★EUVレジストの要求特性と現状の課題、その対策

注目のメタルレジスト、メタルドライレジストの開発状況とその可能性！

EUVレジスト/メタルレジストの

要求特性、最新技術動向と課題、対策

【提携セミナー】

主催：株式会社技術情報協会

講座内容

メモリー、マイクロプロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い、益々大きくなっている。微細加工を支えるリソグラフィ技術は現在先端の量産工程でEUVが用いられ、EUVレジストは開発が加速されている。

本講演では、最新のロードマップを紹介した後、EUVリソグラフィの概要を述べ、EUVレジストの基礎、要求特性、課題と対策、最新技術動向について解説する。注目されているEUVメタルレジスト、EUVメタルドライレジストプロセスについて詳しく解説する。おわりにEUVレジスト、EUVメタルレジストの今後の技術展望、市場動向についてまとめる。

習得できる知識

• EUVレジストの基礎
• EUVレジストの要求特性と課題・対策
• EUVレジストの最新技術動向
• EUVメタルレジストの基礎と、課題・対策、開発動向
• EUVドライレジストプロセスの基礎と、課題・対策、開発動向
• EUVレジスト、EUVメタルレジストの技術展望、市場動向

担当講師

Eリソリサーチ　代表　工学博士　遠藤 政孝 氏

セミナープログラム（予定）

１．ロードマップ
1.1 リソグラフィ技術、レジストへの要求特性
1.2 微細化に対応するリソグラフィ技術の選択肢
1.3 最先端デバイスの動向

２．EUVリソグラフィの概要
2.1 露光装置
2.2 光源
2.3 マスク

３．EUVレジストの基礎
3.1 EUVレジストの設計指針
3.2 化学増幅型EUVレジストの反応機構
3.3 EUVレジストプロセス
3.3.1 アンダーレイヤー

４．EUVレジストの要求特性
4.1 化学増幅型EUVレジスト用ポリマー
4.2 化学増幅型EUVレジスト用酸発生剤・クエンチャー
4.2.1 光分解性クエンチャー

５．EUVレジストの課題と対策
5.1 感度/解像度/ラフネスのトレードオフ
5.2 ランダム欠陥（Stochastic Effects）
5.3 EUVレジストの開発動向
5.3.1 ポリマーバウンド酸発生剤を用いる化学増幅型レジスト
5.3.2 ネガレジストプロセス

６．EUVメタルレジスト
6.1 EUVメタルレジスト用材料
6.2 EUVメタルレジストの反応機構
6.3 EUVメタルレジストの性能と開発動向

７．EUVメタルドライレジストプロセス
7.1 EUVメタルドライレジストプロセス用材料
7.2 EUVメタルドライレジストプロセスの反応機構
7.3 EUVメタルドライレジストプロセスの性能と開発動向

８．EUVレジスト、EUVメタルレジストの技術展望、市場動向

【質疑応答】

公開セミナーの次回開催予定

開催日

【Live配信】2026/3/25（水）　10:30∼16:30

【アーカイブ（録画）配信】 2026/4/3まで受け付け（視聴期間:4/3∼4/13まで）

開催場所

Zoomを利用したLive配信 または アーカイブ配信

受講料

1名につき55,000円(消費税込･資料付き)
〔1社2名以上同時申込の場合1名につき49,500円(税込)〕

技術情報協会主催セミナー　受講にあたってのご案内

• Live配信セミナーの接続確認・受講手順は こちら をご確認ください。
• お申込み・お支払い方法に関するご案内はこちら をご確認ください。

備考

資料は事前に紙で郵送いたします。

お申し込み方法

★下のセミナー参加申込ボタンより、必要事項をご記入の上お申し込みください。

★【LIVE配信】、【アーカイブ配信】のいずれかから、ご希望される受講形態をメッセージ欄に明記してください。

※お申込後はキャンセルできませんのでご注意ください。

※申し込み人数が開催人数に満たない場合など、状況により中止させていただくことがございます。