酸化物半導体（IGZOなど）トランジスタ技術の基礎と三次元集積応用【提携セミナー】
| 開催日時 | 2026/2/13 (金) 13:00-16:30 ＊途中、小休憩を挟みます。 |
|---|---|
| 担当講師 | 小林 正治 氏 |
| 開催場所 | Zoomによるオンラインセミナー |
| 定員 | - |
| 受講費 | 【オンライン受講（見逃し視聴なし）】：1名 45,100円(税込（消費税10％）、資料付) 【オンライン受講（見逃し視聴あり）】：1名 50,600円(税込（消費税10％）、資料付) |
酸化物半導体（IGZOなど）トランジスタ技術の
基礎と三次元集積応用
《モノリシック三次元集積化、三次元DRAM/NANDなどの開発動向》
【提携セミナー】
主催：株式会社情報機構
○材料・プロセス・デバイス技術など酸化物半導体の基礎から、ディスプレイの“次の応用”として期待の三次元集積化技術の最新開発動向まで徹底解説！
◆ はじめに
酸化物半導体（IGZOなど）トランジスタ技術は、低温形成可能、高移動度、透明、低リーク電流といった優れた特性を有し、ディスプレイ分野で量産化された。現在、大規模集積回路応用への期待が高まってきている。プロセッサとメモリアレイを同一チップに集積化するモノリシック3D集積化、DRAMまたはNAND向けの三次元構造メモリへの応用への期待が高まっており、半導体メーカーでの研究開発も活発化してきている。このような状況をふまえて本講演では酸化物半導体トランジスタ技術の基礎を解説するとともに、その三次元集積応用に向けた研究開発動向を解説する。
◆ 受講後、習得できること
- 酸化物半導体の材料物性・プロセス技術・デバイス技術に関する基礎
- 三次元集積デバイス応用に向けた最近の酸化物半導体デバイスの研究開発動向
など
◆ 受講対象者
- 酸化物半導体の材料およびデバイス研究開発を始めたばかりの方から、ある程度の研究経験を経た方。
- 酸化物半導体について、フラットパネルディスプレイの次の応用先を検討されている方
◆ 必要な予備知識
半導体の材料・プロセス・デバイスのいずれかに関する一般的な基礎知識を有していることが望ましい。
担当講師
東京大学 生産技術研究所 教授 小林 正治 氏
講師紹介
2010年 米国スタンフォード大学博士課程修了
2010年-2014年 米国IBMワトソン研究所 プロパー研究員
2014年-2019年 東京大学生産技術研究所 准教授
2019年-2025年 東京大学大学院工学系研究科附属d.lab 准教授
2025年より 東京大学生産技術研究所 教授
セミナープログラム（予定）
１．背景
1）酸化物半導体のニーズ
２．酸化物半導体の基礎
1）酸化物半導体の材料物性
a）シリコンとの違い
2）酸化物半導体のプロセス技術
a）薄膜形成技術
b）トランジスタ形成技術
3）酸化物半導体のデバイス技術
a）トランジスタの性能
b）トランジスタの信頼性
３．三次元集積デバイス応用の研究開発動向
1）集積デバイスの現状
a）シリコンの限界
2）モノリシック三次元集積化技術
a）混載メモリ
3）酸化物半導体の微細化
4）三次元構造メモリデバイス
a）三次元DRAM
b）三次元NAND
４．まとめ
＜質疑応答＞
公開セミナーの次回開催予定
開催日
2026年2月13日(金) 13:00-16:30 ＊途中、小休憩を挟みます。
開催場所
Zoomによるオンラインセミナー
オンライン配信のご案内
★ Zoomによるオンライン配信
★ 見逃し視聴
については、こちらをご参照ください
受講料
【オンライン受講（見逃し視聴なし）】：1名 45,100円(税込（消費税10％）、資料付)
＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき34,100円
【オンライン受講（見逃し視聴あり）】：1名 50,600円(税込（消費税10％）、資料付)
＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき39,600円
＊学校法人割引；学生、教員のご参加は受講料50％割引。
備考
●配布資料はPDFなどのデータで配布いたします。ダウンロード方法などはメールでご案内いたします。
- 配布資料に関するご案内は、開催1週前～前日を目安にご連絡いたします。
- 準備の都合上、開催1営業日前の12:00までにお申込みをお願いいたします。
（土、日、祝日は営業日としてカウントしません。） - セミナー資料の再配布は対応できかねます。必ず期限内にダウンロードください。
●当日、可能な範囲でご質問にお答えします。（全ての質問にお答えできない可能性もございます。何卒ご了承ください。）
お申し込み方法
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★【オンラインセミナー（見逃し視聴なし）】、【オンラインセミナー（見逃し視聴あり）】のいずれかから、ご希望される受講形態をメッセージ欄に明記してください。
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