～「洗浄」と「乾燥」の２つのテーマに対する過去から最新にわたる技術トレンドを紹介～

半導体洗浄技術の基礎知識および技術トレンド

洗浄技術の基礎から先端半導体向け最新技術まで幅広く解説！

【提携セミナー】

主催：株式会社R&D支援センター

◆セミナー趣旨

半導体製造において、品質/歩留まりを向上するために洗浄は欠かすことができない工程です。その洗浄技術の基礎から先端半導体向け最新技術までを本セミナーで解説します。

まずは半導体洗浄の装置種類や薬液種類に関する基礎的な内容を詳しく説明します。これにより、洗浄対象物や洗浄原理が理解できます。その後、次世代半導体の構造や材料の変化に伴う洗浄課題に触れていきます。最先端の半導体の洗浄が従来の半導体洗浄に比べ難易度が高い理由について解説します。また洗浄後は、濡れたウエハ表面をデバイスに悪影響なく乾かす必要があるため、乾燥も重要なプロセスです。

本セミナーでは、「洗浄」と「乾燥」の２つのテーマに対する過去から最新にわたる技術トレンドを紹介します。

◆習得できる知識

• 半導体製造における洗浄の役割を基礎から理解できる
• 半導体洗浄に使用される装置や薬液種類や洗浄原理が理解できる
• 先端半導体に要求される洗浄技術の課題や最新の洗浄技術が理解できる

◆受講対象

• 半導体洗浄関連の業務にたずさわって1~3年の若手技術者や新人～中堅の方
• 半導体の洗浄技術に興味のある方

◆必要な前提知識

特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします。

◆キーワード

半導体,半導体洗浄,乾燥,最新技術,洗浄課題,次世代半導体,セミナー,講演,研修

担当講師

株式会社SCREEN セミコンダクターソリューションズ 洗浄開発統轄部 開発戦略部 開発戦略課
プロセス戦略リーダー 修士（工学）岩畑　翔太氏

【ご経歴】Imec(ベルギーの半導体研究機関) 駐在歴3年
【ご専門】プロセス

セミナープログラム（予定）

1．なぜ半導体洗浄が必要か
1-1.　基本的な半導体製造プロセス
1-2.　半導体製造における洗浄の位置づけ
1-3.　洗浄対象物

2．どのように半導体洗浄を行うか
2-1.　洗浄装置の種類
2-2.　洗浄薬液の種類
2-3.　洗浄原理

3．次世代半導体の洗浄
3-1.　半導体デバイスのトレンド
3-2.　洗浄の技術的課題
3-3.　洗浄装置に求められる機能

4．洗浄の技術トレンド
4-1.　過去の洗浄技術
4-2.　最新の洗浄技術

5．乾燥の技術トレンド
5-1.　過去の乾燥技術
5-2.　最新の乾燥技術

6．まとめ

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2023年12月18日（月） 13:00～16:00

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

受講料

非会員： 49,500円 （本体価格：45,000円）
会員： 46,200円 （本体価格：42,000円）

会員（案内）登録していただいた場合、通常1名様申込で49,500円（税込）から

・1名で申込の場合、46,200円（税込）へ割引になります。
・2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計49,500円（2人目無料）です。

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