半導体デバイス・プロセス開発の実際 ~前工程を中心に~(前編)半導体デバイス・プロセス開発の実際 ~後工程および産業動向を中心に~(後編)
【LIVE配信】(前編)2024/9/25(水) 10:30~16:30(後編) 2024/9/26(木) 10:30~16:30 , 【アーカイブ配信】9/27~10/11(何度でも受講可能)
お問い合わせ
03-6206-4966
開催日時 | 未定 |
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担当講師 | 渡邊 健夫 氏 |
開催場所 | 未定 |
定員 | - |
受講費 | 未定 |
《EUVL技術開発のキーポイントとは?》
【提携セミナー】
主催:株式会社R&D支援センター
◆セミナー趣旨
2019年よりEUVリソグラフィー(EUVL)は7 nm+世代の半導体量産技術として適用が開始された。この状況まで来るのに、EUVLの黎明期を含め約35年掛かって実現した。兵庫県立大学は国内大学が保有している中で最大のニュースバル放射光施設を有しており、これまでASET、SELETE,EUVA、EIDECの4つ国家プロジェクトの参画し、また、これまで数多くの国内外の企業との共同研究を通じてEUVL技術開発に貢献してきた。講演ではEUVL技術の黎明期からその技術の基礎について、また、現在の技術状況と課題、そして、今後の展開について解説する。さらに、日本の半導体復興に必要な項目について理解を深める。
黎明期のEUVL技術開発の紹介により、より深くEUVL技術開発のキーポイントの理解を深めていただきます。また、EUVL技術の現状および課題については、EUV露光装置(EUV光源を含み)に加えて、EUVレジスト、EUVマスク、EUVペリクルなどEUVL全般に亘って基盤技術について解説する。
◆習得できる知識
◆受講対象
◆必要な前提知識
◆キーワード
EUV、リソグラフィー、EUVL、レジスト、マスク、ペリクル、セミナー、講演
兵庫県公立大学法人 兵庫県立大学 名誉教授・特任教授
社会価値創造機構 理学博士 渡邊 健夫 氏
1. はじめに
2. 半導体の動向
3. EUVリソグラフィーとは
4. EUVリソグラフィーの黎明期
5. EUVリソグラフィーの必要性
6. EUVLの技術課題
7. EUVL用露光機(EUV光源を含む)
8. EUVレジスト
1) 化学増幅系レジスト、非科学増幅系レジスト、金属レジスト、他
評価系
2) ホモジニティ、レジスト膜の層分離など
9. EUVマスク
1) 構造、多層膜、吸収体、High-kおよびLow-k材料
2) マスク評価系、など
10. EUVペリクル
1) 材料
2) 評価系
11. 日本の半導体の将来に向けて
12. まとめ
未定
未定
未定
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