの動きと設計)

 

 

担当講師

反応装置工学ラボラトリ 代表/横浜国立大学 名誉教授 博士(工学) 羽深 等 氏

 

 

セミナープログラム(予定)

1.洗う理由:汚れは何?どこから、いつ、何故やって来る?

 

2.洗浄の4要素:温度、時間、化学、力学

 

3.半導体の洗浄に特有のこと(何故、そこまでして何回も洗うのか)

 

4.先端技術情報(半導体洗浄を取扱っている国際学会・国内学会)

 

5.半導体洗浄の基礎現象(薬液と流れの効果)

5.1 表面の現象とプロセス(基本:付着・脱離・引き剥がす・乾かす)

5.2 流れ、熱、拡散、反応(洗う=汚れを運び去る操作)

5.3 装置内流れの種類(完全混合、押出流れ、境界層)

5.4 流れの可視化観察(身近なところにも意外な流れ。「流れ」と「拡散」の感覚を動画で理解)

 

6.洗浄機内の流れと反応

6.1 枚葉式洗浄機

6.1.1 水の流れ(水が広がる観察動画と計算例。水膜は0.1㎜厚。)

6.1.2 化学反応の例(表面反応機構もここまで分かる)

6.2 バッチ式洗浄機

6.2.1 水の流れ(観察動画と計算例。水の循環は無駄。)

6.2.2 水流を最適化(入口と出口を変えると循環流を抑制可能)

6.3 超音波の働き(水と気泡の観察動画。気泡は隠れたところに届きにくい。)

 

7.洗浄の評価方法(計算、設計、実験検証、故意汚染、環境起因汚染)

 

8.狭い空間の洗浄(狭く深い溝の奥、微細化で洗浄面積増大)

 

9.まとめ:困った時の視点と対策(境界層を壊そう!)

 

【質疑応答】

 

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2024/3/28(木)10:30~16:30

 

開催場所

Zoomによるオンライン受講

 

受講料

1名につき55,000円(消費税込・資料付き)
〔1社2名以上同時申込の場合1名につき49,500円(税込)〕

 

 

技術情報協会主催セミナー 受講にあたってのご案内

 

備考

資料は事前に紙で郵送いたします。

 

お申し込み方法

★下のセミナー参加申込ボタンより、必要事項をご記入の上お申し込みください。

 

お申込後はキャンセルできませんのでご注意ください。

※申し込み人数が開催人数に満たない場合など、状況により中止させていただくことがございます。

 

 

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