半導体製造における各種汚染の影響と

洗浄技術の基礎および技術トレンド

基礎から次世代の汚染制御の問題点と洗浄乾燥技術まで！

従来の洗浄（薬液VS純水）から最近の洗浄、目的別洗浄など詳解！

【提携セミナー】

主催：株式会社R&D支援センター

◆セミナー趣旨

半導体製造において、各種汚染は歩留低下を引き起こす。序論として汚染が半導体デバイスにおよぼす影響を示します。それを踏まえて、半導体洗浄に関して説明します。従来の洗浄から最近の洗浄、目的別洗浄について詳細を説明します。洗浄以外の汚染制御技術に関して紹介します。最後に次世代の汚染制御の問題点と洗浄乾燥技術について解説します。洗浄技術は半導体デバイスの品質の向上のために必要である。洗浄の意義を一緒に考えましょう！

◆習得できる知識

半導体製造における汚染制御と歩留改善に洗浄技術が重要であることが理解できます。
1.各種汚染が半導体デバイスに与える影響
2.洗浄乾燥技術
3.クリーン化技術
4.各種モニタリング技術
5.ナノパーティクルの発生メカニズム

担当講師

オフィスシラミズ 室長　白水 好美　氏

Ph.D. thesis (2019 TOHOKU University)
“Study of Contamination Analysis and Control Technology on Semiconductor Manufacturing Processes “
【専門】
半導体洗浄、クリーン化、微量分析技術、歩留改善
【経歴】
1983年 4月-1991年　　 富士通
1991年10月-2013年 9月 日本電気-NECエレクトロニクスｰルネサスエレクトロニクス
2013年11月-2015年12月　Samsung electronics　常務待遇

セミナープログラム（予定）

１．序論－汚染が半導体デバイスに与える影響
1-1　クリーン化の重要性
1-2　金属汚染(Fe, Cu等)およびナノパーティクル
1-3　分子汚染(NH3, アミン, 有機物, 酸性成分)
1-4　各種汚染の分析解析方法及びモニタリング技術

２．洗浄技術
2-1　RCA洗浄
2-2　各種洗浄液と洗浄メカニズム-薬液系洗浄　vs. 純水系洗浄
2-3　洗浄プロセスの動向
2-4　乾燥技術
2-5　最先端の洗浄技術とその問題点

３．その他の汚染制御技術
3-1　工場設計
3-2　ウェーハ保管、移送方法

４．次世代の汚染制御の問題点と今後の課題
4-1　新洗浄乾燥技術(SCCO2洗浄乾燥, PK剤乾燥)
4-2　次世代の洗浄、汚染制御の課題と提言

公開セミナーの次回開催予定

開催日

【LIVE配信】2026/10/26（月） 13:00～16:30

【アーカイブ配信】10/27～11/6（何度でも受講可能）

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

受講料

非会員： 49,500円 （本体価格：45,000円）
会員： 44,000円 （本体価格：40,000円）

非会員の方は1名につき49,500円（税込み）です。
会員の方もしくは新規会員登録していただいた方の受講料は以下の通りです。
★1名で申込の場合、44,000円（税込）に割引になります。
★2名以上同時申込の場合、1名につき半額の24,750円（税込）に割引になります。
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