リソグラフィの基礎および

レジスト材料とその高性能化

■材料設計、プロセスの最適化、各種トラブル解決策■

【提携セミナー】

主催：サイエンス＆テクノロジー株式会社

★ 基礎知識、設計と具体的方法・レジストの品質管理・レジストを使用する際の留意事項、
トラブル対応能力・リソグラフィープロセスの最適化・素材メーカー、レジストメーカーとしての顧客対応能力へ！

セミナー趣旨

フォトレジストを用いるリソグラフィーは、半導体、ディスプレイ、MEMSなど様々なデバイス製造に必須の技術であり、材料・装置・プロセスの各面から目覚ましい進歩を遂げている。本講座ではレジスト材料を開発、製造、使用する方々、リソグラフィープロセスでトラブルを抱えている方々を対象に、材料設計、プロセスの最適化、各種トラブル解決策を中心に丁寧に解説します。特に研究開発、デバイス製造、市場開拓といった実務上での取り組み方について、実例を交えて解説します。

＜得られる知識・技術＞

• レジストを製造するための基礎知識、設計概念と具体的方法
• レジストの品質管理手法
• レジストを使用する際の留意事項、トラブル対応能力
• リソグラフィープロセスの最適化方法
• 素材メーカー、レジストメーカーとしての顧客対応能力

担当講師

(株)光機能材料研究所 代表取締役　花畑 誠　氏

＜経歴＞
1976年　大阪大学工学部応用化学科卒業、住友化学（株）入社
1992年　工学博士
1997年　(株)KRI入社
2006年　日産化学工業(株)入社
2014年　(株)光機能材料研究所 代表取締役
＜研究内容・専門＞
光機能性材料、レジスト材料
＜受賞＞
1993年　近畿科学協会 技術賞

セミナープログラム（予定）

１．リソグラフィの基礎
1.1 リソグラフィーとは
1.2 露光システムとリソグラフィー装置の変遷
1.3 解像度向上技術

２．レジスト材料とその高性能化
2.1 パターンニング用レジスト材料（総論）
2.2 G線、I 線用レジスト
2.3 KrF用レジスト
2.4 ArFおよびArF液浸用レジスト
2.5 EUV用レジスト
2.6 後工程用のレジスト

３．レジスト製造技術と品質管理
3.1 レジスト製造技術
3.2 レジストの性能安定化技術
3.3 品質管理－その項目と管理方法

４．レジスト材料の評価技術
4.1 基本性能の評価
4.2 実用性能の評価
4.3 シミュレーション技術

５．トラブルシューティングと顧客対応の基本
5.1 トラブルの分類
5.2 トラブルの原因と評価方法
5.3 トラブル発生時の顧客対応の例
5.4 トラブルシューティングの重要課題

６．20nm以下のリソグラフィー技術と材料
6.1 マルチパターンニング技術
6.2 DSA技術とその材料
6.3 ナノインプリント技術
6.4 今後のリソグラフィー技術と材料

□質疑応答□

公開セミナーの次回開催予定

開催日

未定

開催場所

未定

受講料

未定

配布資料

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