半導体リソグラフィの全体像【提携セミナー】

半導体製造装置の解説(リソグラフィ工程)

半導体リソグラフィの全体像【提携セミナー】

開催日時 【LIVE配信】2026/9/3(木) 13:00~16:30 , 【アーカイブ配信】9/4~9/17(何度でも受講可能)
担当講師

鈴木 一明 氏

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

定員 -
受講費 非会員: 49,500円 (本体:45,000円)
会員: 46,200円 (本体:42,000円)

 

半導体リソグラフィの全体像

 

≪EUV露光装置・光源・レジスト材料の原理と展望≫

 

【提携セミナー】

主催:株式会社R&D支援センター

 


 

◆セミナー趣旨

半導体製造プロセス全体におけるリソグラフィの位置づけ、半導体パターン微細化に伴うリソグラフィ用露光方式の進化の流れを、専門外の方々にもわかりやすく説明する。次に、投影露光装置の構成、主要性能と要素性能の関係について述べ、露光装置についての定性的理解を深めてもらう。更に、解像度に対する投影光学系、照明光学系のパラメータと露光波長の寄与ついて数式を用いて詳しく解説し、専門の方には計算の仕方を、専門外の方には計算結果の意味するところを理解してもらう。そして、光源、多層膜ミラー、反射光学系を含むEUV露光装置の特徴について説明する。更に、原版となるマスク上に半導体パターンを描画するために用いられる電子ビーム露光装置について説明する。最後に、露光装置によって形成される光強度分布からレジスト像への転写原理、レジスト材料の原理について述べる。

 

◆習得できる知識

  • 半導体製造プロセスにおけるリソグラフィの位置づけ、半導体露光装置の歴史を理解できる。
  • 半導体露光装置の構成と性能、特に解像度の決定要因と部分的コヒーレンス理論を理解することができる。
  • EUV露光装置の特徴を理解することができる。
  • 電子ビーム露光装置の特徴を理解することができる。
  • レジスト材料の原理を理解することができる。

 

◆受講対象

半導体製造プロセスのうち、リソグラフィ関連全般を原理的な視点から理解したい方(新人、若手技術者、マネジメント)

 

◆必要な前提知識

特に予備知識は必要ありません。基礎から説明いたしますが、四則演算、三角関数、微積分、平均値と標準偏差、等の基礎知識は必要です。

 

担当講師

九州大学 プラズマナノ界面工学センター 特任教授 博士(工学)
東京科学大学 総合研究院 ゼロカーボンエネルギー研究所 研究員
鈴木 一明 氏

 

【専門】
精密工学、微細加工技術、非破壊検査技術

【略歴】
学生時代(1984年3月まで):プラズマ物理(学部)、X線天文学(大学院)を専攻
民間企業時代(1984年4月~2019年2月):(株)ニコン
KrFステッパ、KrFスキャン、電子線、EUV等の新コンセプトの半導体投影露光装置や、産業用X線CT装置の開発をリーディング。
2011年~2014年 Nikon Metrology のChief Strategy Officerとして英国赴任。
アカデミア時代(2019年3月~現在):
2019年3月~2025年3月 東京工業大学(現・東京科学大学) 物質・情報卓越教育院
2025年4月~ 東京科学大学 総合研究院 ゼロカーボンエネルギー研究所 研究員
2021年~2023年 成城大学 社会イノベーション学部 非常勤講師
2023年1月~ 九州大学 プラズマナノ界面工学センター アドバイザー(兼任)
2025年9月~ 九州大学 プラズマナノ界面工学センター 特任教授(主務)
“Microlithography -Science and Technology -” (CRC Press)(第2版2007、第3版2020)の編者。
2026年より、応用物理学会次世代リソグラフィ技術研究会主催 NGL2026ワークショップの企画運営委員。

 

セミナープログラム(予定)

1. 半導体高集積化のトレンド

 

2. 半導体製造プロセス全体におけるリソグラフィの位置づけ

 

3. 露光装置概説
3-1. 半導体露光装置の露光方式の進化
3-2. 半導体露光装置の性能と要素機能、露光技術の発展
(部分的コヒーレンス理論、解像度向上策、重ね合わせ精度、スループットを含む)

 

4. EUV露光装置
4-1. EUV露光装置の特徴
(光源、多層膜反射光学系、真空ステージ、EUVマスクを含む)
4-2. EUV露光装置の高NA化と将来展望
4-3. Cost of Ownership

 

5. 電子ビーム露光装置

 

6. レジスト材料の原理

 

公開セミナーの次回開催予定

開催日

【LIVE配信】2026/9/3(木) 13:00~16:30
【アーカイブ配信】9/4~9/17(何度でも受講可能)

 

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

 

受講料

非会員: 49,500円 (本体価格:45,000円)
会員: 46,200円 (本体価格:42,000円)

 

非会員の方は1名につき49,500円(税込み)です。
会員の方もしくは新規会員登録していただいた方の受講料は以下の通りです。
★1名で申込の場合、46,200円(税込)に割引になります。
★2名以上同時申込の場合、1名につき半額の24,750円(税込)に割引になります。
※参加者全員の会員登録が必要です。登録料や年会費などは一切かかりません。

 

※LIVE配信とアーカイブ配信(見逃し配信)両方の視聴を希望される場合
お一人様につき、追加料金11,000円(税込)にてお申込みいただけます。
メッセージ欄に「LIVEとアーカイブ両方視聴」と明記してください。

 

※セミナー主催者の会員登録をご希望の方は、申込みフォームのメッセージ本文欄に「R&D支援センター会員登録希望」と記載してください。ご登録いただくと、今回のお申込みから会員受講料が適用されます。

 

※R&D支援センターの会員登録とは?
ご登録いただきますと、セミナーや書籍などの商品をご案内させていただきます。
すべて無料で年会費・更新料・登録費は一切かかりません。

 

LIVE配信のご案内

こちらをご参照ください

 

備考

  • 資料付(PDFデータでの配布)
    ※紙媒体での配布はございません。
    ※資料の無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。

 

お申し込み方法

★下のセミナー参加申込ボタンより、必要事項をご記入の上お申し込みください。

★【LIVE配信】、【アーカイブ配信】、【LIVEとアーカイブ両方視聴】のいずれかから、ご希望される受講形態をメッセージ欄に明記してください。

 

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