●UV硬化反応の基礎について、光開始剤の特性と硬化機構の両面から解説。

UV硬化の基礎、硬化不良対策、影部のUV硬化

≪ノンアウトガスタイプの光塩基発生剤、高感度な光強塩基発生剤、および光潜在性チオールとその応用≫

【提携セミナー】

主催：株式会社情報機構

光硬化技術にとって、光開始剤は極めて重要なアイテムである。これらの性能によってＵＶ硬化材料の硬化特性が決まってしまうといっても過言ではない。さらに、光開始剤と光源とのマッチングも重要である。本セミナーではUV硬化反応の基礎について、光開始剤の特性と硬化機構の両面から解説する。

最新のトピックスとして、演者らが開発したノンアウトガスタイプの光塩基発生剤、高感度な光強塩基発生剤、および光潜在性チオールとその応用についても紹介したい。さらに、酸・塩基増殖剤や連鎖硬化剤を利用した“光化学＋熱化学反応”によるデュアル硬化について解説し、影部分の硬化不良対策についてもわかりやすく解説する。

◆受講後、習得できること

• ＵＶ硬化反応の基礎知識
• ＵＶ硬化の最新情報
• 開始剤の選び方
• 硬化不良対策
• 影部のUV硬化

◆受講対象者

ＵＶ硬化の基礎、光開始剤について学びたい人であれば誰でも。

◆必要な予備知識など

有機化学、高分子化学の基礎を知っていることが望ましいが、必須ではない。

◆講演中のキーワード

光開始剤の基礎、光源と光開始剤、高感度な光強塩基発生剤、アニオンUV硬化、光潜在性チオール、塩基増殖剤、酸増殖剤、連鎖硬化剤、硬化不良対策、レドックス開始重合

担当講師

東京理科大学　創域理工学部　先端化学科　教授　 有光 晃二 氏

＊ 希望者は講師との名刺交換が可能です

■ご略歴：
１９９７年７月　東京工業大学大学院　総合理工学研究科　電子化学専攻　博士課程中退
同年７月　東京工業大学　資源化学研究所　光機能化学部門　教務職員
２００１年３月　博士（工学）　東京工業大学
同年４月　東京理科大学　理工学部　工業化学科　助手
２００６年４月　マサチューセッツ工科大学 在外研究員［平成１９年３月まで］
２００７年４月　東京理科大学　理工学部　工業化学科　講師
２０１０年４月　東京理科大学　理工学部　工業化学科　准教授
２０１７年４月　東京理科大学　理工学部　先端化学科　教授
（２０１７年４月から学科名が工業化学科から先端化学科に改称、
２０２４年４月から学部名が理工学部から創域理工学部に改称）
現在に至る

■ご専門および得意な分野・研究：
光機能性有機高分子材料

■本テーマ関連学協会でのご活動：
ラドテック研究会　副会長

セミナープログラム（予定）

１．UV硬化の基礎
１－１．UV硬化に必要な光化学の基礎
１－２．光源の選択
１－３．UV硬化と現状と課題

２．光開始剤
２－１．光ラジカル重合開始剤の特性とUV硬化への応用
２－２．光酸発生剤の特性とUV硬化への応用
２－３．光塩基発生剤の特性とUV硬化への応用
２－３－１．第1級、第2級アミン発生系
２－３－２．第3級アミン、強塩基発生系
２－４．光潜在性チオールの特性とUV硬化への応用

３．カスケード式化学を利用した影部分のUV硬化
３－１．酸増殖剤の開発と応用
３－２．塩基増殖剤の開発と応用
３－３．連鎖硬化剤を利用したUV硬化
３－４．フロンタル重合系の構築
３－５．光塩基発生剤を利用したレドックス開始重合系

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2024年8月29日（木）　12:30-16:30　　※途中、小休憩を挟みます。

開催場所

【会場受講】[東京・大井町]きゅりあん5階第1講習室

受講料

1名41,800円(税込、資料付)
＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき30,800円

＊学校法人割引；学生、教員のご参加は受講料50％割引。

備考

●録音・撮影行為は固くお断り致します。
●講義中の携帯電話の使用はご遠慮下さい。
●講義中のパソコン使用は、講義の支障や他の方の迷惑となる場合がありますので、極力お控え下さい。
　　場合により、使用をお断りすることがございますので、予めご了承下さい。
　　＊ＰＣ実習講座を除きます。

お申し込み方法

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