半導体洗浄の基礎と要点、困ったときの対策

■半導体洗浄の基礎現象（薬液と流れの効果）■

■洗浄機内の流れと反応■　■洗浄の評価方法（実験・計算・観察）■

■狭い空間の洗浄■　■トラブルとその対策■

【提携セミナー】

主催：サイエンス＆テクノロジー株式会社

受講可能な形式：【Live配信(アーカイブ配信付)】のみ

■お得な関連情報■「11/21：半導体ウェット洗浄技術の基礎と乾燥技術、および技術トレンドと最先端技術」とセット申込みがおトク！

★ アーカイブ受講のみもOKです。
★ 半導体製造プロセスで重要な「洗浄技術」。1日でしっかり理解してもらいます。

◆　セミナー趣旨

半導体洗浄の基礎現象・要点から困った時の対策まで説明します。半導体にとって清浄面であることの意味と価値、薬液の働き方を改めて考え、水の流れを動画で眺めると、洗浄では何をどのようにしているのか分かります。ここでは、身近な流れ、枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れの可視化実験動画を見て感覚をつかみ、数値シミュレーション結果で理解します。超音波の効果についても流れと気泡の動きを動画により理解します。それにより、洗浄機内の流れが結果を左右すること、流れを変えて使う工夫、微細パターン洗浄の特徴を考え、トラブル時の視点と対策を紹介します。

＜得られる知識、技術＞

• 半導体洗浄の要素と要点
• 目的に合わせた清浄の定義
• キレイに仕上げるための表面と流れの工夫
• 洗浄条件設計方法
• 流れ・気泡などの使い方と作り方

担当講師

反応装置工学ラボ・代表、横浜国立大学名誉教授　羽深 等　氏

＜主な経歴＞
新潟大学理学部化学科　理学士（1979年3月）
京都大学大学院理学研究科化学専攻　理学修士（1981年3月）
広島大学大学院工学研究科　博士（工学）（1996年9月）
信越化学工業株式会社　1981年4月～2000年3月
横浜国立大学工学部物質工学科　助教授　2000年4月～2002年3月
横浜国立大学大学院工学研究院　教授　2002年4月～2022年3月
横浜国立大学大学院工学研究院 名誉教授　2022年４月
反応装置工学ラボ　代表　2022年4月～
＜研究分野＞
半導体結晶製造プロセスの化学工学（実験と解析）
半導体シリコンウエハ湿式洗浄装置（枚葉式・バッチ式）の解析・設計
シリコン系半導体の薄膜成長（CVD, PECVD）・エッチング・装置クリーニングのプロセス開発と解析
半導体シリコン表面の分子吸着・脱離挙動の測定と解析
＜WebSite＞
反応装置工学ラボ　https://www.rare-lab.com/

セミナープログラム（予定）

＜プログラム＞
１．洗う理由：汚れの種類と由来

２．半導体洗浄の４要素:温度、時間、化学、力学

３．半導体の洗浄に特有のこと

４．先端技術情報（半導体洗浄を取扱っている国際学会・国内学会）

５．半導体洗浄の基礎現象（薬液と流れの効果）
5.1 表面の現象とプロセス（付着・脱離・引き剥がす・乾かす）
5.1.1 表面現象、薬液洗浄と物理的洗浄
5.1.2 洗浄後の表面、乾燥とパターン倒れ
5.1.3 ドライ洗浄と超臨界流体洗浄
5.2 流れ、熱、拡散、反応（洗う＝汚れを動かす操作）
5.3 身近な流れの可視化観察例

６．洗浄機内の流れと反応
6.1 枚葉式洗浄機
6.1.1 水の流れ（観察動画と計算例、回転数、ノズルスイング）
6.1.2 化学反応の例（酸化膜エッチング速度の数値解析事例）
6.2 バッチ式洗浄機
6.2.1 水の流れ(観察動画と計算例)
6.2.3 水流を最適化した事例（水噴出角度、槽内循環流）
6.2.4 ウエハ挿入と取出しの際の汚れの付着と脱落
6.2.5 上下に揺動する理由
6.3 超音波の働き、水と気泡の動き（観察動画）
6.3.1 超音波出力と水の動き
6.3.2 ウエハ支持棒の周りの気泡の動き
6.3.3 超音波洗浄槽の工夫、最適化の要点

７．洗浄の評価方法（実験・計算・観察）

８．狭い空間の洗浄
8.1 液の侵入と濡れ（親水性・疎水性）
8.2 狭い空間における反応の速度
8.3 微細パターンの洗浄面積（パターン表面積≫見かけのウエハ面積）

９．まとめ：困った時の視点と対策（流れと境界層）
9.1 洗えない時
9.2 洗えるが残る時

　　□質疑応答□

公開セミナーの次回開催予定

開催日

【Live配信：アーカイブ付き】 2025年10月30日（木）  10:30～16:30

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

受講料

一般受講：本体50,000円＋税5,000円
E-Mail案内登録価格：本体47,500円＋税4,750円

E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料

2名で55,000円 (2名ともE-Mail案内登録必須​／１名あたり定価半額27,500円)

テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】
1名申込みの場合：受講料44,000円（E-Mail案内登録価格 42,020円）

定価：本体40,000円＋税4,000円　E-Mail案内登録価格：本体38,200円＋税3,820円

※１名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。

※お申込みフォームで【テレワーク応援キャンペーン希望】とご記載ください。
※他の割引は併用できません。

「10/30半導体洗浄の基礎」と「11/21半導体洗浄の最先端」のセット受講の場合

定価：本体75,000円＋税7,500円
E-Mail案内登録価格：本体71,200円＋税7,120円

E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料
2名で82,500円 (2名ともE-Mail案内登録必須​／１名あたり定価半額の41,250円)
3名で123,750円 (3名ともE-Mail案内登録必須​)　※4名以上も1名追加ごとに41,250円を加算

テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】
1名申込みの場合： 受講料 74,800円 (E-Mail案内登録価格 71,060円)

定価：本体68,000円＋税6,800円、E-Mail案内登録価格：本体64,600円＋税6,460円

※１名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。

※お申込みフォームで【テレワーク応援キャンペーン希望】とご記載ください。
※他の割引は併用できません。

※お申込後、セミナー主催者（サイエンステクノロジー社）がS&T会員登録をさせて頂きます。
（S&T会員登録はセミナー受講に必要な登録であり、E-mail案内登録とは異なります。）

【S&T会員登録】と【E-Mail案内登録】の詳細についてはこちらをご参照ください。

※E-Mail案内登録をご希望の方は、申込みフォームのメッセージ本文欄に「E-Mail案内登録希望」と記載してください。ご登録いただくと、今回のお申込みからE-mail案内登録価格が適用されます。

配布資料

PDFデータ(印刷可・編集不可)
※開催2日前を目安に、主催者サイトのマイページよりダウンロード可となります。

オンライン配信のご案内

※【Live配信（zoom使用）対応セミナー】についてはこちらをご参照ください

※【WEBセミナー：アーカイブ受講対応セミナー】についてはこちらをご参照ください

アーカイブ(見逃し)配信について
※視聴期間は終了翌日から7日間を予定しています。またアーカイブは原則として編集は行いません。
※マイページからZoomの録画視聴用リンクにてご視聴いただきます。

備考

※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

特典

■Live受講に加えて、アーカイブでも１週間視聴できます■
【アーカイブの視聴期間】2025年10月31日(金)～11月6日(木)まで
※このセミナーはアーカイブ付きです。セミナー終了後も繰り返しの視聴学習が可能です。

お申し込み方法

★下のセミナー参加申込ボタンより、必要事項をご記入の上お申し込みください。

★【「10/30：半導体洗浄の基礎・対策」のみ受講】、【「10/30：半導体洗浄の基礎・対策」と「11/21：半導体洗浄・乾燥の最先端」の両日受講】のどちらかご希望される受講形態をメッセージ欄に明記してください。