《基礎から学ぶ！》ALDプロセス（原子層堆積法）による薄膜合成【提携セミナー】

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開催日時	未定
担当講師	廣瀬文彦氏
開催場所	未定
定員	-
受講費	未定

原子を積んで膜をつくる。今、注目の成膜技術

「ALD（Atomic Layer Deposition）」を基礎から学べます！

＜基礎から学ぶ！＞

ALDプロセス（原子層堆積法）による薄膜合成

【提携セミナー】

主催：株式会社情報機構

原子層堆積法は、ナノの酸化物薄膜を複雑形状にもコンフォーマルで形成できることから、LSI製造に利用されています。近年では、LSIのみならず、MEMS、太陽電池、機械部品、PETボトルへのコーティングにも活用が検討されています。原子層堆積法で所望の膜を得るためには、表面反応を中心とした反応機構の理解と、モニタリング、そして適切な材料選択、プロセス調整の知識が欠かせません。講演者はこれまで原子層堆積法のその場観察と低温化研究、そしてその応用研究を進めてまいりましたが、我々の研究成果を題材に、原子層堆積法の特に表面反応を中心とした製膜メカニズムの理解の達成を目標とします。

◆受講後、習得できること

(1) ALDの基礎的理解
(2) 高品質化のためのプロセス設計
(3) プロセス開発のための評価技術
(4) 山形大学開発の室温原子層堆積技術

◆受講対象者

ナノテクノロジー、半導体分野、精密機械分野

担当講師

山形大学大学院理工学研究科　教授博士(工学)　廣瀬文彦先生

セミナープログラム（予定）

１．原子層堆積法の基礎

1.1　原子層堆積法(Atomic Layer Deposition)とは
1.2　原子層堆積の開発の歴史
1.3　熱ALDの事例紹介
1.4　プラズマを用いたALD

２．原子層堆積における表面反応機構

2.1　原料分子の吸着反応
-物理吸着と化学吸着
-ラングミュアー型解離吸着
2.2　プリカーサーの選択
2.3　吸着表面の酸化反応
2.4　酸化種の選択
2.5　酸化物表面と水の反応
2.6　酸化物表面と水素脱離反応
2.7　フォーミングアニールと界面層の問題
2.8　原子層堆積プロセスにおける分析評価手段
-X線光電子分光
-分光エリプソメトリー
2.9　赤外吸収分光を用いた反応素過程評価
2.10　QCMを用いた反応素過程評価

３．山形大学開発室温原子層堆積法の解説

3.1　SiO2の室温形成事例とペットボトル・アクリル樹脂コーティング
3.2　TiO2の室温形成事例とペットボトルコーティング
3.3　Al2O3の室温形成事例とガスバリアコーティング
3.4　HfO2の室温形成事例
3.5　ZrO2の室温形成事例
3.5　酸化ニオブ膜の低温形成事例と対腐食膜への応用
3.6　ナイトライド薄膜の低温形成事例　GaN、AlN

４．最近のトレンド

4.1　Fluid Bed Zone法
4.2　ナノ微粒子室温ALD
-微粒子にALDを行う際の問題点
-微粒子ナノテクノロジーにおけるALDの応用例
4.3　酸化鉄原子層堆積と磁気誘導微粒子への応用
4.4　複合酸化膜への展開

公開セミナーの次回開催予定

開催日

未定

開催場所

未定

受講料

未定

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備考

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