スパッタ・真空蒸着による成膜技術と膜質改善技術の徹底解説【提携セミナー】

真空

スパッタ・真空蒸着による成膜技術と膜質改善技術の徹底解説【提携セミナー】

このセミナーは終了しました。次回の開催は未定です。

おすすめのセミナー情報

開催日時 2024/8/7(水) 10:00~16:30
担当講師

岩村 栄治 氏

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

定員 -
受講費 非会員: 55,000円 (本体価格:50,000円)
会員: 46,200円 (本体価格:42,000円)

スパッタ・真空蒸着による

成膜技術と膜質改善技術の徹底解説

 

《膜質制御法・膜応力低減法・密着力向上法について詳解!》

 

【提携セミナー】

主催:株式会社R&D支援センター

 


 

◆セミナー趣旨

本講演では、スパッタや真空蒸着によって薄膜を作成しようとする場合に頻繁に問題となる膜質制御や剥離対策にテーマに絞り、1)一つの技術課題とその解決のキーポイントの例示→2)その技術内容に関わる最低限知っておきたい基礎事項の紹介→3)成膜や特性改善に関する具体例を使ったより詳しい解説、という順で、その基本となる考え方から現象の詳細、評価方法と材料設計への活かし方、対策に至るまでを平易に解説します。主に無機・金属薄膜を取り上げますが、最新の話題を含めてできるだけ幅広い成膜技術を紹介します。特に、現在成膜に関する問題を抱えられている方、これから成膜技術をより深く理解して製品開発に取り組まれようとされる方、成膜品の品質検査や管理に関わる方にご参考になるような話題を提供したいと思います。

 

◆習得できる知識

成膜と薄膜形成の基礎知識
膜質制御・剥離対策に必要な基礎知識
密着力の評価方法と管理の基礎知識

 

◆キーワード

スパッタリング,薄膜,膜質制御,均一性,膜応力,密着力,測定,セミナー

 

担当講師

ペルノックス(株)【荒川化学工業(株)】
事業戦略室長  工学博士 岩村 栄治 氏

 

セミナープログラム(予定)

1.成膜プロセスと薄膜形成現象を理解したい
Introduction 成膜方法により生じる膜質変化の具体例
1-1.何に注目して成膜プロセスの制御を考えるのか
1-2.スパッタと真空蒸着の違い
1-3.成膜装置と真空をあつかうための必要最小限の基礎知識
1-4.薄膜の初期構造や微視的組織はどのように形成されるのか
1-5.膜形成プロセスを利用した膜質制御の具体例と成膜最適化の考え方
・段差被覆性の改善
・ウルトラクリーンプロセスでの膜質改善
・SZMを使った膜質制御
・成膜制御と最適化の考え方

 

2.膜の均一性・均質性を制御したい
Introduction 膜質を効果的に制御する具体例
2-1.スパッタリングの成膜環境
2-2.プラズマとは:制御パラメータと評価方法
2-3.イオン・高エネルギー粒子の照射現象とその活用のメリット・デメリット
2-4.プラズマを利用した膜質制御の具体例
・プラズマの不均一性による密着性のバラツキ
・膜面内の比抵抗値分布の均一化
・性能のトレードオフ関係の克服:硬質コーティングの多機能化

 

3.膜応力を低減したい
Introduction 膜応力が原因となった不具合とその対策の具体例
3-1.膜応力とは
3-2.応力発生のメカニズム
3-3.多層膜やパターニングされた薄膜の応力で注意する点
3-4.膜応力を低減させる成膜手法の考え方

 

4.密着力を良くしたい
Introduction よくある剥離トラブル事の対応における失敗例
4-1.薄膜の密着力とは
・基板と薄膜の界面の構造
・異種材料界面がくっついている根本的な原因と界面に働く相互作用
・密着と粘/接着との違い
4-2.剥離を起こしている材料的要因を簡単に絞り込む方法
・4つの観点から剥離要因を絞り込む
・「剥離がなぜ起きるか?」から考える
・薄膜が剥離するとは?:膜の剥離原因・負荷条件と剥離・破壊のモード
4-3.密着性を改善するには
・Griffithの破壊の考え方と剥離を起こさせない条件
・エネルギー解放率の考え方
4-4.密着性を向上させる様々な方策
4-5.密着性をどのように評価するか
4-6.スクラッチ試験による密着力測定と材料設計への活かし方
・スクラッチ法が役に立つ3つの理由

 

5.まとめ

 

スケジュール

昼食の休憩時間12:00~12:45を予定しております。
※進行によって、多少前後する可能性がございます。
※質問は随時チャット形式で受け付けます。また音声でも可能です。

 

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2024年08月07日(水) 10:00~16:30

 

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

 

受講料

非会員: 55,000円 (本体価格:50,000円)
会員: 46,200円 (本体価格:42,000円)

 

会員の方あるいは申込時に会員登録される方は、受講料が1名55,000円(税込)から

  • 1名で申込の場合、46,200円(税込)へ割引になります。
  • 2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計55,000円(2人目無料)です。
  • 3名以降は一人当たり定価の半額となります。
    <※2名以上でお申込の場合は1名につき27,500円(税込)>

 

※セミナー主催者の会員登録をご希望の方は、申込みフォームのメッセージ本文欄に「R&D支援センター会員登録希望」と記載してください。ご登録いただくと、今回のお申込みから会員受講料が適用されます。

 

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LIVE配信のご案内

こちらをご参照ください

 

備考

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったWEB配信セミナーとなります。

 

  • セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。

 

お申し込み方法

★下のセミナー参加申込ボタンより、必要事項をご記入の上お申し込みください。

 

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