レジスト材料開発における分子設計・合成・評価の実践技術【提携セミナー】

ビトリマー 基礎,分子設計

レジスト材料開発における分子設計・合成・評価の実践技術【提携セミナー】

開催日時 【LIVE配信】2026/10/13(火) 10:30~16:30
担当講師

工藤 宏人 氏

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

定員 30名 ※現在、お申込み可能です。満席になり次第、募集を終了させていただきます。
受講費 非会員: 55,000円 (本体価格:50,000円)
会員: 49,500円 (本体価格:45,000円)

半導体微細化を支えるフォトレジスト材料の分子設計を基礎から解説 !

感度・解像度・LERのトレードオフを分子設計の観点から理解!

 

レジスト材料開発における

分子設計・合成・評価の実践技術

 

セミナー修了後、受講者のみご覧いただける1週間限定のアーカイブ配信を予定しております。

 

【提携セミナー】

主催:株式会社R&D支援センター

 


 

◆セミナー趣旨

フォトレジスト材料は、半導体の微細加工技術を支える重要な材料であり、G線、i線、KrFおよびArFエキシマーレーザー、さらには極端紫外線(EUV)へと進展してきた露光技術に対応して、その分子構造や設計思想を大きく変化させながら発展してきた。特に2017年以降、EUV露光技術の実用化が進み、さらなる高感度化、高解像度化および低欠陥化を実現する新しいレジスト材料の開発が強く求められている。

 

本講座では、フォトレジスト材料の基礎から最新技術までを体系的に解説する。まず、従来のレジスト材料の種類や構造、動作原理について説明し、レジスト用ポリマーや関連材料の分子設計および合成手法を紹介する。さらに、化学増幅型レジストや分子レジストの設計思想と合成技術について解説するとともに、EUV用レジスト材料の研究開発動向を概説する。加えて、感度・解像度・ラインエッジラフネス(LER)などの性能評価と課題について説明し、次世代レジスト材料に向けた分子設計の方向性について考察する。

 

◆習得できる知識

  • レジストシステムの今後の動向が理解できる
  • レジスト材料の問題点について把握する
  • レジスト材料の分子設計方法について理解する
  • レジスト材料の開発の方向性について理解する

 

◆受講対象

  • フォトレジスト材料の開発研究の予定者および開発中の研究者
  • 新しい、レジスト材料の開発を考えている方

 

担当講師

関西大学 化学生命工学部 化学・物質工学科 教授 工藤 宏人 氏

 

【専門】
高分子合成、有機合成、様々な形状の高分子を合成し、機能性材料へ応用する
研究を主とする。他に、極端紫外線レジスト材料への合成研究も主としている。
【講師経歴】
2000年3月 東京工業大学大学院 総合理工学研究科 物質電子化学専攻
博士後期課程 修了 博士(工学)
2000年4月 山形大学大学院 ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー
講師(中核的研究機関研究員)
2000年4月 神奈川大学 助手(工学部 応用化学科)
2007年4月 神奈川大学 助教(工学部 物質生命化学科)
2009年4月 神奈川大学 准教授(工学部 物質生命化学科)
2012年4月 関西大学 准教授 (化学生命工学部 化学・物質工学科)
2016年4月 関西大学 教授 (化学生命工学部 化学・物質工学科)  現在に至る。

 

セミナープログラム(予定)

1.フォトレジスト材料の基礎
1.1 半導体リソグラフィ技術の進展
1.2 ポジ型レジストとネガ型レジスト
1.3 レジスト材料に求められる性能
1.4 G線、i線、KrF、ArFおよびEUV露光技術

 

2.フォトレジスト材料の分子設計
2.1 ノボラック系レジスト
2.2 化学増幅型レジストの原理
2.3 保護基・酸発生剤(PAG)の設計
2.4 高分子レジストと低分子レジスト
2.5 分子レジストの設計

 

3.レジスト材料の合成技術
3.1 レジスト用ポリマーの合成法
3.2 保護基導入反応
3.3 酸発生剤および添加剤の設計
3.4 分子レジストの合成例
3.5 EUV対応材料の合成例

 

4.レジスト材料の評価技術
4.1 分子量・組成・熱特性評価
4.2 溶解特性評価
4.3 パターン形成評価
4.4 感度・解像度・LER評価
4.5 レジスト性能の解析方法

 

5.EUVレジスト材料の開発
5.1 EUV露光の特徴
5.2 化学増幅型EUVレジスト
5.3 分子レジスト
5.4 メタルレジスト
5.5 確率論的欠陥(Stochastic Defect)の課題

 

6.最新のレジスト材料開発動向
6.1 高感度化への分子設計
6.2 高解像度化への分子設計
6.3 LER低減技術
6.4 次世代EUVレジスト材料
6.5 今後の研究開発の方向性

 

公開セミナーの次回開催予定

開催日

【LIVE配信】2026/10/13(火) 10:30~16:30

 

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

 

受講料

非会員: 55,000円 (本体価格:50,000円)
会員: 49,500円 (本体価格:45,000円)

 

非会員の方は1名につき55,000円(税込み)です。
会員の方もしくは新規会員登録していただいた方の受講料は以下の通りです。
★1名で申込の場合、49,500円(税込)に割引になります。
★2名以上同時申込の場合、1名につき半額の27,500円(税込)に割引になります。
※参加者全員の会員登録が必要です。登録料や年会費などは一切かかりません。

 

※セミナー主催者の会員登録をご希望の方は、申込みフォームのメッセージ本文欄に「R&D支援センター会員登録希望」と記載してください。ご登録いただくと、今回のお申込みから会員受講料が適用されます。

 

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すべて無料で年会費・更新料・登録費は一切かかりません。

 

LIVE配信のご案内

こちらをご参照ください

 

備考

  • 資料付き【PDF配布します】

 

  • セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。
    無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。

 

お申し込み方法

★下のセミナー参加申込ボタンより、必要事項をご記入の上お申し込みください。

★【LIVE配信】、【アーカイブ配信】のどちらかご希望される受講形態をメッセージ欄に明記してください。

 

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