マイクロLEDディスプレイの実装、製造技術と今後の展望【提携セミナー】
開催日時 | 未定 |
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担当講師 | 藤原 康文 氏 |
開催場所 | 未定 |
定員 | 未定 |
受講費 | 未定 |
★ 赤色LED、自己組織化実装、マストランスファー技術動向について解説
マイクロLEDディスプレイの実装、
製造技術と今後の展望
【提携セミナー】
主催:株式会社技術情報協会
講座内容
- 超小型・超高精細マイクロLEDディスプレイに資するEuドープGaN赤色LEDの新展開
- 自己組織化実装技術の開発とマイクロLEDチップ実装への応用
- マイクロLED ディスプレイの製造技術と工程簡略化、歩留まり改善に向けた取り組み
習得できる知識
マイクロLEDディスプレイに向けた実装技術と展望について理解が深まる
担当講師
【第1部】大阪大学 大学院工学研究科 教授 工学博士 藤原 康文 氏
【第2部】東北大学 大学院工学研究科 機械機能創成専攻 准教授 博士(工学) 福島 誉史 氏
【第3部】東レエンジニアリング(株) メカトロファインテック事業本部 第一事業部 主幹 森 英治 氏
セミナープログラム(予定)
(10:30~12:00)
「超小型・超高精細マイクロLEDディスプレイに資するEuドープGaN赤色LEDの新展開」
大阪大学 大学院工学研究科 教授 工学博士 藤原 康文 氏
【講演概要】
超スマート社会の実現に向けて、そのインターフェースとなる超小型・超高精細マイクロLEDの実現が求められています。 その鍵を握るのが「如何にして赤色LEDを、青色/緑色LEDと同じ窒化物半導体で実現するのか」という問いです。
2009年、我々により発明されたEu添加GaN赤色LEDは従来のAlGaInP/GaAs系赤色LEDと異なり、発光スペクトルが非常にシャープであり、発光波長が環境温度や注入電流量に対して変化しないという、これまでの半導体からの発光では考えられなかった特徴を有しています。 また、その光出力は年々、増大し、現在では実用化を視野に入れることが可能となっています。 さらに、青色/緑色LEDと同一サファイア基板上に集積した「1チップフルカラーLED」が実証され、次世代マイクロLEDディスプレイの基幹技術として注目を集めています。
本講座では、研究の背景、Eu添加GaN赤色LEDに関わる研究の進展と将来展望について紹介します。
1.マイクロLEDディスプレイの現状
2.窒化物半導体発光ダイオード(LED)の現状
3.希土類添加半導体
4.Eu添加GaNと赤色LEDへの展開
5.Eu添加GaN赤色LEDの高輝度化
6.赤色/緑色/青色LEDの1チップ集積化
7.将来展望
【質疑応答】
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(13:00~14:30)
「自己組織化実装技術の開発とマイクロLEDチップ実装への応用」
東北大学 大学院工学研究科 機械機能創成専攻 准教授 博士(工学) 福島 誉史 氏
【講演概要】
本講座では、液晶や有機ELに比べて性能、消費電力、寿命等の面で優位であり、次世代のディスプレイとして期待されているマイクロLEDディスプレイの製造に関わる研究開発動向について述べる。
特に一辺0.1mmを下回る極小素子「マイクロLED」の製造で課題を抱えるマストランスファやインターコネクトについて、液滴や流体を用いた自己組織化実装を含めたインテグレーションの方法を解説します。
1.エレクトロニクスにおける自己組織化
2.動画で分かる自己組織化実装の概要
3.自己組織化実装の基礎
3.1 原理と駆動力(表面張力の科学)
3.2 実装精度に影響を与える因子
4.自己組織化実装とマイクロLEDディスプレイへの応用
4.1 自己組織化実装の研究動向
4.2 東北大学以外の研究例
4.3 東北大学の研究例1: 極小チップのセルフアセンブリ
4.4 東北大学の研究例2: フレキシブルμLEDディスプレイ
5.マイクロLED実装の課題と展望
6.おわりに
【質疑応答】
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(14:40~16:10)
「マイクロLED ディスプレイの製造技術と工程簡略化、歩留まり改善に向けた取り組み」
東レエンジニアリング(株) メカトロファインテック事業本部 第一事業部 主幹 森 英治 氏
【講演ポイント】
本講演では、次世代ディスプレイとして期待されているマイクロLEDディスプレイの製造工程について、既に納入実績の有る蛍光技術による外観検査装置、レーザリペア装置、マストランスファー(転写実装)装置の紹介と、現状の課題及び、最新技術のレーザマストランスファー方式による転写工程の大幅効率化技術を紹介する。
1.マイクロLEDディスプレイ製造における課題
2.マイクロLEDディスプレイ製造プロセスフロー(ピックアンドプレース)
3.マイクロLEDディスプレイ製造における最新技術
4.レーザリペア技術による歩留まり改善
5.レーザマストランスファー技術による工程簡略化
6.サンプルテスト事例
7.今後の取り組み(新技術開発)
【質疑応答】
公開セミナーの次回開催予定
開催日
未定
開催場所
未定
受講料
未定
備考
資料は事前に紙で郵送いたします。
お申し込み方法
★下のセミナー参加申込ボタンより、必要事項をご記入の上お申し込みください。
※お申込後はキャンセルできませんのでご注意ください。
※申し込み人数が開催人数に満たない場合など、状況により中止させていただくことがございます。