ALD(原子層堆積法)の基礎とプロセス最適化および最新技術動向 (S&T)【提携セミナー】

ALD_高品質膜化

ALD(原子層堆積法)の基礎とプロセス最適化および最新技術動向 (S&T)【提携セミナー】

このセミナーは終了しました。次回の開催は未定です。

おすすめのセミナー情報

開催日時 【Live受講】 2024/3/29(金) 9:45~16:45 , 【会場受講】 2024/3/29(金) 9:45~16:45
担当講師

霜垣 幸浩 氏

開催場所

【会場受講】 東京・品川区大井町 きゅりあん  4F 研修室
【Live受講】 オンライン配信セミナー

定員 -
受講費 通常申込:60,500円
E-mail案内登録価格:57,420円

 

ALD(原子層堆積法)の基礎と

プロセス最適化および最新技術動向

 

《今、ホットで注目のALDを基礎から学びます。高品質化・最適化へ》

 

【提携セミナー】

主催:サイエンス&テクノロジー株式会社

 


受講可能な形式:【会場受講】or【Live配信】

 

★ 霜垣先生が、ALDの最新動向を熱く6時間解説いたします。
★ CVD/ALDプロセスの速度論からALDプロセス最適化へ。ALDプロセス周辺技術も徹底解説します。

 

 セミナー趣旨

最先端半導体集積回路の作製に必須となっているALD(Atomic Layer Deposition、原子層堆積法)は、数ナノメートル程度の極薄膜作製手法として膜厚の制御性や再現性に優れ、3次元立体構造への均一製膜なども可能であるという特徴を持っています。そのため、ULSIゲート酸化膜形成、メモリキャパシタ形成などに応用展開されている技術です。しかし、そのプロセスは原料の供給、パージ、反応性ガスの供給、パージなどからなり、各段階での条件設定は、これまでの類似手法であるCVD(Chemical Vapor Deposition、気相薄膜形成法)と比較してかなり複雑であり、速度論の基礎的知識なしには容易に最適化を達成できません。近年、AIによるプロセス最適化なども試みられていますが、AIによる最適化の原理を理解できなければ、さらなる発展も見込めません。

 

このため、本講座では、まずALDの基礎知識としてCVDの速度論から説明を行い、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。また、ALDプロセスの理想と実際について、原理およびメカニズムから詳しく解説を行い、新たにALDプロセス開発・製品応用に関わる方の一助となるよう配慮した講義を行います。

 

<得られる知識・技術>

ALDプロセスの基本的な特徴と応用範囲の基本的なことを習得できるよう配慮して講義を行います。また、それによってALDプロセスを最適化するための基本的な指針が習得できます。各種のALDプロセスの応用事例について学ぶとともに、その周辺技術としてQCM(Quartz Crystal Microbalance)によるその場観察などの手法についても知識を習得できます。最先端半導体作製へのALD応用など最新技術動向も紹介します。

 

担当講師

東京大学 大学院工学系研究科 マテリアル工学専攻 教授 霜垣 幸浩 氏

 

セミナープログラム(予定)

<プログラム>
1.薄膜作製プロセス概論

1.1 薄膜の種類と用途
1.2 薄膜ドライプロセスとウェットプロセス
1.3 PVD(Physical Vapor Deposition)とCVD(Chemical Vapor Deposition)
1.4 半導体集積回路(ULSI)のALDプロセス採用

 

2.ALDプロセスの概要と特徴
2.1 ALDプロセスの概要と理想的プロセス特性
2.2 ALDプロセスの歴史的発展
2.3 ALDプロセスの応用事例
2.4 ALD装置
2.5 CVDとALD

 

3.CVDプロセスの速度論
3.1 製膜速度の濃度依存性
3.2 製膜速度の温度依存性
3.3 気相反応の影響

 

4.ALDプロセスの速度論
4.1 ALDプロセスの素過程
4.2 ALDプロセスの理想的特性
4.3 化学吸着と物理吸着
4.4 ALD Window
4.5 ALDプロセスの量子科学計算

 

5.QCMを利用したALDその場観察
5.1 QCM(Quartz Crystal Microbalance)の基礎
5.2 QCMその場観察の実際

 

6.ALDプロセス最適化
6.1 GPC高速化の基本
6.2 プロセスシーケンスの最適化

 

7.初期核発生・成長とAS-ALD(Area Selective ALD)

 

8.ALE(Atomic Layer Etching)とALD複合プロセス

 

9.ALDプロセス周辺技術
9.1 原料開発と評価
9.2 原料供給方法

 

  □質疑応答□

 

公開セミナーの次回開催予定

開催日

【Live受講】 2024/3/29(金) 9:45~16:45

【会場受講】 2024/3/29(金) 9:45~16:45

 

開催場所

【会場受講】 東京・品川区大井町 きゅりあん  4F 研修室
【Live受講】 オンライン配信セミナー

 

受講料

【一般受講】本体55,000円+税5,500円
E-Mail案内登録価格:本体52,200円+税5,220円

 

E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料

2名で60,500円 (2名ともE-mail案内登録必須​/1名あたり定価半額30,250円)

 

【テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】
1名申込みの場合:受講料( 定価:46,200円/E-Mail案内登録価格 44,000円 )

 

定価:本体42,000円+税4,200円
E-Mail案内登録価格:本体40,000円+税4,000円

 

 ※1名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。

※お申込みフォームのメッセージ欄に【テレワーク応援キャンペーン希望】とご記載ください。
※他の割引は併用できません。

 

※お申込後、セミナー主催者(サイエンステクノロジー社)がS&T会員登録をさせて頂きます。
(S&T会員登録はセミナー受講に必要な登録であり、E-mail案内登録とは異なります。)

 

【S&T会員登録】と【E-Mail案内登録】の詳細についてはこちらをご参照ください。

 

※E-Mail案内登録をご希望の方は、申込みフォームのメッセージ本文欄に「E-Mail案内登録希望」と記載してください。ご登録いただくと、今回のお申込みからE-mail案内登録価格が適用されます。

 

配布資料

●Live配信受講者
PDFテキスト(印刷可・編集不可)
※開催2日前を目安に、弊社HPのマイページよりダウンロード可となります。

 

●会場受講者
製本テキスト(※会場でお渡しいたします。)、PDFテキスト(印刷可・編集不可)
※開催2日前を目安に、弊社HPのマイページよりダウンロード可となります。
※会場受講者はPDFでもダウンロードできます。当日会場で印刷したものもお渡しいたします。

 

オンライン配信のご案内

※【Live配信(zoom使用)対応セミナー】についてはこちらをご参照ください

 

備考

※Live受講者の方へ:本セミナーは「Zoom」を使ったLive配信セミナーです。

 

※会場受講者の方へ:昼食付です。
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

 

お申し込み方法

★下のセミナー参加申込ボタンより、必要事項をご記入の上お申し込みください。

★【会場受講】【Live配信】のいずれかから、ご希望される受講形態をメッセージ欄に明記してください。

 

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