ALD(原子層堆積)/ALE(原子層エッチング)技術の基礎と応用 ( R&D )【提携セミナー】

ALD(原子層堆積)技術の基礎と応用セミナー

ALD(原子層堆積)/ALE(原子層エッチング)技術の基礎と応用 ( R&D )【提携セミナー】

開催日時 【LIVE配信】2024/6/11(火) 10:00~16:00 , 【アーカイブ配信】6/12~6/26 (何度でも受講可能)
担当講師

浦岡 行治 氏

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

定員 30名 ※現在、お申込み可能です。満席になり次第、募集を終了させていただきます。
受講費 非会員: 55,000円 (本体価格:50,000円)
会員: 49,500円 (本体価格:45,000円)
ALD技術の基礎を最先端半導体デバイスの応用事例を用いて、徹底的に解説!

 

ALD(原子層堆積)/

ALE(原子層エッチング)技術の基礎と応用

 

【提携セミナー】

主催:株式会社R&D支援センター

 


 

AIや5GなどIoT技術の進歩を支えている半導体加工技術において、高機能な薄膜を形成することは、非常に重要である。薄膜形成技術については、古くからいろいろな手法が開発され、LSI、ディスプレイ、太陽電池などのエレクトロニクスの分野で広く活用されてきた。本セミナーでは、近年、特に注目を浴びているALD(原子層堆積)/ALE(原子層エッチング)技術について、その基礎と応用について概説する。特に、堆積の原理や材料について詳しく紹介する。また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介する。

 

◆ 得られる知識

  • ALD/ALE技術の基礎
  • 薄膜形成技術の基礎
  • 薄膜加工技術の基礎
  • 薄膜を使った半導体デバイスの動作原理
  • 薄膜デバイスの信頼性評価方法

 

◆ 対象

  • 半導体プロセス・デバイスの初学者
  • ALD技術の導入を検討している技術者
  • 本テーマに興味のある方ならどなたでも受講可能。

 

担当講師

奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究領域 情報機能素子科学研究室 教授 博士(工学)

浦岡 行治 氏

 

セミナープログラム(予定)

1.薄膜形成技術
1.1 薄膜作製/加工の基礎
1.2 薄膜の評価手法
1.2.1 電気的評価
1.2.2 化学的分析手法
1.2.3 光学的評価手法

 

2.ALD/ALE技術の基礎
2.1 ALD技術の原理
2.2 ALD薄膜の特長
2.3 ALD技術の歴史
2.4 ALD装置の仕組み
2.5 ALD技術の材料
2.6 ALE技術の基礎
2.7 ALE技術の課題

 

3.ALD/ALE技術の応用
3.1 パワーデバイスへの応用
3.2 酸化物薄膜トランジスへの応用
3.3 MOS LSIへの応用
3.4 太陽電池への応用

 

4.ALD/ALE技術の将来
4.1 ALD/ALE技術の課題
4.2 ALD/ALE技術の展望

 

公開セミナーの次回開催予定

開催日

【LIVE配信】2024/6/11(火) 10:00~16:00

【アーカイブ配信】6/12~6/26 (何度でも受講可能)

 

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

 

受講料

非会員: 55,000円 (本体価格:50,000円)
会員: 49,500円 (本体価格:45,000円)

 

会員(案内)登録していただいた場合、通常1名様申込で55,000円(税込)から
★1名で申込の場合、49,500円(税込)へ割引になります。
★2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計55,000円(2人目無料)です。
★3名以上同時申込は1名につき27,500円(税込)です。

 

※セミナー主催者の会員登録をご希望の方は、申込みフォームのメッセージ本文欄に「R&D支援センター会員登録希望」と記載してください。ご登録いただくと、今回のお申込みから会員受講料が適用されます。

 

※R&D支援センターの会員登録とは?
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すべて無料で年会費・更新料・登録費は一切かかりません。

 

LIVE配信のご案内

こちらをご参照ください

 

備考

  • 資料付【PDF配布】

 

  • セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。
     無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。

 

お申し込み方法

★下のセミナー参加申込ボタンより、必要事項をご記入の上お申し込みください。

 

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