クライオエッチングの基礎・現状・課題と最新技術動向【提携セミナー】
おすすめのセミナー情報
| 開催日時 | 2026/9/16（水）13:00～16:30 |
|---|---|
| 担当講師 | 蕭 世男 氏 |
| 開催場所 | 【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。 |
| 定員 | - |
| 受講費 | 通常申込：本体45,000円＋税4,500円 |
クライオエッチングの基礎・現状・課題と最新技術動向
反応メカニズムから高アスペクト比加工・クライオ原子層エッチングまで
【提携セミナー】
主催：サイエンス＆テクノロジー株式会社
受講可能な形式：【ライブ配信(見逃し配信付)】のみ
デバイスの微細化・高積層化の既存技術における限界が見え始めている中、注目を集める「クライオエッチング」を半日速習！
基本原理から反応メカニズムや加工技術の最新研究動向までを解説します。
セミナー趣旨
半導体集積回路デバイスの製造において、プラズマを用いた微細加工、すなわちプラズマエッチングは不可欠なプロセス技術である。トランジスタ、DRAM、NANDに代表されるデバイスでは、従来の微細化および高積層化（スケーリング）が進められてきた。しかし近年、既存技術には物理的・技術的な限界が顕在化しつつある。そこで、基板温度を極低温領域まで低下させ、ウェハ表面における反応種の物理吸着および表面拡散を制御するクライオエッチング（cryogenic etching）が注目されている。本講演では、プラズマエッチングの基本原理から、クライオエッチング導入の背景、反応メカニズムの解明、ならびに最新の研究動向について解説する。
担当講師
名古屋大学 低温プラズマ科学研究センター 特任教授 蕭 世男 氏
セミナープログラム（予定）
１．エッチング加工とは
1.1 等方性エッチング
1.2 異方性エッチング
２．ドライプロセスエッチング
2.1 低温プラズマの基礎原理と知識
2.2 プラズマエッチングと装置
2.3 プラズマエッチングメカニズム
2.4 高アスペクトエッチング
３．クラオイエッチング
3.1 クラオイエッチングとは
3.2 クラオイエッチングの基礎原理
3.3 クラオイエッチングの応用例
４．クラオイエッチングによる高アスペクト比加工
4.1 クライオシリコン深掘エッチング
4.2 クライオチャネルホール深掘エッチング
５．クラオイエッチングの反応メカニズムと加工技術の最新動向
5.1 クラオイエッチングにおける気相反応
5.2 クラオイエッチングにおける表面反応
5.3 クライオ原子層エッチング
□質疑応答□
※詳細プログラムは変更になる可能性がございます。
公開セミナーの次回開催予定
開催日
2026/9/16（水）13:00～16:30
開催場所
【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。
受講料
一般受講：本体45,000円＋税4,500円
E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料
2名で49,500円 (2名ともE-mail案内登録必須／1名あたり定価半額の24,750円)
テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】
1名申込みの場合：受講料 39,600円(E-Mail案内登録価格 37,840円)
定価：本体36,000円＋税3,600円
E-Mail案内登録価格：本体34,400円＋税3,440円
※１名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
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配布資料
PDFテキスト(印刷可・編集不可)
※開催2日前を目安に、主催者サイトのマイページよりダウンロード可となります。
備考
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
特典
ライブ配信受講に加えて、見逃し配信でも以下期間中に視聴できます
【見逃し配信の視聴期間】2026年9月24日(木)～9月30日(水)まで
※このセミナーは見逃し配信付です。セミナー終了後も繰り返しの視聴学習が可能です。
※ライブ配信を欠席し見逃し配信の視聴のみの受講も可能です。
※見逃し配信は原則として編集は行いません。
※視聴準備が整い次第、担当から視聴開始のご連絡をいたします。
お申し込み方法
★下のセミナー参加申込ボタンより、必要事項をご記入の上お申し込みください。
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