・真空技術を会場で学ぶ。

・装置の構成や周辺設備についても具体的に解説します

真空技術の基礎と真空システムの構築方法

【提携セミナー】

主催：株式会社情報機構

講師より／真空装置は不純物を減らし、高品質な材料形成を可能にする製造設備です。半導体プロセスを中心にして20世紀後半から大きく発展してきました。近年では半導体だけで無く、発光素子、太陽電池、表示素子、バイオテクノロジー等様々な分野で使われています。
本セミナーでは真空技術について基礎から実践まで幅広く説明します。
真空そのものの基礎的な話に加え、真空装置に欠かせないプラズマの話、また、具体的な真空装置の構成や周辺のインフラ設備に関してまで幅広く解説します。
※今回は会場での対面形式のセミナーとしています。是非遠慮なく質問・コメントを頂ければ幸いです。出来る限り皆様の実務に役立つ講義にしたいと考えております。

◆受講後、習得できること

・真空そのものの知識
・真空装置の構築方法
・真空に不可欠なプラズマの知識
・各種成膜装置、エッチングの知識
・日々の管理ポイントとトラブルシューティング　等

◆受講対象者

・これから真空装置を扱う方、真空装置の従事経験が浅い方
・真空装置を扱ってはいるが、より良く使いこなしていきたい方　等

担当講師

アステラテック(株) 代表取締役 博士（工学） 　三好 幸三 先生
＊ 希望者は講師との名刺交換が可能です

セミナープログラム（予定）

1. 真空技術者のための真空の基礎知識
1.1 真空とは
1.2 気体分子運動論
1.3 真空と表面

2. 真空装置の基礎
2.1 真空の作り方
2.2 真空の測り方
2.3 真空装置の基本構成
2.4 真空装置の構成材料
2.5 リークテスト

3. プラズマの基礎
3.1 プラズマとは何か
3.2 プラズマの作り方

4. 半導体プロセスの基礎とプロセスフロー
4.1 プロセスフロー
4.2 成膜
4.3 リソグラフィ
4.4 エッチング
4.5 洗浄

5. 真空装置の具体例（成膜装置・エッチング装置）
5.1 成膜装置
5.1.1 蒸着装置
5.1.2 スパッタリング装置
5.1.3 CVD装置
5.2 エッチング装置
5.2.1 RIE
5.2.2 ECR

6. 真空装置の周辺設備
6.1 ガス供給設備
6.2 冷却水
6.3 除害設備

7. 現場のトラブルシューティング
7.1 日々の管理項目
7.2 リークトラブルの原因と対応策
7.3 放電トラブルの原因と対応策
7.4 冷却水トラブル
7.5 何が壊れやすいか？：必要なバックアップ

＜質疑応答＞

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2023年11月22日（水）　12:30-16:30 ※途中、小休憩を挟みます。

開催場所

[東京・大井町]きゅりあん4階研修室

受講料

1名41,800円(税込、資料付)
＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき30,800円

＊学校法人割引；学生、教員のご参加は受講料50％割引。

オンライン配信のご案内

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備考

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お申し込み方法

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